一种电子设备外壳的制备方法及电子设备外壳技术

本发明专利技术的实施例提供了一种电子设备外壳的制备方法及电子设备外壳，其中，该制备方法包括：提供一塑胶基件；在塑胶基件的第一表面上形成UV胶层，UV胶层的横截面呈波浪形结构；对UV胶层上与塑胶基件相对的一面进行镀膜，形成反射膜层；在反射膜层上与UV胶层相对的一面形成油墨层；对塑胶基件进行切割处理，得到电子设备外壳。本发明专利技术的实施例能使电子设备外壳上的CD纹光泽呈直纹光泽，光影柔和细腻，进而提升用户体验。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电子
，特别涉及一种电子设备外壳的制备方法及电子设备外壳。
技术介绍
目前UV转印CD纹广泛运用在板材上，但板材上的CD纹截面皆为梯形结构，这样，当板材做到一定程度大的时候，CD纹光泽会呈现“飞刀盘”状的弯形光泽，光影较为凌乱，进而导致用该板材制得的电子设备外壳上的CD纹光泽呈弯形光泽，光影较为凌乱，影响用户体验。
技术实现思路
本专利技术实施例的目的在于提供一种电子设备外壳的制备方法及电子设备外壳，旨在解决电子设备外壳上的CD纹光泽呈弯形光泽，光影较为凌乱，影响用户体验的问题。为了达到上述目的，本专利技术的实施例提供了一种电子设备外壳的制备方法，包括：提供一塑胶基件；在塑胶基件的第一表面上形成UV胶层，UV胶层的横截面呈波浪形结构；对UV胶层上与塑胶基件相对的一面进行镀膜，形成反射膜层；在反射膜层上与UV胶层相对的一面形成油墨层；对塑胶基件进行切割处理，得到电子设备外壳。本专利技术的实施例还提供了一种采用上述的制备方法获得的电子设备外壳，包括：塑胶基件；设置于塑胶基件的第一表面的UV胶层，UV胶层的横截面呈波浪形结构；设置于UV胶层上与塑胶基件相对的一面的反射膜层；设置于反射膜层上与UV胶层相对的一面的油墨层。本专利技术的上述方案至少包括以下有益效果：在本专利技术的实施例中，通过在塑胶基件的第一表面上附着横截面呈波浪形结构UV胶层，并在该UV胶层上依次附着反射膜层和油墨层，最后对附着有油墨层的塑胶基件进行切割处理，得到电子设备外壳，解决了电子设备外壳上的CD纹光泽呈弯形光泽，光影较为凌乱，影响用户体验的问题，达到了使电子设备外壳上的CD纹光泽呈直纹光泽，光影柔和细腻，提升用户体验的效果。附图说明图1为本专利技术第一实施例中电子设备外壳的制备方法的流程图；图2为本专利技术实施例中波浪形结构的示意图；图3为本专利技术第一实施例中一具体实例中入射光线照射到反射膜层上的示意图；图4为本专利技术第二实施例中电子设备外壳的示意图。具体实施方式下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。第一实施例如图1所示，本专利技术的第一实施例提供了一种电子设备外壳的制备方法，该制备方法包括如下步骤：步骤101，提供一塑胶基件。在本专利技术的第一实施例中，该塑胶基件的材质可以为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。可以理解的是，在本专利技术的第一实施例中，并不限定塑胶基件的具体材质。步骤102，在塑胶基件的第一表面上形成UV胶层。其中，该UV胶层的横截面呈波浪形结构。在本专利技术的第一实施例中，步骤102包括：首先将塑胶基件固定于模具上，且塑胶基件的第一表面朝向模具，然后向模具内注入UV胶，并控制UV灯能量，照射固化形成UV胶层。其中，上述模具的横截面呈波浪形结构，该波浪形结构与上述UV胶层的横截面的波浪形结构为相同的波浪形结构。且如图2所示，该波浪形结构包括多个依次连接的弧形结构，该弧形结构包括：第一圆弧段201；第二圆弧段202；第三圆弧段203；连接第一圆弧段201的第一端点与第二圆弧段202的第一端点的第一直线204；以及连接第二圆弧段202的第二端点与第三圆弧段203的第一端点的第二直线205。其中，各弧形结构的第一圆弧段201的第二端点与第三圆弧段203的第二端点在同一直线上，且第一直线204的斜率与第二直线205的斜率的和为零，即，图2中的角1和角2相等。作为一个优选的示例，为使CD纹光泽得效果更佳，上述第一直线204的斜率可以设为1.4至1.8，第二直线205的斜率可以设为-1.8至-1.4。即，图2中的角1和角2均大概为120°至125°。步骤103，对UV胶层上与塑胶基件相对的一面进行镀膜，在横截面呈波浪形结构的UV胶的表面形成反射膜层。在本专利技术的第一实施例中，步骤103包括：首先将附着有UV胶层的塑胶基件置于真空镀膜腔内(例如光学镀膜机的真空镀膜腔内)，然后在蒸发源(例如光学镀膜机的蒸发源)上放置二氧化硅和二氧化钛，对UV胶层进行真空镀膜，形成反射膜层。具体地，在本专利技术的第一实施例中，将二氧化硅和二氧化钛放置在光学镀膜机的蒸发源上后，硅和钛会溶解蒸发，并在辉光放电的作用下，以原子或分子的形式飞向并沉积在UV胶层上，从而在UV胶的表面形成反射膜层。需要说明的是，该反射膜层实际包括多个叠加金属膜层，每个金属膜层的材质包含硅或者钛。其中，由于反射膜层附着于呈波浪形结构的UV胶上，这样当入射光线照射到反射膜层上时，入射光线会被反射膜层反射，且反射光线角度会保持一致
