涂布型染料偏光组件的制备方法及液晶面板技术

本发明专利技术提供了一种涂布型染料偏光组件的制备方法，所述涂布型染料偏光组件包括基板，所述基板上设有偏光配向膜，所述制备方法包括：使用热浴法加热反应容器至反应温度，并使所述反应容器维持所述反应温度；将反应单体放入所述反应容器中搅拌至充分溶解，之后静置第一时间间隔；将染料放入所述反应容器中搅拌至充分溶解，之后静置所述第一时间间隔以得到偏光膜溶液；使用旋涂法将所述偏光膜溶液涂覆在所述基板的所述偏光配向膜上以得到偏光薄膜；对所述偏光薄膜进行紫外线照射使其固化，以得到所述涂布型染料偏光组件。本发明专利技术还提供了一种液晶面板。本发明专利技术的方案能够提高偏光片的偏振度，提升液晶面板的对比度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶制造领域，尤其涉及一种涂布型染料偏光组件的制备方法，以及具有由所述制备方法制成的涂布型染料偏光组件的液晶面板。
技术介绍
偏光片是液晶面板中非常重要的部件，其很大程度上决定了液晶面板的关键特性指标，例如对比度、穿透率、亮度，厚度等。其中，染料系偏光片通过将具有二色性的有机染料吸着在PVA(聚乙烯醇)上，并加以延伸定向，使之具有偏旋光性能。染料系偏光片耐高温高湿的能力较好。染料系偏光片中又包括涂布型偏光片。涂布型染料偏光片是一种信赖性优、又可做薄化的偏光片。涂布型染料偏光片的制备原料之一为染料。然而，目前的涂布型染料偏光片，在制造过程中存在染料容易团聚的缺陷，这将导致制成的涂布型染料偏光片偏振度降低；而偏光片的偏振度低，又会使得液晶面板的对比度降低。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供了一种涂布型染料偏光组件的制备方法及液晶面板，能够极大改善现有技术中染料团聚的问题，提高了偏光片的偏振度，提升了液晶面板的对比度。一种涂布型染料偏光组件的制备方法，所述涂布型染料偏光组件包括基板，所述基板上设有偏光配向膜，所述制备方法包括：使用热浴法加热反应容器至反应温度，并使所述反应容器维持所述反应温度；将反应单体放入所述反应容器中搅拌至充分溶解，之后静置第一时间间隔；将染料放入所述反应容器中搅拌至充分溶解，之后静置所述第一时间间隔以得到偏光膜溶液；使用旋涂法将所述偏光膜溶液涂覆在所述基板的所述偏光配向膜上以得到偏光薄膜；对所述偏光薄膜进行紫外线照射使其固化，以得到所述涂布型染料偏光组件。其中，在步骤使用热浴方式加热反应容器至反应温度，并使所述反应容器维持所述反应温度与步骤将反应单体放入所述反应容器中搅拌至充分溶解，之后静置第一时间间隔之间，还包括步骤：将溶剂放入所述反应容器中搅拌至充分溶解，之后静置所述第一时间间隔；对应的，在步骤使用旋涂法将所述偏光膜溶液涂覆在所述基板的所述偏光配向膜上以得到偏光薄膜与步骤对所述偏光薄膜进行紫外线照射使其固化之间，还包括步骤：通过烘烤去除所述偏光薄膜中的溶剂。其中，在步骤将反应单体放入所述反应容器中搅拌至充分溶解，之后静置第一时间间隔与步骤将染料放入所述反应容器中搅拌至充分溶解，之后静置所述第一时间间隔之间，还包括步骤：将起始剂放入所述反应容器中搅拌至充分溶解，之后静置所述第一时间间隔。其中，所述热浴法为油浴法。其中，所述反应温度为40-110摄氏度。其中，所述第一时间间隔为5-30分钟。其中，所述旋涂法中的转速为500-2000转每秒，旋转时长为10-120秒。其中，所述紫外线的波长为300-400纳米，照射量为30-1000毫焦。其中，所述烘烤的温度为40-80摄氏度，烘烤时长为10-60分钟。一种液晶面板，包括涂布型染料偏光组件，所述涂布型染料偏光组件采用上述的制备方法制成。由此，本专利技术的方案，通过使用热浴法对反应容器进行均匀预热，为后续物化反应提供合适的反应温度；在反应温度下，使用搅拌和静置的方式对反应单体与染料进行充分混合使其相溶，促进了聚合反应的充分进行，避免染料发生团聚；使用旋涂法得到均匀的偏光薄膜，防止偏光膜溶液中的染料由于离心力作用而凝聚；最终得到包括涂布型染料偏光层的涂布型染料偏光组件。本专利技术的方案，由于其工艺过程中染料不易发生团聚，因而制成的涂布型染料偏光组件偏振度高，进而提升了液晶面板的对比度。附图说明为更清楚地阐述本专利技术的构造特征和功效，下面结合附图与具体实施例来对其进行详细说明。图1是本专利技术第一实施例的涂布型染料偏光组件的制备方法的示意性流程框图。图2是本专利技术第二实施例的涂布型染料偏光组件的制备方法的示意性流程框图。图3是本专利技术第三实施例的一种实施方式中涂布型染料偏光组件的制备方法的示意性流程框图。图4是本专利技术第三实施例的另一种实施方式中涂布型染料偏光组件的制备方法的示意性流程框图。具体实施例下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都应属于本专利技术保护的范围。本专利技术以下实施例提供的涂布型染料偏光组件的制备方法，用于制备涂布型染料偏光组件。所述涂布型染料偏光组件包括基板及涂覆在基板上的涂布型染料偏光层。所述基板可以是液晶面板的CF(Color Filter，彩色滤光片)基板，也可以是TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)基板。所述基板上设有偏光配向膜，所述涂布型染料偏光层具体是涂覆在偏光配向膜上。所述偏光配向膜用于对所述涂布型染料偏光层进行偏光配向。所述偏光配向膜可以是设在所述基板的外表面，即所述基板背离液晶层的表面；也可以是设在所述基板的内表面，即所述基板朝向液晶层的表面。如图1所示，本专利技术第一实施例的涂布型染料偏光组件的制备方法100包括：S101，使用热浴法加热反应容器至反应温度，并使所述反应容器维持所述反应温度；S102，将反应单体放入所述反应容器中搅拌至充分溶解，之后静置第一时间间隔；S103，将染料放入所述反应容器中搅拌至充分溶解，之后静置所述第一时间间隔以得到偏光膜溶液；S104，使用旋涂法将所述偏光膜溶液涂覆在所述基板的所述偏光配向膜上以得到偏光薄膜；S105，对所述偏光薄膜进行紫外线照射使其固化，以得到所述涂布型染料偏光组件。具体而言，在S101中，反应容器用于容纳制备所述涂布型染料偏光片的各种原料，各种原料在反应容器中进行物化反应。反应容器需要达到一定的反应温度，以利于各种原料顺利进行物化反应。采用热浴法加热反应容器，具体可以采用如下操作：将反应容器置入盛装有热浴物质的热浴容器中，对热浴物质进行加热，反应容器将随热浴物质一起升温至需要的反应温度。本实施例中，优选的，可以采用油浴法加热反应容器。油浴法中使用导热油作为热浴物质，且反应温度设为40-110摄氏度。采用此种方式，能够使得各种原料充分相溶，有利于物化反应的充分进行。在其他实施例中，可以使用其他热浴物质进行热浴；和/或反应温度可以根据实际情况予以设定。在S102中，由于反应容器已经预先升温至反应温度，在此温度下，放入反应容器内的反应单体将发生热熔而成为液态，液态的反应单体将与后续放入反应容器的染料发生聚合反应。为了使反应单体充分熔融，对其进行搅拌。之后再静置第一时间间隔，以使得反应单体进一步地完全熔融。本步骤中，通过在反应温度下采用搅拌和静置的方式，能够促进反应单体充分熔融，有利于后续物化反应的进行。本实施例中，优选的，所述第一时间间隔设为5-30分钟。在其他实施例中，可以根据实际情况灵活确定所述第一时间间隔的具体长度。在S103中，将染料放入已经溶解有反应单体的反应容器中，并进行搅拌，以使得染料充分溶入液态的反应单体中。此时，染料则会与反应单体发生聚合反应。之后再静置第一时间间隔，以使得染料进一步地完全溶解和充分进行聚合反应。经过聚合反应之后，能够得到偏光膜溶液。本步骤中，通过在反应温度下采用搅拌和静置的方式，能够促进染料充分溶解，有利于聚合反应的充分进行。在S104中，将已经得到的偏光膜溶液使用旋涂法涂覆在基板的偏光配向膜上，从而得到偏光薄膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂布型染料偏光组件的制备方法，所述涂布型染料偏光组件包括基板，所述基板上设有偏光配向膜，其特征在于，所述制备方法包括：使用热浴法加热反应容器至反应温度，并使所述反应容器维持所述反应温度；将反应单体放入所述反应容器中搅拌至充分溶解，之后静置第一时间间隔；将染料放入所述反应容器中搅拌至充分溶解，之后静置所述第一时间间隔以得到偏光膜溶液；使用旋涂法将所述偏光膜溶液涂覆在所述基板的所述偏光配向膜上以得到偏光薄膜；对所述偏光薄膜进行紫外线照射使其固化，以得到所述涂布型染料偏光组件。

【技术特征摘要】
1.一种涂布型染料偏光组件的制备方法，所述涂布型染料偏光组件包括基板，所述基板上设有偏光配向膜，其特征在于，所述制备方法包括：使用热浴法加热反应容器至反应温度，并使所述反应容器维持所述反应温度；将反应单体放入所述反应容器中搅拌至充分溶解，之后静置第一时间间隔；将染料放入所述反应容器中搅拌至充分溶解，之后静置所述第一时间间隔以得到偏光膜溶液；使用旋涂法将所述偏光膜溶液涂覆在所述基板的所述偏光配向膜上以得到偏光薄膜；对所述偏光薄膜进行紫外线照射使其固化，以得到所述涂布型染料偏光组件。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在步骤使用热浴法加热反应容器至反应温度，并使所述反应容器维持所述反应温度与步骤将反应单体放入所述反应容器中搅拌至充分溶解，之后静置第一时间间隔之间，还包括步骤：将溶剂放入所述反应容器中搅拌至充分溶解，之后静置所述第一时间间隔；对应的，在步骤使用旋涂法将所述偏光膜溶液涂覆在所述基板的所述偏光配向膜上以得到偏光薄膜与步骤对所述偏光薄膜进行紫外线照射使其固化之间，还包括步骤：通过烘烤去除所述偏光薄膜中的溶剂。3.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈珍霞，侯俊，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44