四唑啉酮化合物及其应用制造技术

由式(1)表示的四唑啉酮化合物(式中，R1和R2各自独立地表示氢原子，任选地具有一个或多个卤素原子的C1‑C4烷基等；R3表示氢原子，任选地具有一个或多个卤素原子的C1‑C4烷基等；R4表示卤素原子,任选地具有一个或多个卤素原子的C1‑C4烷基等；h表示0至4的任何整数；X表示氮原子或CR5；并且R5表示氢原子，卤素原子等)具有对有害生物的出色防治活性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种四唑啉酮化合物及其应用。
技术介绍
迄今为止，已经开发了多种化学品以防治有害生物并且提供到实践使用中，但是，在一些情况下，这些化学品未必发挥足够的活性。同时，作为用于防治有害生物的化合物，已知由以下式(A)表示的具有四唑啉酮环的化合物：(见WO 96/36229A)。本专利技术提供对于有害生物具有优异防治活性的化合物。
技术实现思路
本专利技术的专利技术人已进行深入的研究以找到对于有害生物具有优异防治活性的化合物，并且发现由下式(1)表示的四唑啉酮化合物对于有害生物具有优异的防治活性，由此完成本专利技术。本专利技术包括以下[1]至[8]。[1]一种由式(1)表示的四唑啉酮化合物:其中R1和R2各自独立地表示氢原子,卤素原子,任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,或任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷氧基；R3表示氢原子,卤素原子,任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,任选地具有一个或多个卤素原子的C3-C4环烷基,或任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷氧基；R4表示卤素原子,任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷氧基,或氰基；h表示0至4的任何整数，其中当h是2以上的整数时，每个R4可以与其它至少一个R4相同或不同；X表示氮原子或CR5；并且R5表示氢原子,卤素原子,任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷氧基,或氰基。[2]根据[1]的四唑啉酮化合物,其中所述化合物中的X是氮原子。[3]根据[1]的四唑啉酮化合物,其中X是CR5。[4]一种有害生物防治剂，所述有害生物防治剂包含根据[1]至[3]中任一项所述的四唑啉酮化合物。[5]一种用于防治有害生物的方法，所述方法包括将有效量的根据[1]至[3]中任一项所述的四唑啉酮化合物施用于植物或土壤。[6]根据[1]至[3]中任一项所述的四唑啉酮化合物用于防治有害生物的用途。根据本专利技术，可以防治有害生物。具体实施方式在本专利技术中，由式(1)表示的四唑啉酮化合物被称为本专利技术的化合物，并且含有本专利技术的化合物的有害生物防治剂被称为本专利技术的防治剂。如本文所使用的取代基将在以下提及。卤素原子表示氟原子、氯原子、溴原子和碘原子。任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基的实例包括甲基，乙基，丙基，异丙基，丁基，异丁基，仲丁基，叔丁基，氟甲基，氯甲基，二氯甲基，二氟甲基，三氟甲基，三氯甲基，2-氟乙基，2,2,2-三氟乙基，和1-三氟甲基-2,2,2-三氟乙基。任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷氧基的实例包括甲氧基，乙氧基，丙氧基，异丙氧基，丁氧基，三氟甲氧基，二氟甲氧基，2-氟乙氧基，2,2,2-三氟乙氧基，3-氯丙氧基，和3-氯丁氧基。任选地具有一个或多个卤素原子的C3-C4环烷基的实例包括环丙基，环丁基，2,2-二氯环丙基和2,2-二氟环丙基。本专利技术的化合物方面的实例包括下列化合物。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中R3是氢原子。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中R3是卤素原子。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中R3是任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中R3是任选地具有一个或多个卤素原子的C3-C4环烷基。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中R3是任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷氧基。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中R2是氢原子。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中R2是卤素原子。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中R2是任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中R2是任选地具有一个或多个卤素原子的C3-C4环烷基。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中R2是任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷氧基。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中R1是氢原子。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中R1是卤素原子。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中R1是任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中R1是任选地具有一个或多个卤素原子的C3-C4环烷基。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中R1是任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷氧基。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中R3是任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,R2是任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,或卤素原子,R1是氢原子,并且每个R4是氢原子,卤素原子,任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,或任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷氧基。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中R1是氢原子或任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,R2是氢原子或任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,并且R3是任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中X是氮原子,R1是氢原子或任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,R2是任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,并且R3是任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中X是CR5,R1是氢原子,R2是氢原子或任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,R3是任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,并且R5是氢原子或任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基。一种式(1)的四唑啉酮化合物，其中X是CR5,R1是氢原子或任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,R2是氢原子或任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,R3是任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,R5是氢原子或任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,h是1,并且R4是卤素原子,任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,或任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷氧基。[方面1]一种由式(1a)表示的四唑啉酮化合物:其中E1,E2,和E3各自独立地表示卤素原子,任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷氧基,或氰基,并且R1,R2,和R3与以上定义的相同(其中两个E1和两个E2可以彼此相同或不同)]。一种[方面1]的四唑啉酮化合物，其中R3是任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,或氢原子。一种[方面1]的四唑啉酮化合物，其中R3是任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,卤素原子,或任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷氧基。一种[方面1]的四唑啉酮化合物，其中R3是任选地具有一个或多个卤素原子的C3-C4环烷基。一种[方面1]的四唑啉酮化合物，其中R3是氢原子或卤素原子。一种[方面1]的四唑啉酮化合物，其中R3是氢原子。一种[方面1]的四唑啉酮化合物，其中R3是卤素原子。一种[方面1]的四唑啉酮化合物，其中R3是甲基。一种[方面1]的四唑啉酮化合物，其中R3是乙基。一种[方面1]的四唑啉酮化合物，其中R3是甲氧基。一种[方面1]的四唑啉酮化合物，其中R3是环丙基。一种[方面1]的四唑啉酮化合物，其中R3是任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,任选地具有一个本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种由式(1)表示的四唑啉酮化合物：其中R1和R2各自独立地表示氢原子,卤素原子,任选地具有一个或多个卤素原子的C1‑C4烷基,或任选地具有一个或多个卤素原子的C1‑C4烷氧基；R3表示氢原子,卤素原子,任选地具有一个或多个卤素原子的C1‑C4烷基,任选地具有一个或多个卤素原子的C3‑C4环烷基,或任选地具有一个或多个卤素原子的C1‑C4烷氧基；R4表示卤素原子,任选地具有一个或多个卤素原子的C1‑C4烷基,任选地具有一个或多个卤素原子的C1‑C4烷氧基,或氰基；h表示0至4的任何整数，其中当h是2以上的整数时，每个R4可以与其它至少一个R4相同或不同；X表示氮原子或CR5；并且R5表示氢原子,卤素原子,任选地具有一个或多个卤素原子的C1‑C4烷基,任选地具有一个或多个卤素原子的C1‑C4烷氧基,或氰基。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.03.28 JP 2014-0679451.一种由式(1)表示的四唑啉酮化合物：其中R1和R2各自独立地表示氢原子,卤素原子,任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,或任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷氧基；R3表示氢原子,卤素原子,任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,任选地具有一个或多个卤素原子的C3-C4环烷基,或任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷氧基；R4表示卤素原子,任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷基,任选地具有一个或多个卤素原子的C1-C4烷氧基,或氰基；h表示0至4的任何整数，其中当h是2以上...

【专利技术属性】
技术研发人员：土田晃一郎，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP