光刻设备、用于将物体定位在光刻设备中的方法以及器件制造方法技术

本发明专利技术涉及一种光刻设备，包括：第一物体；第二物体，可沿移动方向相对于第一物体移动；一组缆线和/或管材，布置于所述第一物体和所述第二物体之间；引导筒，用以引导所述一组缆线和管材，所述引导筒可绕垂直于所述移动方向延伸的旋转轴线旋转；筒定位装置，用以定位所述引导筒，使得所述引导筒遵循由所述第二物体相对于所述第一物体的移动所导致的所述一组缆线和/或管材的移动；和引导结构，用以引导所述引导筒沿所述移动方向的移动。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】相关专利申请的交叉引用本申请要求于2014年4月16日提交的欧洲申请14164988.9的权益，并且该欧洲申请通过引用被全部并入本文。
本专利技术涉及一种光刻设备、一种用于将物体定位在光刻设备中的方法以及一种器件制造方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常应用到所述衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻没备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。典型地，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单个衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。传统的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将所述图案压印到所述衬底上，来将所述图案从所述图案形成装置转移到所述衬底上。光刻设备通常包括可移动物体，例如被构造用于保持所述图案形成装置的支撑件，被构造用于保持衬底的支撑件，或保持光学元件的支撑件。为了将电力供应给所述可移动物体，为了交换驱动和/或测量信号，和/或为了将冷却水供应给所述可移动物体，可在所述可移动物体与“固定环境”之间提供一组缆线和/或管材。这些缆线和管材通常、但并非始终由布置在可移动物体与“固定”环境之间的缆线和管材载体支撑，所述缆线和管材载体可以可替代地称为缆线板。这样的一组缆线和/或管材、或缆线和管材载体在可移动物体和固定环境处被支撑，且因为其随可移动物体一起自由移动而通常在它们之间不被支撑。可进行测量以避免该组缆线和/或管材、或缆线和管材载体的松垂。其一个实例是在该组缆线和/或管材或者所述缆线和管材载体的相对侧的两个板，其用以迫使该组缆线和/或管材或者所述缆线和管材载体处于优选的形状。然而，在所述可移动物体具有相对高的加速度的情况下，这些板并不能完全避免该组缆线和/或管材、或者所述缆线和管材载体垂直于该组缆线和/或管材、或者缆线和管材载体的纵向轴线移动。该组缆线和/或管材、或者所述缆线和管材载体的这样的移动将扰动力引入到可移动物体，导致可移动物体的位置精确性降低，且此外增加了该组缆线和/或管材、或者缆线和管材载体的磨损，这降低了该组缆线和/或管材、或者缆线和管材载体的使用寿命。
技术实现思路
因此，期望提供一种提高可移动物体的位置精确性和/或增加该组缆线和/或管材、或者缆线和管材载体的使用寿命的系统。根据本专利技术的实施例，提供一种光刻设备，包括：-第一物体；-第二物体，能够相对于所述第一物体沿移动方向移动；-布置于所述第一和第二物体之间的一组缆线和/或管材；-用以引导所述一组缆线和/或管材的引导筒，所述引导筒能够绕垂直于所述移动方向延伸的旋转轴线旋转；-筒定位装置，用以定位所述引导筒，使得所述引导筒遵循由所述第二物体相对于所述第一物体的移动所导致的所述一组缆线和/或管材的移动；和-引导结构，用以引导所述引导筒沿所述移动方向的移动。根据本专利技术的另一实施例，提供一种用于在光刻设备中定位能够相对于第一物体移动的第二物体的方法，所述方法包括以下步骤：a)提供布置于所述第一和第二物体之间的一组缆线和/或管材；b)提供用以引导所述一组缆线和/或管材的引导筒，所述引导筒能够绕垂直于所述移动方向延伸的旋转轴线旋转；c)提供引导结构，用以引导所述引导筒沿所述移动方向的移动；d)相对于所述第一物体定位所述第二物体；e)定位所述引导筒，使得所述引导筒遵循由所述第二物体相对于所述第一物体的移动所导致的所述一组缆线和/或管材的移动。根据本专利技术的又一个实施例，提供了一种器件制造方法，其中使用根据本专利技术的光刻设备。附图说明现在将仅通过示例的方式，参考所附示意图来描述本专利技术的实施例，在所附示意图中，对应的参考标记指示对应的部件，并且在所附示意图中：图1示意性地示出根据本专利技术的实施例的光刻设备；图2示意性地示出根据本专利技术的实施例的物体定位系统；图3示意性地示出根据本专利技术的另一实施例的物体定位系统；图4A示意性地详细示出图3的物体定位系统的第二物体；图4B示意性地详细示出图3的物体定位系统的引导筒；图4C示意性地示出用于控制图3的物体定位系统的控制方案；以及图5示出根据本专利技术的又一实施例的物体定位系统。具体实施方式图1示意性地示出根据本专利技术的一个实施例的光刻设备。所述光刻设备包括：-照射系统(照射器)IL，配置用于调节辐射束B。-支持结构(例如，掩模台)MT，构造用于支撑图案形成装置(例如掩模)MA并与配置用于根据特定的参数精确地定位图案形成装置的第一定位装置PM相连；-衬底台(例如晶片台)WTa或WTb，构造用于保持衬底(例如涂覆有抗蚀剂的晶片)W，并与配置用于根据特定的参数精确地定位衬底的第二定位装置PW相连；和-投影系统PS，配置用于将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如包括一根或更多根管芯)上。所述照射系统IL可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引导、成形、或控制辐射。这里使用的术语“辐射束”包含所有类型的电磁辐射，包括紫外(UV)辐射(例如具有约365、248、193、157或126nm的波长)和极紫外(EUV)辐射(例如具有5-20nm的范围内的波长)以及粒子束，诸如离子束或电子束。所述支撑结构MT支撑图案形成装置，即承载所述图案形成装置的重量。所述支撑结构MT以依赖于图案形成装置MA的方向、光刻设备的设计以及诸如例如图案形成装置MA是否保持在真空环境中等其它条件的方式保持图案形成装置MA。所述支撑结构MT可以采用机械的、真空的、静电的或其它夹持技术来保持图案形成装置MA。所述支撑结构MT可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动的。所述支撑结构MT可以确保图案形成装置MA位于所需的位置上(例如相对于投影系统PS)。这里所使用的术语“图案形成装置”应该被广义地理解为表示能够用于在辐射束的横截面上赋予辐射束图案、以便在衬底W的目标部分C上形成图案的任何装置。应当注意，被赋予辐射束的图案可能不与在衬底W的目标部分C上的所需图案完全相符(例如如果该图案包括相移特征或所谓的辅助特征)。通常，被赋予辐射束的图案将与在目标部分C上形成的器件中的特定的功能层相对应，例如集成电路。图案形成装置MA可以是透射式的或反射式的。图案形成装置MA的示例包括掩模版、掩模、可编程反射镜阵列以及可编程LCD面板。掩模在光刻术中是公知的，并且包括诸如二元掩模类型、交替型相移掩模类型和衰减型相移掩模类型以及各种混合掩模类型之类的掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，每一个小反射镜可以独立地倾斜，以便沿不同方向反射入射的辐射束。所述已倾斜的反射镜将图案赋予由所述反射镜矩阵反射的辐射束。这里使用的术语“投影系统”应该广义地本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻设备，包括：‑第一物体；‑第二物体，能够相对于所述第一物体沿移动方向移动；‑布置于所述第一物体和第二物体之间的一组缆线和/或管材；‑用以引导所述一组缆线和/或管材的引导筒，所述引导筒能够绕垂直于所述移动方向延伸的旋转轴线旋转；‑筒定位装置，用以定位所述引导筒，使得所述引导筒遵循由所述第二物体相对于所述第一物体的移动所导致的所述一组缆线和/或管材的移动；和‑引导结构，用以引导所述引导筒沿所述移动方向的移动。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.04.16 EP 14164988.91.一种光刻设备，包括：-第一物体；-第二物体，能够相对于所述第一物体沿移动方向移动；-布置于所述第一物体和第二物体之间的一组缆线和/或管材；-用以引导所述一组缆线和/或管材的引导筒，所述引导筒能够绕垂直于所述移动方向延伸的旋转轴线旋转；-筒定位装置，用以定位所述引导筒，使得所述引导筒遵循由所述第二物体相对于所述第一物体的移动所导致的所述一组缆线和/或管材的移动；和-引导结构，用以引导所述引导筒沿所述移动方向的移动。2.根据权利要求1所述的光刻设备，还包括用于保持所述一组缆线和/或管材的缆线和管材载体，其中所述引导筒被配置用于通过引导所述缆线和管材载体来引导所述一组缆线和/或管材。3.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述筒定位装置包括弹簧，以将偏压力施加到所述引导筒以沿移动方向朝向所述一组缆线和/或管材推动所述引导筒。4.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述筒定位装置包括筒支撑件和筒致动系统，其中所述筒支撑件由所述引导结构引导且支撑所述引导筒，且其中所述筒致动系统被配置用于定位所述筒支撑件。5.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述筒定位装置包括用以使所述引导筒绕其旋转轴线旋转的马达。6.根据权利要求1所述的光刻设备，还包括用以测量第二物体的位置以获得所述第二物体的测量位置的测量系统；用以移动所述第二物体的物体致动系统；以及用以基于所述第二物体的所述测量位置来驱动所述物体致动系统的物体控制系统。7.根据权利要求4和6所述的光刻设备，其中所述筒定位装置包括用以基于所述第二物体的所述测量位置来驱动所述筒致动系统的筒控制系统。8.根据权利要求4所述的光刻设备，其中所述筒定位装置包括被配置用于驱动所述筒致动系统的筒控制系统，使得延伸于所述引导筒和所述第二物体之间的、所述一组缆线和/或管材的一部分、或者用于保持所述一组缆线和\...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·C·布勒斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL