本发明专利技术提供能够以简单的方法将蒸镀掩模拉伸的蒸镀掩模的拉伸方法、使用该拉伸方法的带框架的蒸镀掩模的制造方法、以及能够以高精度制造有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法及用于所述方法的拉伸装置。蒸镀掩模(10)将形成有缝隙(15)的金属掩模(10)和在与该缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部(25)的树脂掩模(20)层积而构成，在该蒸镀掩模(100)的拉伸方法中，在蒸镀掩模(100)的一面上重叠拉伸辅助部件(50)，在蒸镀掩模(100)的一面和拉伸辅助部件(50)重合的部分的至少一部，将拉伸辅助部件固定在蒸镀掩模上，通过拉伸被固定在蒸镀掩模(100)上的拉伸辅助部件(50)对固定于该拉伸辅助部件(50)上的蒸镀掩模进行拉伸，由此解决上述课题。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及蒸镀掩模的拉伸方法、带框架的蒸镀掩模的制造方法、有机半导体元件的制造方法及拉伸装置。
技术介绍
随着使用有机EL元件的产品的大型化或基板尺寸的大型化，对蒸镀掩模也不断增加大型化的需求。而且，用于制造由金属构成的蒸镀掩模的金属板也大型化。但是，在现有的金属加工技术中，难以在大型的金属板高精度地形成开口部，不能够应对开口部的高精细化。另外，在形成为仅由金属构成的蒸镀掩模时，随着大型化，其质量也增大，包含框架在内的总质量也增大，故而会给操作带来阻碍。在这样的状况下，在专利文献l中提出有如下的蒸镀掩模，该蒸镀掩模将设有缝隙的金属掩模、和位于金属掩模的表面且将与要蒸镀制作的图案对应的开口部纵横地配置多列的树脂掩模层积而构成。根据在专利文献1中提出的蒸镀掩模，即使在大型化的情况下，也能够满足高精细化和轻量化二者，另外，能够进行高精细的蒸镀图案的形成。专利文献1：(日本)专利第5288072号公报
技术实现思路
本专利技术的主要课题在于提供能够由简便的方法拉伸上述专利文献1所述的蒸镀掩模的蒸镀掩模的拉伸方法、使用该拉伸方法的带框架的蒸镀掩模的制造方法、以及使用有蒸镀掩模的有机半导体元件的制造方法、用于上述方法的拉伸装置。用于解决上述课题，本专利技术的蒸镀掩模的拉伸方法，该蒸镀掩模将形成有缝隙的金属掩模、和树脂掩模层积而形成，所述树脂掩模在与该缝隙
重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部，该蒸镀掩模的拉伸方法包含：拉伸辅助部件固定工序，在所述蒸镀掩模的一面上重叠拉伸辅助部件，且在所述蒸镀掩模的一面和所述拉伸辅助部件重合的部分的至少一部分，将所述拉伸辅助部件固定在所述蒸镀掩模上；第一拉伸工序，通过对固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件进行拉伸，对固定在该拉伸辅助部件上的蒸镀掩模进行拉伸。另外，在上述的蒸镀掩模的拉伸方法中，也可以还包含在所述第一拉伸工序之前，将所述蒸镀掩模向第一方向拉伸的第二拉伸工序，在所述第一拉伸工序中，通过拉伸固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件，将固定在该拉伸辅助部件的蒸镀掩模向与所述第一方向不同的第二方向拉伸。另外，为了解决上述课题，本专利技术的带框架的蒸镀掩模的制造方法，包括：准备工序，准备将金属掩模和树脂掩模层积而构成的蒸镀掩模，所述金属掩模形成有缝隙，所述树脂掩模在与所述缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部；拉伸辅助部件固定工序，在所述蒸镀掩模的一面上重叠拉伸辅助部件，且在所述蒸镀掩模的一面和所述拉伸辅助部件重合的部分的至少一部分，将所述拉伸辅助部件固定在所述蒸镀掩模上；第一拉伸工序，通过对固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件进行拉伸，对固定在该拉伸辅助部件上的蒸镀掩模进行拉伸；框架固定工序，将在所述第一拉伸工序中被拉伸的状态的所述蒸镀掩模固定在形成有贯通孔的框架上。另外，在上述的带框架的蒸镀掩模的制造方法中，也可以还包含在所述第一拉伸工序之前，将所述蒸镀掩模向第一方向拉伸的第二拉伸工序，在所述第一拉伸工序中，通过拉伸固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件，将固定在该拉伸辅助部件的蒸镀掩模向与所述第一方向不同的第二方向拉伸。另外，在上述的带框架的蒸镀掩模的制造方法中，所述带框架的蒸镀掩模为在所述框架上排列固定多个所述蒸镀掩模而构成的带框架的蒸镀掩模，在该带框架的蒸镀掩模的制造阶段，所述多个蒸镀掩模中的至少一个蒸镀掩模经由所述拉伸辅助部件固定工序、所述第一拉伸工序、所述框架
固定工序而被固定在所述框架，在所述第一拉伸工序中，通过对固定在所述一个蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件进行拉伸，将固定在该拉伸辅助部件的一个蒸镀掩模向与该一个蒸镀掩模相邻的蒸镀掩模的方向拉伸。另外，在上述的带框架的蒸镀掩模的制造方法中，也可以还包含在进行所述第一拉伸工序之前，将所述一个蒸镀掩模向与所述相邻的蒸镀掩模的方向不同的方向拉伸的第二拉伸工序。另外，为了解决上述课题，本专利技术的有机半导体元件的制造方法包含使用在框架上固定有蒸镀掩模的带框架的蒸镀掩模而在蒸镀对象物形成蒸镀图案的工序，在形成所述蒸镀图案的工序中，固定在所述框架上的所述蒸镀掩模通过包含准备工序、拉伸辅助部件固定工序、第一拉伸工序、框架固定工序的工序而被制造，所述准备工序准备蒸镀掩模，该蒸镀掩模将形成有多个缝隙的金属掩模、和在与该缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部的树脂掩模层积而构成，所述拉伸辅助部件固定工序在所述蒸镀掩模的一面上重叠拉伸辅助部件，且在所述蒸镀掩模的一面和所述拉伸辅助部件重合的部分的至少一部分，将所述拉伸辅助部件固定在所述蒸镀掩模上，所述第一拉伸工序通过对固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件进行拉伸，对固定在该拉伸辅助部件的蒸镀掩模进行拉伸，所述框架固定工序将在所述第一拉伸工序中被拉伸的状态的所述蒸镀掩模固定在形成有贯通孔的框架上。另外，为了解决上述课题，本专利技术的拉伸装置用于对层积金属掩模和树脂掩模而构成的蒸镀掩模进行拉伸，所述金属掩模形成有缝隙，所述树脂掩模在与所述缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部，其中，具备拉伸辅助部件、和用于拉伸该拉伸辅助部件的驱动单元，所述拉伸辅助部件在与所述蒸镀掩模的一面重合时，可在与该蒸镀掩模的一面重合的部分的至少一部分固定。根据本专利技术的蒸镀掩模的拉伸方法或拉伸装置，即使在大型化的情况下也能够由简便的方法拉伸满足高精细化和轻量化二者的蒸镀掩模。另外，根据本专利技术的带框架的蒸镀掩模的制造方法，能够得到可在蒸镀对象物高精度地形成蒸镀图案的带框架的蒸镀掩模。另外，根据本专利技术的有机半导体元件的制造方法，能够成品率良好地制造质量优良的有机半导体元件。附图说明图l是表示在准备工序中准备的蒸镀掩模之一例的图，(a)为从金属掩模侧看到的正面图，(b)为(a)的A－A剖面图；图2是从金属掩模侧看到的在准备工序中准备的实施方式(A)的蒸镀掩模的正面图；图3是从金属掩模侧看到的在准备工序中准备的实施方式(A)的蒸镀掩模的正面图；图4是从金属掩模侧看到的在准备工序中准备的实施方式(A)的蒸镀掩模的正面图；图5是从金属掩模侧看到的在准备工序中准备的实施方式(A)的蒸镀掩模的正面图；图6是从金属掩模侧看到的在准备工序中准备的实施方式(B)的蒸镀掩模的正面图；图7是从金属掩模侧看到的在准备工序中准备的实施方式(B)的蒸镀掩模的正面图；图8是用于说明拉伸辅助部件固定工序的图，是从树脂掩模侧看到的蒸镀掩模的正面图；图9是用于说明拉伸辅助部件固定工序的图，(a)～(e)为从树脂掩模侧看到的蒸镀掩模的正面图；图10是用于说明第一拉伸工序的图，(a)～(c)为从树脂掩模侧看到的蒸镀掩模的正面图；图11是用于说明第一拉伸工序的图，(a)～(c)为从树脂掩模侧看到的蒸镀掩模的正面图；图12是用于说明第一拉伸工序的图，(a)～(c)为从树脂掩模侧看到的蒸镀掩模的正面图；图13是用于说明第一拉伸工序的图，(a)～(c)为从树脂掩模侧看到的蒸镀掩模的正面图；图14是用于说明第一拉伸工序的图，(a)、(b)为从树脂掩模侧看到的蒸镀掩模的正面图；图15是表示带框架的蒸镀掩模之一例的正面图；图16是表示带框架的多面蒸镀掩模之一例的正面图；图17(a)～(c)是表示框架之一例的正面图；本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种蒸镀掩模的拉伸方法，该蒸镀掩模将形成有缝隙的金属掩模、和树脂掩模层积而形成，所述树脂掩模在与该缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部，该蒸镀掩模的拉伸方法的特征在于，包含：拉伸辅助部件固定工序，在所述蒸镀掩模的一面上重叠拉伸辅助部件，且在所述蒸镀掩模的一面和所述拉伸辅助部件重合的部分的至少一部分，将所述拉伸辅助部件固定在所述蒸镀掩模上；第一拉伸工序，通过对固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件进行拉伸，对固定在该拉伸辅助部件上的蒸镀掩模进行拉伸。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.03.31 JP 2014-074863;2015.03.27 JP 2015-067151.一种蒸镀掩模的拉伸方法，该蒸镀掩模将形成有缝隙的金属掩模、和树脂掩模层积而形成，所述树脂掩模在与该缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部，该蒸镀掩模的拉伸方法的特征在于，包含：拉伸辅助部件固定工序，在所述蒸镀掩模的一面上重叠拉伸辅助部件，且在所述蒸镀掩模的一面和所述拉伸辅助部件重合的部分的至少一部分，将所述拉伸辅助部件固定在所述蒸镀掩模上；第一拉伸工序，通过对固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件进行拉伸，对固定在该拉伸辅助部件上的蒸镀掩模进行拉伸。2.如权利要求l所述的蒸镀掩模的拉伸方法，其特征在于，还包含在所述第一拉伸工序之前，将所述蒸镀掩模向第一方向拉伸的第二拉伸工序，在所述第一拉伸工序中，通过拉伸固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件，将固定在该拉伸辅助部件的蒸镀掩模向与所述第一方向不同的第二方向拉伸。3.一种带框架的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，包括：准备工序，准备将金属掩模和树脂掩模层积而构成的蒸镀掩模，所述金属掩模形成有缝隙，所述树脂掩模在与所述缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部；拉伸辅助部件固定工序，在所述蒸镀掩模的一面上重叠拉伸辅助部件，且在所述蒸镀掩模的一面和所述拉伸辅助部件重合的部分的至少一部分，将所述拉伸辅助部件固定在所述蒸镀掩模上；第一拉伸工序，通过对固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件进行拉伸，对固定在该拉伸辅助部件上的蒸镀掩模进行拉伸；框架固定工序，将在所述第一拉伸工序中被拉伸的状态的所述蒸镀掩模固定在形成有贯通孔的框架上。4.如权利要求3所述的带框架的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，还包含在所述第一拉伸工序之前，将所述蒸镀掩模向第一方向拉伸的第二拉伸工序，在所述第一拉伸工序中，通过拉伸固定在所述蒸镀掩模上的所述拉伸辅助部件，将固定在该拉伸辅助部件的蒸镀掩模向与所述第一方向不同的第二方...
【专利技术属性】
技术研发人员：小幡胜也，冈本英介，本间良幸，武田利彦，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。