基板液体处理装置和基板液体处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板液体处理装置和基板液体处理方法。该基板液体处理装置具有：液体处理部，其利用被稀释液稀释后的处理液对基板进行处理；处理液供给部，其供给所述处理液；稀释液供给部，其供给用于稀释所述处理液的稀释液；浓度测量部，其测量被所述稀释液稀释后的处理液的浓度；以及控制部，其根据由所述浓度测量部测量出的被所述稀释液稀释后的处理液的浓度来控制所述处理液供给部和所述稀释液供给部，其中，在利用所述液体处理部对所述基板进行处理过程中判断为利用所述浓度测量部无法正常地测量所述处理液的浓度的情况下，使所述处理液和所述稀释液的供给状态维持预先决定的供给状态，并使利用所述液体处理部对所述基板进行的处理继续。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种利用清洗流体来清洗处理液流路的基板液体处理装置、基板液体处理方法以及存储有基板液体处理程序的计算机可读存储介质，在该清洗流路中流动用于对基板进行处理的处理液。
技术介绍
在半导体部件、平板显示器等的制造过程中使用了基板液体处理装置，该基板液体处理装置利用清洗液、蚀刻液等处理液对半导体晶圆、液晶基板等基板进行处理。例如，在专利文献1中公开的基板液体处理装置中，进行以下处理：使基板浸渍在处理槽中贮存的处理液(蚀刻液：磷酸水溶液)中来对形成于基板的表面的氮化膜进行蚀刻。在该基板液体处理装置中，作为处理液，使用了利用纯水将磷酸稀释成规定的浓度而得到的磷酸水溶液。而且，在基板液体处理装置中，在使磷酸水溶液成为规定的浓度时，进行如下控制：将利用纯水对磷酸进行稀释而得到的磷酸水溶液加热至规定的温度以使其沸腾，从而使磷酸水溶液的浓度成为该温度(沸点)下的浓度。另外，在对磷酸水溶液进行加热以使其沸腾时，由于水分的蒸发而浓度发生变动，因此进行如下控制：向磷酸水溶液补给纯水来使磷酸水溶液成为规定的浓度。因此，在基板液体处理装置中设置有用于测量处理液的浓度的浓度传感器。而且，在基板液体处理装置中，根据由浓度传感器测量出的处理液的浓度来控制处理液、稀释液的供给。专利文献1：日本特开2013-93478号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题另外，在上述以往的基板液体处理装置中，在由于浓度传感器的故障、布线的切断、浓度传感器的接液部分的污染等而导致利用浓度传感器无法正常地测量处理液的浓度的情况下，中断基板的液体处理，并废弃液体处理中途的基板。由此，在以往的基板液体处理装置的情况下，有可能在基板的处理中发生浪费，导致成品率的降低。另外，为了防备浓度传感器的故障等，还考虑预先设置预备的浓度传感器这样的对策，但由此导致基板液体处理装置的成本增加。用于解决问题的方案在此，在本专利技术中，在基板液体处理装置中具有：液体处理部，其利用被稀释液稀释后的处理液对基板进行处理；处理液供给部，其供给所述处理液；稀释液供给部，其供给用于稀释所述处理液的稀释液；浓度测量部，其测量被所述稀释液稀释后的处理液的浓度；以及控制部，其根据由所述浓度测量部测量出的被所述稀释液稀释后的处理液的浓度，来控制所述处理液供给部和所述稀释液供给部，其中，所述控制部在由所述液体处理部对所述基板进行处理的过程中判断为利用所述浓度测量部无法正常地测量所述处理液的浓度的情况下，控制所述处理液供给部和所述稀释液供给部，使得所述处理液和所述稀释液的供给状态维持预先决定的供给状态，并使由所述液体处理部对所述基板进行的处理继续。另外，所述预先决定的供给状态是以下状态中的任一状态：(1)以与判断为利用所述浓度测量部无法正常地测量所述处理液的浓度的时间点之前的所述处理液和所述稀释液的供给量相同的供给量来供给所述处理液和稀释液的状态；(2)以判断为利用所述浓度测量部无法正常地测量所述处理液的浓度的时间点之前的规定期间内的、所述处理液和所述稀释液的平均的供给量来供给所述处理液和所述稀释液的状态；以及(3)以在判断为利用所述浓度测量部无法正常地测量所述处理液的浓度的时间点之前的规定期间内变动的所述处理液和所述稀释液的供给量来将
所述处理液和所述稀释液变动地供给的状态。另外，还具有测量大气压的大气压测量部，所述控制部进行如下控制：在由所述大气压测量部测量出的大气压在规定范围内的情况下，维持所述基板的处理中的所述处理液和所述稀释液的供给状态，在由所述大气压测量部测量出的大气压在规定范围外的情况下，中断由所述液体处理部对所述基板进行的处理。另外，所述控制部在利用所述浓度测量部能够正常地测量被所述稀释液稀释后的处理液的浓度的情况下，在由所述大气压测量部测量出的大气压在第一规定范围内时和所述大气压在第一规定范围外时进行不同的处理，所述控制部在利用所述浓度测量部无法正常地测量所述处理液的浓度的情况下，在由所述大气压测量部测量出的大气压在第二规定范围内时，维持所述基板的处理中的所述处理液和所述稀释液的供给状态，在由所述大气压测量部测量出的大气压在第二规定范围外时，中断由所述液体处理部对所述基板进行的处理，所述控制部设第二规定范围为比所述第一规定范围窄的范围。另外，所述稀释液是对由于所述处理液的加热而蒸发的水分进行补充的纯水。另外，在本专利技术中，在基板液体处理方法中，由液体处理部使用被稀释液稀释后的处理液对基板进行处理，在所述基板的处理中无法正常地测量被所述稀释液稀释后的处理液的浓度的情况下，将所述处理液和所述稀释液的供给状态维持预先决定的供给状态，并使由所述液体处理部对所述基板进行的处理继续。另外，所述预先决定的供给状态是以下状态中的任一状态：(1)以与判断为无法正常地测量所述处理液的浓度的时间点之前的所述处理液和所述稀释液的供给量相同的供给量来供给所述处理液和所述稀释液的状态；(2)以判断为无法正常地测量所述处理液的浓度的时间点之前的规定期间内的、所述处理液和稀释液的平均的供给量来供给所述处理液和所述稀释
液的状态；以及(3)以在判断为无法正常地测量所述处理液的浓度的时间点之前的规定期间内变动的所述处理液和所述稀释液的供给量来将所述处理液和所述稀释液变动地供给的状态。另外，测量大气压，在大气压在规定范围内的情况下，维持所述基板的处理中的所述处理液和所述稀释液的供给状态，在大气压在规定范围外的情况下，中断由所述液体处理部对所述基板进行的处理。另外，在能够正常地测量被所述稀释液稀释后的处理液的浓度的情况下，在大气压在第一规定范围内时和大气压在第一规定范围外时进行不同的处理，在无法正常地测量被所述稀释液稀释后的处理液的浓度的情况下，在大气压在第二规定范围内时维持所述基板的处理中的所述处理液和所述稀释液的供给状态，在大气压在第二规定范围外时，中断由所述液体处理部对所述基板进行的处理，设第二规定范围为比所述第一规定范围窄的范围。另外，所述稀释液是对由于被所述稀释液稀释后的处理液的加热而蒸发的水分进行补充的纯水。另外，在本专利技术中，提供一种计算机可读存储介质，存储有使用基板液体处理装置执行基板液体处理方法的基板液体处理程序，该基板液体处理装置具有：液体处理部，其利用被稀释液稀释后的处理液对基板进行处理；处理液供给部，其供给所述处理液；稀释液供给部，其供给用于稀释所述处理液的稀释液；以及浓度测量部，其测量被所述稀释液稀释后的处理液的浓度，该计算机可读存储介质的特征在于，在由所述液体处理部对所述基板进行处理的过程中判断为利用所述浓度测量部无法正常地测量所述处理液的浓度的情况下，控制所述处理液供给部和所述稀释液供给部，使得所述处理液和所述稀释液的供给状态维持预先决定的供给状态，并使由所述液体处理部对所述基板进行的处理继续。专利技术的效果在本专利技术中，即使在基板的处理中由于浓度测量部的故障、布线的切断、
浓度传感器的接液部分的污染等而导致无法正常地测量处理液的浓度，也能够继续进行基板的处理，因此不会导致成本增加并能够抑制成品率的降低。附图说明图1是表示基板液体处理装置的俯视说明图。图2是表示蚀刻处理装置的说明图。图3是表示基板液体处理程序的流程图。图4是表示蚀刻处理装置的处理液循环时的动作本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板液体处理装置，其特征在于，具有：液体处理部，其利用被稀释液稀释后的处理液对基板进行处理；处理液供给部，其供给所述处理液；稀释液供给部，其供给用于稀释所述处理液的稀释液；浓度测量部，其测量被所述稀释液稀释后的处理液的浓度；以及控制部，其根据由所述浓度测量部测量出的被所述稀释液稀释后的处理液的浓度，来控制所述处理液供给部和所述稀释液供给部，其中，所述控制部在由所述液体处理部对所述基板进行处理的过程中判断为利用所述浓度测量部无法正常地测量所述处理液的浓度的情况下，控制所述处理液供给部和所述稀释液供给部，使得所述处理液和所述稀释液的供给状态维持预先决定的供给状态，并使由所述液体处理部对所述基板进行的处理继续。

【技术特征摘要】
2015.03.26 JP 2015-0637491.一种基板液体处理装置，其特征在于，具有：液体处理部，其利用被稀释液稀释后的处理液对基板进行处理；处理液供给部，其供给所述处理液；稀释液供给部，其供给用于稀释所述处理液的稀释液；浓度测量部，其测量被所述稀释液稀释后的处理液的浓度；以及控制部，其根据由所述浓度测量部测量出的被所述稀释液稀释后的处理液的浓度，来控制所述处理液供给部和所述稀释液供给部，其中，所述控制部在由所述液体处理部对所述基板进行处理的过程中判断为利用所述浓度测量部无法正常地测量所述处理液的浓度的情况下，控制所述处理液供给部和所述稀释液供给部，使得所述处理液和所述稀释液的供给状态维持预先决定的供给状态，并使由所述液体处理部对所述基板进行的处理继续。2.根据权利要求1所述的基板液体处理装置，其特征在于，所述预先决定的供给状态是以下状态中的任一状态：(1)以与判断为利用所述浓度测量部无法正常地测量所述处理液的浓度的时间点之前的所述处理液和所述稀释液的供给量相同的供给量来供给所述处理液和所述稀释液的状态；(2)以判断为利用所述浓度测量部无法正常地测量所述处理液的浓度的时间点之前的规定期间内的、所述处理液和所述稀释液的平均的供给量来供给所述处理液和所述稀释液的状态；以及(3)以在判断为利用所述浓度测量部无法正常地测量所述处理液的浓度的时间点之前的规定期间内变动的所述处理液和所述稀释液的供给量来将所述处理液和所述稀释液变动地供给的状态。3.根据权利要求1或2所述的基板液体处理装置，其特征在于，还具有测量大气压的大气压测量部，所述控制部进行如下控制：在由所述大气压测量部测量出的大气压在规定范围内的情况下，维持所述基板的处理中的所述处理液和所述稀释液的供
\t给状态，在由所述大气压测量部测量出的大气压在规定范围外的情况下，中断由所述液体处理部对所述基板进行的处理。4.根据权利要求3所述的基板液体处理装置，其特征在于，所述控制部在利用所述浓度测量部能够正常地测量被所述稀释液稀释后的处理液的浓度的情况下，在由所述大气压测量部测量出的大气压在第一规定范围内时和所述大气压在第一规定范围外时进行不同的处理，所述控制部在利用所述浓度测量部无法正常地测量所述处理液的浓度的情况下，在由所述大气压测量部测量出...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤秀明，永井高志，原大海，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP