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一种面盆制造技术

技术编号:1417373 阅读:129 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术涉及家庭用品,尤其是一种带有臭氧消毒杀菌装置的美容面盆。该盆包括盆底及一圈由盆底向上延伸的盆壁,其特征是在盆上有一个安装臭氧发生装置的部分,在盆上对应于安装该部分的位置有允许由臭氧发生装置所发出的臭氧自该部分扩散至盆内的孔。利用本装置后可保持面盆始终处于无菌状态,从而杜绝了感染病菌的可能性。(*该技术在2010年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
一种面盆本技术涉及家庭用品,尤其是指一种带有臭氧消毒杀菌装置的美容面盆。面盆是人们日常所用的物品,每天洗脸时都必须用到它。在现有技术中,脸盆的主要功能是容纳一定量的水,供人们洗刷之用。在洗刷的过程中,人体皮肤上的油脂和污垢甚至细菌会脱落,并附着于其内表面,及所用的毛巾等物品上,如不及时清除,会成为一个新的污染源,反过来又影响人体皮肤的卫生。因此需不断地清除,现有的清除方法是利用清洁剂擦洗面盆或搓洗毛巾,比较麻烦。本技术的目的是设计一种具有自洁、杀菌、消毒功能的面盆。其主要技术方案包括盆底及一圈由盆底向上延伸的盆壁,其特征是在盆上有一个安装臭氧发生装置的部分,在盆上对应于安装该部分的位置有允许由臭氧发生装置所发出的臭氧自该部分扩散至盆内的孔。其另一特征是在臭氧发生装置中,降压变压器B1的初级连接外接电源,其次级的一端串联连接开关K后与集成电路IC的4脚连接,另一端依次与三极管BG的集电极、二极管D的正极连接后,与集成电路IC的1脚连接,三极管BG的发射极与集成电路IC的3脚连接,二极管D的另一极与集成电路IC的2脚连接,升压变压器B2的初级与集成电路IC的5、6脚连接,其次级与臭氧发生管T连接。本技术还有一特征是安装臭氧发生装置的部分位于盆壁的上部,在盆壁的该部位设置允许臭氧向盆内扩散的孔,及用于塞住该孔的塞子。臭氧O3中的原子态(O)极不稳定,是强氧化性物质,能迅速杀灭细菌和病毒,并可破坏农药等有毒物质的分子结构,使之成为无害物质。本技术在盆上设置了一个可以产生臭氧的装置后,使本装置具有了自洁、消毒与杀菌的功能,与原来的面盆相比,增加了功能,人们在洗脸的同时,可获得臭氧对所用的毛巾等物品的消毒、杀菌效果,使人体皮肤洁净,杜绝细菌污染,减少皮肤病的发生。-->图1为本技术的结构图。图2为臭氧发生装置电路图。如图所示:在盆的盆底2上有一圈向上延伸并向外扩张的盆壁1,在盆壁1的上部连接一安装臭氧发生装置的部分3,并在该处的盆壁上设置一孔,以便让臭氧发生装置发出的臭氧扩散至盆内。在臭氧发生装置中,降压变压器B1的初级连接外接电源,其次级的一端串联连接开关K后与集成电路IC的4脚连接,另一端依次与三极管BG的集电极、发光二极管D的正极连接后,与集成电路IC的1脚连接,三极管BG的发射极与集成电路IC的3脚连接,起指示作用的发光二极管D的另一极与集成电路IC的2脚连接,升压变压器B2的初级与集成电路IC的5、6脚连接,其次级与臭氧发生管T连接。其中IC的型号为TWH9221,臭氧发生管T的型号为OH63815。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种面盆,包括盆底(2)及一圈由盆底(2)向上延伸的盆壁(1),其特征是在盆上有一个安装臭氧发生装置的部分(3),在盆上对应于安装该部分(3)的位置有允许由臭氧发生装置所发出的臭氧自该部分(3)扩散至盆内的孔。

【技术特征摘要】
1、一种面盆,包括盆底(2)及一圈由盆底(2)向上延伸的盆壁(1),其特征是在盆上有一个安装臭氧发生装置的部分(3),在盆上对应于安装该部分(3)的位置有允许由臭氧发生装置所发出的臭氧自该部分(3)扩散至盆内的孔。2、根据权利要求1所述的面盆,其特征是在臭氧发生装置中,降压变压器B1的初级连接外接电源,其次级的一端串联连接开关K后与集成电路IC的4脚连接,另一端依次与三极管BG的集电极、二极管D的正...

【专利技术属性】
技术研发人员:何志坚
申请(专利权)人:何志坚
类型:实用新型
国别省市:32[中国|江苏]

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