一种浅纹菲涅耳透镜的制版设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种浅纹菲涅耳透镜的制版设备，包括控制电脑、固定平台、X‑Y移动平台、高能量密度雕刻机、旋转平台、X‑Y移动平台控制器、旋转平台控制器和波形产生电路；高能量密度雕刻机活动设置在X‑Y移动平台的X轴上，X轴及X轴上的高能量密度雕刻机架设在X‑Y移动平台的Y轴上，X‑Y移动平台架设在固定平台上，旋转平台设置在固定平台上，X‑Y移动平台连接X‑Y移动平台控制器的输出端，高能量密度发生器控制端连接波形产生电路输出端，旋转平台电连接旋转平台控制器输出端，X‑Y移动平台控制器输入端、旋转平台控制器输入端、波形产生电路输入端分别与控制电脑连接。本实用新型专利技术的制版设备可以制作超薄超小的菲涅尔透镜。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及制版设备
，具体涉及一种浅纹菲涅耳透镜的制版设备。
技术介绍
现行的菲涅尔透镜都是透过机械切割或者是浇铸来制作，透镜的外缘最深同心圆的切割纹路最浅都在5微米以上，且必须是一个一个制作，无法低成本大量复制，且透镜的整体厚度无法降低，透镜的最小直径也无法降低，本技术是以高解析度的连续高能光束或电子束来切割纹路，可以透过大幅度提高纹路密度以及任意改变每圈纹路的反射角度，使最深纹路降低到3微米以内，因此得以利用模压技术做大量而低成本的复制，也可以制作微型透镜以及微透镜阵列用于防伪以及光学以及电子产业。
技术实现思路
基于现有技术的不足，本技术提供了一种浅纹菲涅耳透镜的制版设备，该制版设备可以制作超薄超小的菲涅尔透镜。为实现上述目的，本技术的技术方案为：一种浅纹菲涅耳透镜的制版设备，包括控制电脑、固定平台、X-Y移动平台、高能量密度雕刻机、旋转平台、X-Y移动平台控制器、旋转平台控制器和波形产生电路；所述高能量密度雕刻机活动设置在 X-Y移动平台的X轴上，所述X轴及X轴上的高能量密度雕刻机架设在所述X-Y移动平台的Y轴上，所述X-Y移动平台架设在所述固定平台上，所述旋转平台设置在所述固定平台上，所述X-Y移动平台连接X-Y移动平台控制器的输出端，所述高能量密度雕刻机含有高能量密度发生器，所述高能量密度发生器控制端连接波形产生电路输出端，所述旋转平台电连接所述旋转平台控制器输出端，所述X-Y移动平台控制器输入端、所述旋转平台控制器输入端、所述波形产生电路输入端分别与所述控制电脑连接。所述的X-Y移动平台包括固定平台、支撑于固定平台上的支撑架，所述固定平台两侧设有一对相互平行的滑槽；所述支撑架包括两个相互平行的垂直于固定平台台面的竖板和连接两个竖板的平行于所述固定平台的横板，所述横板方向为所述X-Y移动平台的X轴方向，所述竖板为所述X-Y移动平台的Y轴方向，所述两个竖板配合所述滑槽移动，所述高能量密度雕刻机活动的设置在所述横板上，所述支撑架与所述X-Y坐标档控制器连接。所述高能量密度雕刻机为光刻机。所述的光刻机包括光刻机基座、安装在光刻机基座下方的光刻头及从光刻头发出的激光，所述光刻头发出的激光的方向垂直于所述固定平台的台面，所述光刻机基座与X-Y坐标档控制器连接。所述的光刻机含有红色激光自动对焦系统。本技术的有益效果为：使用本技术的制版设备可以制作超薄超小的菲涅尔透镜，可以用于数码相机传感器的微透镜阵列，微 透镜3D图文防伪，包装印刷产业的直观防伪等。附图说明图1为本技术具体实施例的浅纹菲涅耳透镜的制版设备结构示意图。具体实施方式下面结合附图及具体实施例对本技术作进一步说明，一种浅纹菲涅耳透镜的制版设备，包括控制电脑、固定平台、X-Y移动平台、高能量密度雕刻机、旋转平台、X-Y移动平台控制器、旋转平台控制器和波形产生电路；高能量密度雕刻机活动设置在X-Y移动平台的X轴上，X轴及X轴上的高能量密度雕刻机架设在X-Y移动平台的Y轴上，X-Y移动平台架设在固定平台上，旋转平台设置在固定平台上，X-Y移动平台连接X-Y移动平台控制器的输出端，高能量密度雕刻机含有高能量密度发生器，高能量密度发生器控制端连接波形产生电路输出端，旋转平台电连接旋转平台控制器输出端，X-Y移动平台控制器输入端、旋转平台控制器输入端、波形产生电路输入端分别与控制电脑连接。如图1所示，X-Y移动平台包括固定平台1、支撑于固定平台1上的支撑架2，固定平台1两侧设有一对相互平行的滑槽12；支撑架12包括两个相互平行的垂直于固定平台1台面的竖板21和连接两个竖板21的平行于固定平台的横板22，横板22方向为X-Y移动平台的X轴方向，竖板21为X-Y移动平台的Y轴方向，两个竖板21配合滑槽12移动，高能量密度雕刻机3活动的设置在横板上，支撑架 2与X-Y坐标档控制器连接，旋转平台4设置在固定平台1上。高能量密度雕刻机3为光刻机。光刻机包括光刻机基座31、安装在光刻机基座31下方沿与固定平台1台面平行的平面旋转的光刻头32及从光刻头发出的激光，光刻头32发出的激光的方向垂直于固定平台1的台面，光刻机基座31与X-Y坐标档控制器连接，光刻头通过光刻机基座与角度档控制器连接，深度档控制器控制从光刻头发出的激光的功率。需要说明的是，以上所述只是本技术的较佳实施例而已，本技术并不局限于上述实施方式，只要其以相同的手段达到本技术的技术效果，都应属于本技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种浅纹菲涅耳透镜的制版设备，其特征在于：包括控制电脑、固定平台、X‑Y移动平台、高能量密度雕刻机、旋转平台、X‑Y移动平台控制器、旋转平台控制器和波形产生电路；所述高能量密度雕刻机活动设置在X‑Y移动平台的X轴上，所述X轴及X轴上的高能量密度雕刻机架设在所述X‑Y移动平台的Y轴上，所述X‑Y移动平台架设在所述固定平台上，所述旋转平台设置在所述固定平台上，所述X‑Y移动平台连接X‑Y移动平台控制器的输出端，所述高能量密度雕刻机含有高能量密度发生器，所述高能量密度发生器控制端连接波形产生电路输出端，所述旋转平台电连接所述旋转平台控制器输出端，所述X‑Y移动平台控制器输入端、所述旋转平台控制器输入端、所述波形产生电路输入端分别与所述控制电脑连接。

【技术特征摘要】
1.一种浅纹菲涅耳透镜的制版设备，其特征在于：包括控制电脑、固定平台、X-Y移动平台、高能量密度雕刻机、旋转平台、X-Y移动平台控制器、旋转平台控制器和波形产生电路；所述高能量密度雕刻机活动设置在X-Y移动平台的X轴上，所述X轴及X轴上的高能量密度雕刻机架设在所述X-Y移动平台的Y轴上，所述X-Y移动平台架设在所述固定平台上，所述旋转平台设置在所述固定平台上，所述X-Y移动平台连接X-Y移动平台控制器的输出端，所述高能量密度雕刻机含有高能量密度发生器，所述高能量密度发生器控制端连接波形产生电路输出端，所述旋转平台电连接所述旋转平台控制器输出端，所述X-Y移动平台控制器输入端、所述旋转平台控制器输入端、所述波形产生电路输入端分别与所述控制电脑连接。2.如权利要求1所述的浅纹菲涅耳透镜的制版设备，其特征在于：所述的X-Y移动平台包括放置基材的固定平台、支撑于固定...

【专利技术属性】
技术研发人员：江明聪，
申请(专利权)人：珠海市瑞明科技有限公司，江明聪，
类型：新型
国别省市：广东;44