烘烤设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种烘烤设备，包括工艺腔室、进气管和排气管；进气管与排气管在所述工艺腔室异面设置；进气管设置有出气口，用于通过出气口将加热后的工艺气体输入至工艺腔室内，由工艺气体对置于工艺腔室内的器件进行加热烘烤；排气管设置在工艺腔室的内部，开设有进气口和排气口，用于通过进气口将工艺气体引入排气管内，并通过排气口由工艺腔室排出。由此，当采用上述烘烤设备对器件进行加热烘烤时，能够通过位于工艺腔室内部的排气管内的工艺气体的热量对器件进行预加热，从而缩短了工艺腔室内的预设烘烤温度的上升时间，降低了能源消耗。有效解决了传统的烘烤设备容易产生能源浪费的问题。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体工艺设备
，特别是涉及一种烘烤设备。
技术介绍
随着半导体技术的发展，平板显示行业中，低温多晶硅工艺相较于非晶硅工艺，制程复杂，工序繁多，对烘烤设备提出了越来越多的要求。目前，传统的烘烤设备通常是采用在烘烤腔室的外壁两侧设置热排管，从而使得烘烤腔室内的废气由热排管通过冷却装置后排出腔室。但是，采用传统的烘烤设备使得废气不能得到有效利用，从而很容易造成能源的浪费。
技术实现思路
基于此，有必要针对传统的烘烤设备容易产生能源浪费的问题，提供一种烘烤设备。为实现本技术目的提供的一种烘烤设备，包括工艺腔室、进气管和排气管；所述进气管与所述排气管在所述工艺腔室异面设置；所述进气管设置有出气口；且所述进气管用于通过所述出气口将加热后的工艺气体输入至所述工艺腔室内，由所述工艺气体对置于所述工艺腔室内的器件进行加热烘烤；所述排气管设置在所述工艺腔室的内部，且开设有进气口和排气口；所述排气管用于通过所述进气口将所述工艺气体引入所述排气管内，并将所述工艺气体通过所述排气口由所述工艺腔室排出。在其中一个实施例中，所述进气管设置在所述工艺腔室的内部；且所述进气管的出气口与所述排气管的进气口位置相对设置。在其中一个实施例中，所述进气管位于所述工艺腔室的顶部；所述排气管位于所述工艺腔室的底部。在其中一个实施例中，所述排气管呈螺旋状结构或折线状结构铺设在所述工艺腔室的侧壁上。在其中一个实施例中，所述进气口的个数为多个；所述排气管的个数为多个，且多个所述排气管依次连通。在其中一个实施例中，多个所述进气口均匀分散开设在所述排气管的侧壁上。在其中一个实施例中，所述排气管为金属管。在其中一个实施例中，还包括连通管路；且所述工艺腔室的个数为多个；所述连通管路连接在每个所述工艺腔室内的所述排气管的排气口与排气设备的抽气口之间；且每个所述工艺腔室内的所述排气管的排气口均与连通管路相连。在其中一个实施例中，所述工艺腔室的个数为多个；多个所述工艺腔室串联设置，且每两个所述工艺腔室之间均设置有隔离板；多个所述工艺腔室内的所述排气管串联连接。在其中一个实施例中，多个所述工艺腔室内的所述排气管一体成型。上述烘烤设备，通过设置进气管，由进气管通过其所开设的出气口将加热后的工艺气体输入至工艺腔室内，使得加热后的工艺气体对置于工艺腔室内的器件进行加热烘烤。同时，还通过将排气管设置在工艺腔室的内部，并在排气管上开设相应的进气口和排气口，使得排气管通过进气口将工艺气体引入至排气管内，并通过排气口由工艺腔室排出。由此，当采用上述烘烤设备对器件进行加热烘烤时，能够通过位于工艺腔室内部的排气管内的工艺气体的热量对器件进行预加热，从而缩小向工艺腔室内放入待加热器件时所导致的温度变化幅度，这也就缩短了工艺腔室内的预设烘烤温度的上升时间，最终降低了能源消耗。有效解决了传统的烘烤设备容易产生能源浪费的问题。附图说明图1为本技术的烘烤设备的实施例一的剖面结构示意图；图2为本技术的烘烤设备的实施例二的俯视图；图3为本技术的烘烤设备的实施例三的俯视图；图4为本技术的烘烤设备的实施例四的剖面结构示意图；图5为本技术的烘烤设备的实施例五的剖面结构示意图；图6为本技术的烘烤设备的实施例六的剖面结构示意图。具体实施方式为使本技术技术方案更加清楚，以下结合附图及具体实施例对本技术作进一步详细说明。首先，需要说明的是，本技术的烘烤设备，只要用于在平板显示行业中，对所制备的平板显示器件进行烘烤所用。即，本技术的烘烤设备，是用于烘烤所制备的各种平板显示器件的。参见图1，作为本技术的烘烤设备100的一具体实施例，其包括工艺腔室110、进气管120和排气管130。其中，工艺腔室110中可以设置有基台111，该基台111用于放置待加热器件200，如：平板显示器件，也可为晶片等。进气管120与排气管130在所述工艺腔室110异面设置。进气管120具有输气口和出气口121。其中，输气口与工艺气体的输气管道140相连通。此处，应当说明的是，输气管道140上依次设置有开关阀141、流量计142、过滤器143和预加热装置144，分别用于控制输气管道140的导通和关闭，进入输气管道140内的工艺气体的流量，并对进入输气管道140内的工艺气体进行过滤和加热。从而使得最终经过过滤和加热后的工艺气体通过进气管120的输气口进入进气管120中，并通过进气管120的出气口121输入至工艺腔室110的内部，进而使得加热后的工艺气体对置于工艺腔室110内的待加热器件200进行加热烘烤。排气管130则设置在工艺腔室110的内部，并且开设有进气口131和排气口132。其中，排气管130用于通过进气口131对待加热器件200进行加热烘烤后的工艺气体引入排气管130内，并通过排气口132由工艺腔室110排出。需要说明的是，由于烘烤设备100的工艺腔室110在烘烤过程中时刻保持密封状态，且工艺腔室110内的温度时刻保持预设温度。当采用烘烤设备100对待加热器件200进行加热烘烤时，需要先将工艺腔室110打开，并将待加热
器件200放入工艺腔室110内。在打开工艺腔室110时，由于工艺腔室110内外的温差会导致工艺腔室110内的温度有所变化。而本技术的烘烤设备100，通过在工艺腔内设置排气管130，由于排气管130内的工艺气体的热量与工艺腔室110未打开时的温度几乎相等。因此，在打开工艺腔室110放入待加热器件200后，此时工艺腔室110内的温度由于受到排气管130内工艺气体的热量的影响，其变化幅度相较于传统的烘烤设备100要小很多。由此，在此基础上进行待加热器件200的加热烘烤时，其实现了对排气管130内的工艺气体的热量的有效利用，从而明显缩短了关闭后的工艺腔室110内的温度上升至预设温度所需的时间，这也就有效降低了烘烤设备100的能源消耗，最终有效解决了传统的烘烤设备100所导致的能源浪费的问题。进一步的，参见图1，作为本技术的烘烤设备100的一具体实施例，为了实现工艺气体的有效利用，优选的，进气管120同样设置在工艺腔室110的内部。并且，进气管120的出气口121与排气管130的进气口131在工艺腔室110内的位置相对设置。由此，可以使得由进气管120的出气口121输入至工艺腔室110内的工艺气体能够有效的对待加热器件200进行加热烘烤，并使得加热烘烤待加热器件200后的工艺气体能够有效引入至排气管130中，由排气管130排出工艺腔室110，从而保证了工艺腔室110内的工艺气体的有效流通。其中，为了更进一步的保证工艺气体对待加热器件200的有效加热烘烤，以及排气管130对使用过后的工艺气体的有效排出，参见图1，进气管120优选设置在工艺腔室110的顶部，排气管130则优选设置在工艺腔室110的底部。其通过将进气管120设置在工艺腔室110的顶部，有效缩短了进气管120与待加热器件200之间的垂直距离，从而使得由进气管120的出气口121导出的加热后的工艺气体能够垂直流入到待加热器件200的表面，对待加热器件200进行更加有效的加热烘烤，以提高待加热器件200的烘烤效果。同时，通过将排气管130设置在工艺腔室110的底部，进一步的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种烘烤设备，其特征在于，包括工艺腔室、进气管和排气管；所述进气管与所述排气管在所述工艺腔室异面设置；所述进气管设置有出气口；且所述进气管用于通过所述出气口将加热后的工艺气体输入至所述工艺腔室内，由所述工艺气体对置于所述工艺腔室内的器件进行加热烘烤；所述排气管设置在所述工艺腔室的内部，且开设有进气口和排气口；所述排气管用于通过所述进气口将所述工艺气体引入所述排气管内，并将所述工艺气体通过所述排气口由所述工艺腔室排出。

【技术特征摘要】
1.一种烘烤设备，其特征在于，包括工艺腔室、进气管和排气管；所述进气管与所述排气管在所述工艺腔室异面设置；所述进气管设置有出气口；且所述进气管用于通过所述出气口将加热后的工艺气体输入至所述工艺腔室内，由所述工艺气体对置于所述工艺腔室内的器件进行加热烘烤；所述排气管设置在所述工艺腔室的内部，且开设有进气口和排气口；所述排气管用于通过所述进气口将所述工艺气体引入所述排气管内，并将所述工艺气体通过所述排气口由所述工艺腔室排出。2.根据权利要求1所述的烘烤设备，其特征在于，所述进气管设置在所述工艺腔室的内部；且所述进气管的出气口与所述排气管的进气口位置相对设置。3.根据权利要求2所述的烘烤设备，其特征在于，所述进气管位于所述工艺腔室的顶部；所述排气管位于所述工艺腔室的底部。4.根据权利要求1所述的烘烤设备，其特征在于，所述排气管呈螺旋状结构或折线状结构铺设在所述工艺腔室的侧壁上。5.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙健，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32