【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及瞄准
，特别涉及一种瞄准装置。
技术介绍
在工业测量、结构工程、面积丈量和军事等领域中，目标瞄准是一项基础技术，复杂光栅、光学透镜、反射镜和激光二极管等光学元件已经被用于将各类目标对准在可视区域中心的各种瞄准装置中。在实现本专利技术的过程中，专利技术人发现现有技术至少存在以下问题：由于瞄准装置的器件及所处的温度环境会对光学元件的波长和衍射角等产生热效应影响，进而会带来瞄准误差。为了减少因热效应影响产生的瞄准误差，通常会对光学元件进行改进，例如采用平行放置两个透射体全息方案用以减小由于衍射角变化带来的误差，但该方案需要窄带宽的平行激光；或采用边缘照射全息技术，上述边缘照射全息技术具有紧凑的单片结构，利用衍射或反射光栅减小激光二极管的光波漂移所产生的影响。上述光学元件的改进势必造成生产工艺复杂化和生产成本的增加。
技术实现思路
为了解决现有技术的问题，本专利技术实施例提供了一种瞄准装置。所述技术方案如下：一种瞄准装置，所述装置包括透明基体、环形光栅、至少两个弧形光栅及光源组件，所述环形光栅和所述至少两个弧形光栅设置在所述透明基体的一侧面上，所述透明基...
【技术保护点】
一种瞄准装置，其特征在于，所述装置包括透明基体、环形光栅、至少两个弧形光栅及光源组件，所述环形光栅和所述至少两个弧形光栅设置在所述透明基体的一侧面上，所述透明基体位于所述环形光栅中心部分的区域表面平坦，所述至少两个弧形光栅以所述环形光栅的圆心为中心沿圆周方向均匀间隔布置在所述环形光栅径向外围，所述弧形光栅的圆心位于所述弧形光栅和所述环形光栅的圆心之间，从所述光源组件发出的各束光线与所述弧形光栅一一对应。
【技术特征摘要】
1.一种瞄准装置，其特征在于，所述装置包括透明基体、环形光栅、至少两个弧形光栅及光源组件，所述环形光栅和所述至少两个弧形光栅设置在所述透明基体的一侧面上，所述透明基体位于所述环形光栅中心部分的区域表面平坦，所述至少两个弧形光栅以所述环形光栅的圆心为中心沿圆周方向均匀间隔布置在所述环形光栅径向外围，所述弧形光栅的圆心位于所述弧形光栅和所述环形光栅的圆心之间，从所述光源组件发出的各束光线与所述弧形光栅一一对应。2.根据权利要求1所述的瞄准装置，其特征在于，所述环形光栅包括若干个同心布置的圆形沟槽。3.根据权利要求1所述的瞄准装置，其特征在于，所述环形光栅包括若干个同心布置的圆形沟槽，各个所述圆形沟槽均为分段式设置。4.根据权利要求1所述的瞄准装置，其特征在于，所述透明基体呈圆柱形，所述透明基体的中心轴线经过...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐巍，温超俊，柯璇，吴山，张纪英，张仕臻，
申请(专利权)人：江汉大学，武汉合盈光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42
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