新型静电场描绘仪制造技术

本实用新型专利技术公开了一种新型静电场描绘仪，包括待测模拟场和描绘记录纸；所述待测模拟场上方对应设有测量探针，所述描绘记录纸上方对应设有激光器，所述测量探针获得的电场信号通过模数转换器传输至单片机控制器，所述单片机控制器控制连接所述激光器的电源开关。本新型静电场描绘仪通过添加单片机控制器，利用激光器对静电场等势面进行描绘，减轻了原有操作模式的复杂性，使操作变得更为简单：同时利用单片机控制器对激光器进行控制，避免了手动控制产生的误差，提高了实验精度：把传统电介质水换为ITO导电玻璃，提高了精度，且镀层均匀，耐磨性好，延长了仪器的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及实验仪器
，具体涉及一种新型静电场描绘仪。
技术介绍
随着科技的发展，实验仪器的精确化与自动化称为发展的大趋势，大量实验仪器通过各种电子化改进来提高实验精度与可操作性，使得复杂的实验越来越简单，越来越为大众接受。目前国内采取的静电场描绘仪多为手动打点，在描绘仪上接一个万用表来获取电极所处位置的电势，这样的仪器不仅打点困难，而且手动打点经常出现针打点打偏或者没注意万用表电压数值显示而打在其他电势点的位置，不仅打点麻烦而且误差高，电介质经常为水，水是弱电解质，在电流效果下会发生电解产生氢气和氧气，产生的氧气会导致电极氧化，产生误差，而且每次实验都要更换水槽中的水，不仅使实验麻烦，而且不小心泼洒在桌子上有可能造成不必要的损失，给学生实验带来极大的不方便。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种操作使用方便、能够有效降低实验误差、提高实验可操作性的新型静电场描绘仪。为解决上述技术问题，本技术的技术方案是：新型静电场描绘仪，包括待测模拟场和描绘记录纸；所述待测模拟场上方对应设有测量探针，所述描绘记录纸上方对应设有激光器，所述测量探针获得的电场信号通过模数转换器传输至单片机控制器，所述单片机控制器控制连接所述激光器的电源开关。作为优选的技术方案，所述待测模拟场的导电介质为ITO导电玻璃。作为对上述技术方案的改进，所述激光器为500mW半导体蓝紫光激光器。本技术通过采用上述技术方案，与现有技术相比，具有以下有益效果：(1)利用ITO导电玻璃代替了传统的水或者导电纸作为电介质，方便实验、误差较低、便于操作。(2)采用模数转换模块代替电压表来获取某点电势，精确度高、体积小巧、智能化程度高，可以很好的完成测量任务。(3)利用单片机控制器对模数转换模块获得的电势值进行筛选，获得选定的电压值，并控制激光器进行打点，操作方式更加简便，可设定的探测范围使操作更加方便，数字化数据处理使精确度更高。(4)在实际高校教学中，多是手按式针扎打点，但是本新型静电场描绘仪采用激光打点，不仅提高了打点精度，而且使打点更加方便，受单片机控制的激光器使打点更易于操作，精确度更高，使实验更具有说服力。附图说明以下附图仅旨在于对本技术做示意性说明和解释，并不限定本技术的范围。其中：图1是本技术实施例的结构示意图；图2是待测模拟场的俯视示意图。图中：1-待测模拟场；11-接线柱；12-电极；13-ITO导电玻璃；2-描绘记录纸；3-测量探针；4-激光器；5-模数转换器；6-单片机控制器。具体实施方式下面结合附图和实施例，进一步阐述本技术。如图1和图2所示，新型静电场描绘仪，包括待测模拟场1和描绘记录纸2；所述待测模拟场1上方对应设有测量探针3，所述描绘记录纸2上方对应设有激光器4，所述测量探针3获得的电场信号通过模数转换器5传输至单片机控制器6，所述单片机控制器6控制连接所述激光器4的电源开关。所述单片机控制器6可以采用现有技术中的常用型号的单片机实现，如Intel8051系列、Motorola和M68HC系列、Atmel的AT89系列等等，也可以自主进行设计，不再详述。其中，所述待测模拟场1包括用于连接电源的接线柱11、电极12以及导电介质，所述导电介质采用ITO导电玻璃13，采用ITO导电玻璃代替水作为电介质，提高了实验精度，延长了使用寿命。本描绘仪使用新兴、价格低廉的半导体激光器作为打点器,最好选用500mW半导体蓝紫光激光器，因为蓝紫光亮度最暗，不会伤害眼睛，但是蓝紫光聚热性能最强，稳定性最好，最适宜在纸面打出斑点。本新型静电场描绘仪通过添加单片机控制器，利用激光器对静电场等势面进行描绘，减轻了原有操作模式的复杂性，使操作变得更为简单：同时利用单片机控制器对激光器进行控制，避免了手动控制产生的误差，提高了实验精度：把传统电介质水换为ITO导电玻璃，提高了精度，且镀层均匀，耐磨性好，延长了仪器的使用寿命。通过实验，发现新型静电场描绘仪可以有效降低实验误差，提高了实验可操作性，且改装容易，易于推广，具有巨大的社会效益。以上所述仅为本技术示意性的具体实施方式，并非用以限定本技术的范围。任何本领域的技术人员，在不脱离本技术的构思和原则的前提下所作出的等同变化与修改，均应属于本技术保护的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
新型静电场描绘仪，包括待测模拟场和描绘记录纸；其特征在于：所述待测模拟场上方对应设有测量探针，所述描绘记录纸上方对应设有激光器，所述测量探针获得的电场信号通过模数转换器传输至单片机控制器，所述单片机控制器控制连接所述激光器的电源开关。

【技术特征摘要】
1.新型静电场描绘仪，包括待测模拟场和描绘记录纸；其特征在于：所述待测模拟场上方对应设有测量探针，所述描绘记录纸上方对应设有激光器，所述测量探针获得的电场信号通过模数转换器传输至单片机控制器，所述单片机控制器控制连...

【专利技术属性】
技术研发人员：孟超，
申请(专利权)人：孟超，
类型：新型
国别省市：山东;37