基板缺陷位置定位方法及装置和系统制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种基板缺陷位置定位方法、装置和系统。一种基板缺陷位置定位方法，用于定位基板上的缺陷位置，缺陷具有灰阶信息，包括步骤：根据缺陷的灰阶信息，判断缺陷类型；根据缺陷类型，调节光源强度并获取视野图片；将视野图片转换为二阶化图片；根据二阶化图片确定缺陷位置。一种基板缺陷位置定位装置，用于上述基板缺陷位置定位方法，包括信息处理单元、光源控制单元、目视单元以及图像处理单元。一种基板缺陷位置定位系统，包括自动光学检测设备以及上述基板缺陷位置定位装置，自动光学检测设备连接基板缺陷位置定位装置的信息处理单元。上述方法、装置和系统能够提高了缺陷定位的效率，降低了缺陷误报率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示屏基板生产领域，特别是涉及一种基板缺陷位置定位方法及装置和基板缺陷位置定位系统。
技术介绍
显示器，不管是TFT-LCD(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，薄膜晶体管液晶显示器)还是OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机电激光显示)，在生产时，往往难以避免存在一些缺陷。为了修复缺陷，首先需要找到缺陷所在的位置，一般情况下缺陷的位置坐标可以由自动光学检测(AOI)设备读取，但是往往该缺陷并不是在修复设备的小倍率目视镜头的视野的中间位置上。为了将该缺陷位置移至目视镜头的视野中间位置，一般是通过人工移动镜头，然后再切换至大倍率镜头进行修复，或者利用二阶化图像处理技术自动寻找缺陷位置。但是这样的方法，往往会出现误报现象，效率较低。
技术实现思路
基于此，有必要针对基板缺陷的识别和定位问题，提供一种基板缺陷位置定位方法、基板缺陷位置定位装置以及基板缺陷位置定位系统。一种基板缺陷位置定位方法，用于定位基板上的缺陷位置，所述缺陷具有灰阶信息，包括步骤：根据所述缺陷的灰阶信息，判断所述缺陷类型；根据所述缺陷类型，调节光源强度并获取视野图片；将所述视野图片转换为二阶化图片；根据所述二阶化图片确定所述缺陷位置。这样的基板缺陷位置定位方法，通过根据缺陷的灰阶信息，判断缺陷类型，然后根据不同的缺陷类型，调节光源强度，并进一步将图片转换为二阶化图片，从而加强缺陷和周围图案的对比度，将缺陷的对比度放大，从而能够更容易也更精确地识别出缺陷，避免对于一些非缺陷的误判，从而能够更准确地定位缺陷位置，提高了缺陷定位的效率，并降低了缺陷误报率。在其中一个实施例中，在所述步骤根据所述缺陷的灰阶信息，判断所述缺陷类型中，所述缺陷类型包括暗点缺陷和亮点缺陷。在其中一个实施例中，在所述步骤根据所述缺陷类型，调节光源强度并获取视野图片中，还包括步骤：如果所述缺陷类型为暗点缺陷，将所述光源强度调高；如果所述缺陷类型为亮点缺陷，将所述光源强度调低。在其中一个实施例中，在所述步骤将所述视野图片转换为二阶化图片后，还包括步骤：设定图片对比周期及阈值；所述根据所述二阶化图片确定所述缺陷位置的步骤，是当在所述视野图片范围内存在所述缺陷时，根据所述图片对比周期和阈值，确定所述缺陷位置。在其中一个实施例中，在所述步骤根据所述二阶化图片确定所述缺陷位置后，还包括步骤：移动所述基板，将所述缺陷位置移动至视野中央。一种基板缺陷位置定位装置，用于定位基板上的缺陷位置，包括信息处理单元，所述信息处理单元用于处理灰阶信息，判断所述缺陷类型；光源控制单元，所述光源控制单元和所述信息处理单元连接，用于根据所述缺陷类型，调节光源强度；目视单元，所述目视单元和所述光源控制单元连接，所述目视单元的光源强度受所述光源控制单元所调节，所述目视单元用于获取视野图片；以及图像处理单元，所述图像处理单元连接所述目视单元，用于将所述视野图片转换为二阶化图片并根据所述二阶化图片确定所述缺陷位置。上述基板缺陷位置定位装置，通过根据缺陷的灰阶信息，判断缺陷类型，然后根据不同的缺陷类型，调节光源强度，并进一步将图片转换为二阶化图片，从而加强缺陷和周围图案的对比度，将缺陷的对比度放大，从而能够更容易也更精确地识别出缺陷，避免对于一些非缺陷的误判，从而能够更准确地定位缺陷位置，提高了缺陷定位的效率，并降低了缺陷误报率。在其中一个实施例中，所述目视单元包括彩色镜头图像控制器。在其中一个实施例中，所述图像处理单元能够设定图片对比周期及阈值，当在所述视野图片范围内存在所述缺陷时，根据所述图片对比周期和阈值，确定所述缺陷位置。在其中一个实施例中，还包括载台和伺服运动单元，所述载台用于承载所述基板，所述伺服运动单元连接所述图像处理单元和所述载台，用于根据所述缺陷位置，控制所述载台移动。一种基板缺陷位置定位系统，包括自动光学检测设备以及上述任意一项所述的基板缺陷位置定位装置，所述自动光学检测设备连接所述基板缺陷位置定位装置的信息处理单元。