【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及新颖的杀微生物、特别是杀真菌的吡啶脒化合物。本专利技术进一步涉及在这些化合物的制备中使用的中间体,涉及包括这些化合物的组合物并且涉及它们在农业或园艺中用于控制或预防植物被致植物病微生物(优选真菌)侵染的用途。已经在文献中提出某些吡啶脒衍生物作为杀虫剂中的杀微生物活性成分。例如,WO 00/46184和WO 03/093224披露了作为杀真菌剂有用的吡啶脒。然而,这些已知的化合物的生物学特性对于控制或预防植物被致植物病的微生物的侵染不是完全令人满意的,这是为何对提供具有杀微生物特性的其他化合物存在需要的原因。本专利技术涉及具有式(I)的化合物其中R1表示氢、卤素、氰基、OH、NH2、C1-C4烷基、C3-C6环烷基、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2、CO(C1-C4烷基)、CO2(C1-C4烷基)、CO2H、CONH(C1-C4烷基)、CON(C1-C4烷基)2、SO2NH(C1-C4烷基)、SO2N(C1-C4烷基)2、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷基-C1-C4烷氧基或C2-C4炔基;R2表示C3-C6烷基、C3-C6烯基、C3-C6炔基、R7或-C1-C2烷基-R7,它们各自可以任选地被一个或多个独立地选自下组的基团取代,该组由以下各项组成:卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基和C1-C4卤代烷氧基;R3和R4彼此独立地表示氢、C1-C4烷基或C3-C6环烷基;或者R3和R4连同它们附接的氮原子一起形成3-6元饱和环基;R5表示H、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基;R6表示C1- ...
【技术保护点】
一种具有式(I)的化合物其中R1表示氢、卤素、氰基、OH、NH2、C1‑C4烷基、C3‑C6环烷基、NH(C1‑C4烷基)、N(C1‑C4烷基)2、CO(C1‑C4烷基)、CO2(C1‑C4烷基)、CO2H、CONH(C1‑C4烷基)、CON(C1‑C4烷基)2、SO2NH(C1‑C4烷基)、SO2N(C1‑C4烷基)2、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C4烷基‑C1‑C4烷氧基或C2‑C4炔基;R2表示C3‑C6烷基、C3‑C6烯基、C3‑C6炔基、R7或‑C1‑C2烷基‑R7,它们各自可以任选地被一个或多个独立地选自下组的基团取代,该组由以下各项组成:卤素、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基和C1‑C4卤代烷氧基;R3和R4彼此独立地表示氢、C1‑C4烷基或C3‑C6环烷基;或者R3和R4连同它们附接的氮原子一起形成3‑6元饱和环基;R5表示H、C1‑C4烷基或C1‑C4卤代烷基;R6表示C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷基或C1‑C4卤代烷氧基;R7表示三‑至十元单环或稠合双环系统,其可以是芳香族的、部分饱和的或完全饱和的并且可以 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.04.11 EP 14164464.11.一种具有式(I)的化合物其中R1表示氢、卤素、氰基、OH、NH2、C1-C4烷基、C3-C6环烷基、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2、CO(C1-C4烷基)、CO2(C1-C4烷基)、CO2H、CONH(C1-C4烷基)、CON(C1-C4烷基)2、SO2NH(C1-C4烷基)、SO2N(C1-C4烷基)2、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷基-C1-C4烷氧基或C2-C4炔基;R2表示C3-C6烷基、C3-C6烯基、C3-C6炔基、R7或-C1-C2烷基-R7,它们各自可以任选地被一个或多个独立地选自下组的基团取代,该组由以下各项组成:卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基和C1-C4卤代烷氧基;R3和R4彼此独立地表示氢、C1-C4烷基或C3-C6环烷基;或者R3和R4连同它们附接的氮原子一起形成3-6元饱和环基;R5表示H、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基;R6表示C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷基或C1-C4卤代烷氧基;R7表示三-至十元单环或稠合双环系统,其可以是芳香族的、部分饱和的或完全饱和的并且可以含有1至4个选自下组的杂原子,该组由以下各项组成:氮、氧和硫,有可能对于该三-至十元环系统自身可任选地被一个或多个独立地选自下组的基团取代,该组由以下各项组成:卤素、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基;以及这些化合物的互变异构体/同分异构体/对映异构体/盐以及N-氧化物。2.根据权利要求1所述的具有式(I)的化合物,其中R1表示氢、卤素、氰基、OH、NH2、C1-C4烷基、C3-C6环烷基、NH(C1-C4烷基)、N(C1-C4烷基)2、CO(C1-C4烷基)、CO2(C1-C4烷基)、CO2H、CONH(C1-C4烷基)、CON(C1-C4烷基)2、SO2NH(C1-C4烷基)、SO2N(C1-C4烷基)2、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、或C2-C4炔基;R2表示C3-C6烷基、C3-C6烯基、C3-C6炔基、C3-C6环烷基、C3-C5环烯基、-C1-C2烷基-C3-C6环烷基、-C1-C2烷基-C3-C6环烯基,它们各自可以任选地被一个或多个独立地选自下组的基团取代,该组由以下各项组成:卤素、C1-C2烷基、C1-C2卤代烷基、C1-C2烷氧基和C1-C2卤代烷氧基;R3和R4彼此独立地表示氢、C1-C4烷基或C3-C6环烷基;或者R3和R4连同它们附接的氮原子一起形成3-6元饱和环基;R5表示H、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基;R6表示C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷基或C1-C4卤代烷氧基。3.根据权利要求1或权利要求2所述的具有式(I)的化合物,其中R1表示氢、卤素、氰基、OH、NH2、甲基、乙基、环丙基、NH(C1-C2烷基)、N(C1-C2烷基)2、CO(C1-C2烷基)、CO2(C1-C2烷基)、CO2H、CONH(C1-C2烷基)、CON(C1-C2烷基)2、SO2NH(C1-C2烷基)、SO2N(C1-C2烷基)2、C1-C4氟代烷基、C1-C4烷氧基、C1-C2卤代烷氧基或C2-C4炔基;R2表示C3-C6烷基、C3-C6烯基、C3-C6炔基、C3-C6环烷基、C3-C5环烯基、-C1-C2烷基-C3-C6环烷基、-C1-C2烷基-C3-C6环烯基,它们各自可以任选地被一个或多个独立地选自下组的基团取代,该组由以下各项组成:卤素、C1-C2烷基、C1-C2卤代烷基和C1-C2卤代烷氧基;R3和R4彼此独立地表示氢、C1-C3烷基或C3-C5环烷基;或者R3和R4连同它们附接的氮原子一起形成5元饱和环基;R5表示H或C1-C4烷基;R6表示C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C...
【专利技术属性】
技术研发人员:T·J·霍夫曼,S·叙泽尔莫赛,K·尼贝尔,F·E·M·赛德鲍姆,
申请(专利权)人:先正达参股股份有限公司,
类型:发明
国别省市:瑞士;CH
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