(即，多个入射光线对应的多个反射光线相互平行)，从而使最终得到的电子设备外壳上的CD纹光泽呈直纹光泽，光影柔和细腻。在本专利技术的第一实施例中，以一具体实例进一步阐述入射光照射到反射膜层后的反射光。如图3所示，假设光源300发出的入射光线301和入射光线302照射到反射膜层上，入射光线301的反射光线为303，入射光线302的反射光线为304，而由于上述反射膜层附着于呈波浪形结构的UV胶上，使得反射光线303和反射光线304相互平行。从而使最终得到的电子设备外壳上的CD纹光泽呈直纹光泽，光影柔和细腻。其中，上述反射膜层的厚度可以为100纳米至150纳米，真空镀膜时间可以为6至20分钟，真空镀膜腔内的真空度数值可以为95％至99％，真空镀膜腔内的温度可以为60°至70°。其中，若反射膜层的厚度在100纳米至139纳米之间，入射光被该反射膜层反射后，反射光呈浅棕黄色(即，暖色的色调)；而若反射膜层的厚度在139纳米至150纳米之间，入射光被该反射膜层反射后，反射光呈蓝色(即，冷色的色调)。其中，为使入射光被反射膜层反射后的反射光呈暖色的色调或者冷色的色调，上述反射膜层的每个金属膜层的厚度均可通过公式n×2D＝(N+1/2)λ计算得到，其中，n表示该金属膜层的折射率(例如由硅或者钛构成的金属膜层的折射率)，D表示该金属膜层的厚度，N为一常数，可以取值为0、1、2、3等任一自然数，λ表示光在空气中的波长。具体地，上述反射光线303与反射光线304的光程差为上述n×2D，即通过控制金属膜层的厚度可以使具有特定波长的反射光之间有互消的效应，由此改变反射光的颜色。例如，若将镀膜的厚度设置成绿色光的相消，则反射光会呈现红色。步骤104，在反射膜层上与UV胶层相对的一面形成油墨层。在本专利技术的第一实施例中，步骤104包括：首先通过丝印的方式在反射膜层上印刷油墨，然后将印刷有油墨的塑胶基件放入烘烤箱内，烘烤固化，形成油墨层。其中，烘烤箱内温度可以为75°至85°，烘烤时间可以为30分钟，油墨层的厚度可以为28微米至36微米。步骤105，对塑胶基件进行切割处理，得到电子设备外壳。在本专利技术的第一实施例中，步骤105包括：首先将附着有油墨层的塑胶基
件的第二表面粘贴至刷有OCA胶水层的玻璃纤维板上，然后根据待制备的电子设备的外壳尺寸，对粘贴于玻璃纤维板上的塑胶基件进行切割，得到电子设备外壳。其中，第二表面和第一表面为塑胶基件的两相对表面，OCA胶水层的厚度可以为0.02毫米至0.0本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子设备外壳的制备方法，其特征在于，包括：提供一塑胶基件；在所述塑胶基件的第一表面上形成UV胶层，所述UV胶层的横截面呈波浪形结构；对所述UV胶层上与塑胶基件相对的一面进行镀膜，形成反射膜层；在所述反射膜层上与UV胶层相对的一面形成油墨层；对塑胶基件进行切割处理，得到电子设备外壳。

【技术特征摘要】
1.一种电子设备外壳的制备方法，其特征在于，包括：提供一塑胶基件；在所述塑胶基件的第一表面上形成UV胶层，所述UV胶层的横截面呈波浪形结构；对所述UV胶层上与塑胶基件相对的一面进行镀膜，形成反射膜层；在所述反射膜层上与UV胶层相对的一面形成油墨层；对塑胶基件进行切割处理，得到电子设备外壳。2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在所述塑胶基件的第一表面上形成UV胶层的步骤，包括：将所述塑胶基件固定于模具上，且所述塑胶基件的第一表面朝向所述模具，所述模具的横截面呈波浪形结构；向所述模具内注入UV胶，并控制UV灯能量，照射固化形成UV胶层。3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述波浪形结构包括：多个依次连接的弧形结构，所述弧形结构包括：第一圆弧段；第二圆弧段；第三圆弧段；连接所述第一圆弧段的第一端点与所述第二圆弧段的第一端点的第一直线；以及连接所述第二圆弧段的第二端点与所述第三圆弧段的第一端点的第二直线，其中，所述第一直线的斜率与第二直线的斜率的和为零，且各弧形结构的第一圆弧段的第二端点与第三圆弧段的第二端点在同一直线上。4.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述第一直线的斜率为1.4至1.8，所述第二直线的斜率为-1.8至-1.4。5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述对所述UV胶层上与塑胶基件相对的一面进行镀膜，形成反射膜层的步骤，包括：将附着有所述UV胶层的塑胶基件置于真空镀膜腔内；在蒸发源上放置二氧化硅和二氧化钛，对所述UV胶层进行真空镀膜，形成反射膜层。6.如权利要求5所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：张维，林四亮，
申请(专利权)人：维沃移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44