上述基板缺陷位置定位系统，通过自动光学检测(AOI)设备以及基板缺陷位置定位装置，能够实现自动识别和定位基板缺陷位置，实现了定位的自动化，有效提高了修补缺陷的效率。附图说明图1为本专利技术一实施例的基板缺陷位置定位方法的步骤流程图；图2为本专利技术一实施例的基板缺陷位置定位方法的部分子步骤流程图；图3a、图3b为本专利技术一实施例的暗缺陷二阶化图片的示意图；图4a、图4b为本专利技术一实施例的亮缺陷的二阶化图片的示意图；图5为本专利技术又一实施例的基板缺陷位置定位方法的步骤流程图；图6为本专利技术一实施例的基板缺陷定位装置的结构示意图；图7为本专利技术一实施例的基板缺陷位置定位系统的结构示意图。具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施例做详细的说明。请参见图1和图2，分别为本专利技术一实施例的基板缺陷位置定位方法的步骤流程图和部分子步骤流程图。该基板缺陷位置定位方法用于定位基板上的缺陷位置，该缺陷具有灰阶信息。如图1所示，该基板缺陷位置定位方法包括，步骤S110根据缺陷的灰阶信息，判断缺陷类型。该缺陷类型可以包括暗点缺陷和亮点缺陷，暗点缺陷就是说该缺陷的亮度低于正常亮度，亮点缺陷就是说该缺陷的亮度高于正常亮度。通常情况下，暗点缺陷的亮度会比其周围的亮度要低，而亮点缺陷的亮度会比其周围的亮度要高。步骤S120根据缺陷类型，比如根据该缺陷是暗点缺陷还是亮点缺陷，调节光源强度并获取视野图片。如图2所示，在步骤S120中，还可以包括步骤S121，如果缺陷类型为暗点缺陷，则将光源强度调高。步骤S122，如果缺陷类型为亮点缺陷，则将光源强度调低，从而使得明暗对比度更为明显。这样，能够便于获取更为清晰，对比度强的视野图片。步骤S130将获得的视野图片转换为二阶化图片。这样通过二阶化图像处理的方式将视野图片转化为二阶化图片，能够比较清楚地识别出缺陷的位置。步骤S140根据二阶化图片确定缺陷位置。从而实现对缺陷位置的定位。请参见图3a、图3b和图4a、图4b，分别为本专利技术一实施例的暗缺陷和亮缺陷的二阶化图片的示意图。如图3a所示，当缺陷类型为暗缺陷时，将光源强度调高后再进行二阶化处理，可以得到图3b所示的二阶化图片。可以看到在图3b中，缺陷的位置非常明显，和周围的亮度对比强烈，亮度远低于周围图案的亮度。从而能够有效快速地识别出缺陷位置，并避免误报情况。如图4a所示，当缺陷类型为亮缺陷时，将光源强度调低后再进行二阶化处理，可以得到图4b所示的二阶化图片。可以看到在图4b中，缺陷的位置非常明显，和周围的亮度对比强烈，亮度远高于周围图案的亮度。从而能够有效快速地识别出缺陷位置，并避免误报情况。这样的基板缺陷位置定位方法，通过根据缺陷的灰阶信息，判断缺陷类型，然后根据不同的缺陷类型，调节光源强度，并进一步将图片转换为二阶化图片，从而加强缺陷和周围图案的对比度，将缺陷的对比度放大，从而能够更容易也更精确地识别出缺陷，避免对于一些非缺陷的误判，从而能够更准确地定位缺陷位置，提高了缺陷定位的效率，并降低了缺陷误报率。如图1所示，在步骤S140根据二阶化图片确定缺陷位置后，还可以包括步骤S150，移本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板缺陷位置定位方法，用于定位基板上的缺陷位置，所述缺陷具有灰阶信息，其特征在于，包括步骤：根据所述缺陷的灰阶信息，判断所述缺陷类型；根据所述缺陷类型，调节光源强度并获取视野图片；将所述视野图片转换为二阶化图片；根据所述二阶化图片确定所述缺陷位置。

【技术特征摘要】
1.一种基板缺陷位置定位方法，用于定位基板上的缺陷位置，所述缺陷具有灰阶信息，其特征在于，包括步骤：根据所述缺陷的灰阶信息，判断所述缺陷类型；根据所述缺陷类型，调节光源强度并获取视野图片；将所述视野图片转换为二阶化图片；根据所述二阶化图片确定所述缺陷位置。2.根据权利要求1所述的基板缺陷位置定位方法，其特征在于，在所述步骤根据所述缺陷的灰阶信息，判断所述缺陷类型中，所述缺陷类型包括暗点缺陷和亮点缺陷。3.根据权利要求2所述的基板缺陷位置定位方法，其特征在于，在所述步骤根据所述缺陷类型，调节光源强度并获取视野图片中，还包括步骤：如果所述缺陷类型为暗点缺陷，将所述光源强度调高；如果所述缺陷类型为亮点缺陷，将所述光源强度调低。4.根据权利要求1所述的基板缺陷位置定位方法，其特征在于，在所述步骤将所述视野图片转换为二阶化图片后，还包括步骤：设定图片对比周期及阈值；所述根据所述二阶化图片确定所述缺陷位置的步骤，是当在所述视野图片范围内存在所述缺陷时，根据所述图片对比周期和阈值，确定所述缺陷位置。5.根据权利要求1所述的基板缺陷位置定位方法，其特征在于，在所述步骤根据所述二阶化图片确定所述缺陷位置后，还包括步骤：移动所述基板，将所述缺陷位置移动至视野中央。6.一种基板缺陷位置定位装置，用于定位...

【专利技术属性】
技术研发人员：张祥，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32