用于大型基板的水平湿式化学处理的设备的处理模块及其处理方法和用途技术

本发明专利技术涉及一种用于对大型基板、特别地玻璃基板进行水平湿式化学处理的设备的处理模块，其包括：外壳，其带有外壳盖；传输装置，其包括用于水平处理大型基板的多个传输元件，其中处理模块进一步包括在处理模块的入口处布置在大型基板的传输高度上方的至少第一液体喷嘴和至少气体喷嘴，以及在处理模块的出口处布置在大型基板的传输高度上方的、用于累积处理模块内的处理液体的至少另一第一液体喷嘴和至少另一气体喷嘴，其中各气体喷嘴比相应的第一液体喷嘴更靠外地布置；至少液体堰，其在大型基板的传输高度下方布置在各第一液体喷嘴下方；其中处理模块进一步包括用于调整处理模块的传输装置和液体堰的至少一调整装置。本发明专利技术进一步涉及一种用于在尤其包括这种处理模块的水平设备中处理大型基板的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于对大型基板、特别地玻璃基板进行水平湿式化学处理的设备的处理模块，其包括：外壳，其带有外壳盖；传输装置，其包括用于水平处理大型基板的多个传输元件，其中处理模块进一步包括在处理模块的入口处布置在大型基板的传输高度上方的至少第一液体喷嘴和至少气体喷嘴，以及在处理模块的出口处布置在大型基板的传输高度上方的、用于累积处理模块内的处理液体的至少另一第一液体喷嘴和至少另一气体喷嘴，其中各气体喷嘴比相应的第一液体喷嘴更靠外地布置；至少液体堰，其在大型基板的传输高度下方布置在各第一液体喷嘴下方。本专利技术进一步涉及在包括多个模块的水平设备中处理大型基板的方法，其中包括本专利技术的这种处理模块。
技术介绍
数十年来，电子工业中用于水平处理基板的装置和设备为人所熟知。最初，相对厚的印刷电路板已被传输通过这种水平设备，用以使用不同的处理液体处理这些印刷电路板。这种处理可包括生产该行业的印制电路板所需的所有程序步骤。所述所需的程序步骤已包括各种预处理程序步骤，诸如铜晶种层的蚀刻、冲洗、沉积等等；接着，通过无电或者电化程序步骤将金属(通常为铜、镍或锡)沉积在所述预处理基板的表面上的至少主程序步骤；以及最后的各种后处理步骤，诸如冲洗、干燥等等。但是，电子工业现在需要适于处理大型基板的装置和设备，这些大型基板不仅远大于常规的印刷电路板，而且常由易碎玻璃材料而非
通常用于印刷电路板的聚合物材料构成。存在需要适于传输和处理电子工业的大型玻璃基板(诸如平板显示器)以用于生产例如大型电视机的市场趋势。这些大型基板带来的挑战还在于提供且确保均匀处理，特别地这些大基板的表面上的均匀金属沉积，而不产生不均匀性。Tokyo Electron LTD的JP 2010 199150 A公开了一种基板处理装置，其包括基板传递路径、第一处理液体供应装置、气体供应装置、第一冲洗装置及第二冲洗装置，以用于处理被传递通过基板传递路径的各个基板。简单地利用印刷电路板的行业中熟知的设备实现这一目的是不可能的。之前已成功用于生产印刷电路板的所述水平设备无法满足处理大型基板(特别地，玻璃基板，诸如平板显示器)的这些新要求。
技术实现思路
专利技术目的鉴于现有技术，因此本专利技术的目的在于提供一种适于传输且处理大型基板(特别地易碎大型玻璃基板，诸如平板显示器)的水平设备的处理模块。此外，目的还在于提供一种用于处理大型基板的水平设备的处理模块，其中在不产生不均匀性的情况下，可提供且确保均匀表面处理。专利技术概述这些目的以及未明确陈述但通过引述可从本文所述的联系直接得出或辨识的其它目的通过具有权利要求1的全部特征的处理模块实现。从属权利要求2至11保护本专利技术的处理模块的适当修改。此外，权利要求12包括用于使用这种处理模块来处理大型基板的方法，而在从属
权利要求13及14中保护所述专利技术方法的适当修改。此外，权利要求15包括这种处理模块用于大型玻璃基板(特别地平板显示器)上的金属(特别地，铜)沉积的用途。因此，本专利技术提供一种用于对大型基板、特别地玻璃基板进行水平湿式化学处理的设备的处理模块，其包括：外壳，其带有外壳盖；传输装置，其包括用于水平处理大型基板的多个传输元件，其中处理模块进一步包括在处理模块的入口处布置在大型基板的传输高度上方的至少第一液体喷嘴和至少气体喷嘴，以及在处理模块的出口处布置在大型基板的传输高度上方的、用于累积处理模块内的处理液体的至少另一第一液体喷嘴和至少另一气体喷嘴，其中各气体喷嘴比相应的第一液体喷嘴更靠外地布置；至少液体堰，其在大型基板的传输高度下方布置在各第一液体喷嘴下方；其特征在于，处理模块进一步包括用于调整处理模块的传输装置和液体堰的至少调整装置。因此，以不可预见的方式提供适于传输且处理大型基板(特别地易碎大型玻璃基板，诸如平板显示器)的水平装置的处理模块是可能的。此外，在本专利技术的处理模块中提供调整装置连同所述处理模块的其它必要部件一起支持可在不产生不均匀性的情况下提供且确保均匀表面处理。附图说明为更完整理解本专利技术，参考以下结合附图考虑的本专利技术以下详细说明，在图中：图1示出根据本专利技术实施例的处理模块的示意性透视图。图2示出根据本专利技术的图1所示的相同实施例的、无外壳盖的处理模块的示意性透视图。图3a示出了根据本专利技术的图1所示的相同实施例的、外壳盖打开
的处理模块的示意性侧视图，而图3b、3c和3d示出所述处理模块的不同特征的横截面图。图4示出根据本专利技术的图1所示的相同实施例的处理模块的下侧的示意性透视图。具体实施方式如本文中使用的，根据本专利技术的术语“湿式化学”处理指不利用电流来实现基板上的金属沉积的无电处理。可通过将基板浸没在处理液体中而进行这种湿式化学处理，其中在处理模块内提供处理液体液位，该处理液体液位在处理期间始终高于基板的上表面；或通过将处理液体喷涂于基板的至少一个表面上而进行该湿式化学处理。如本文中使用的，当应用于根据本专利技术的用于水平湿式化学处理基板的设备时，术语“金属”指已知适用于这种水平沉积方法的金属。这些金属包括金、镍、锡及铜，优选地是铜。如本文中使用的，当应用于根据本专利技术的处理模块时，术语“大型基板”指生产平板显示器所需的大尺寸基板，优选地高达用于玻璃基板的至少第8代尺寸(220cm x 250cm)。基板被传输通过由处理模块的第一液体喷嘴之间的区域限定的处理区域。基板在传输方向上沿着水平传输平面传输。基板被传输为使基板被传输通过在处理区域中累积的处理液体。在处理模块的入口及出口处通过第一液体喷嘴产生处理液体流，该液体喷嘴以引导朝向处理区域的方向喷射处理液体流。通过气体喷嘴产生气体流。气体喷嘴与液体喷嘴沿传输方向通过间隙分离开。由气体喷嘴喷射的气体的至少一部分透过该间隙逸出。第一液体喷嘴与气体喷嘴的组合可操作，以从基板移除处理液体或保持处理液体远离基板。不要求使用挤压滚轮抵靠材料的敏感表面。可操作由第一液体喷嘴喷射的处理液体流以减少处理液体通过第一液体喷嘴与传输平面之间的间隙的流出。由第一液体喷嘴喷射的处理液体流还增强处理液体在基板的表面处的交换。气体喷嘴与相应的第一液体喷嘴之间的间隙容许气体流从处理区域外的基板移除处理液体，同时提供气体可透过其逸出而不进入处理区域中的空间。术语处理液体指基板在用于湿式化学处理的这种处理模块中可经受的任何过程化学液体。基板的上表面可以是敏感表面。由此，在基板进入或离开处理区域时，不应使基板的上表面的至少主要部分与刚性元件接触。在一个实施例中，处理模块进一步包括两个轴承护圈带(优选地为滚珠轴承带)，该两个轴承护圈带包括多个轴承(优选地为滚珠轴承)，以用于接收传输器件的各传输元件的相应外部端。在一个实施例中，处理模块进一步包括在第一液体喷嘴之间配置在大型基板的传输高度上方的至少第二液体喷嘴。这种大型基板在本专利技术的处理模块中的处理可需要这些额外的第二液体喷嘴，以便提供足够处理液体来确保处理模块内的足够高的处理液体液位。若大型基板的尺寸变得过大，则可发生以下情况：仅处理模块的入口及出口处的第一液体喷嘴不再能够提供足够的处理液体来建立高于基板的传输高度的处理液体液位。必须确保被处理的基板的上表面同样始终在处理液体液位下方。在一个实施例中，液体堰布置在相应的第一液体喷嘴下本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于对大型基板、特别地玻璃基板进行水平湿式化学处理的设备的处理模块(1)，所述处理模块(1)包括：外壳(2)，所述外壳(2)带有外壳盖(4)；传输装置，所述传输装置包括用于水平处理大型基板的多个传输元件(8)，其中所述处理模块(1)进一步包括在所述处理模块(1)的入口处布置在大型基板的传输高度(17)上方的至少第一液体喷嘴(11)和至少气体喷嘴(10)，以及在所述处理模块(1)的出口处布置在大型基板的传输高度(17)上方的、用于累积所述处理模块(1)内的处理液体的至少另一第一液体喷嘴(11)和至少另一气体喷嘴(10)，其中各气体喷嘴(10)比相应的第一液体喷嘴(11)更靠外地布置；至少液体堰(13)，所述至少液体堰(13)在大型基板的所述传输高度(17)下方布置在各第一液体喷嘴(11)下方；其特征在于，所述处理模块(1)进一步包括用于调整所述处理模块(1)的所述传输装置和所述液体堰(13)的至少调整装置。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.19 EP 14199222.21.一种用于对大型基板、特别地玻璃基板进行水平湿式化学处理的设备的处理模块(1)，所述处理模块(1)包括：外壳(2)，所述外壳(2)带有外壳盖(4)；传输装置，所述传输装置包括用于水平处理大型基板的多个传输元件(8)，其中所述处理模块(1)进一步包括在所述处理模块(1)的入口处布置在大型基板的传输高度(17)上方的至少第一液体喷嘴(11)和至少气体喷嘴(10)，以及在所述处理模块(1)的出口处布置在大型基板的传输高度(17)上方的、用于累积所述处理模块(1)内的处理液体的至少另一第一液体喷嘴(11)和至少另一气体喷嘴(10)，其中各气体喷嘴(10)比相应的第一液体喷嘴(11)更靠外地布置；至少液体堰(13)，所述至少液体堰(13)在大型基板的所述传输高度(17)下方布置在各第一液体喷嘴(11)下方；其特征在于，所述处理模块(1)进一步包括用于调整所述处理模块(1)的所述传输装置和所述液体堰(13)的至少调整装置。2.根据权利要求1所述的处理模块，其特征在于，所述处理模块(1)进一步包括两个轴承护圈带(9)，优选地是滚珠轴承带，所述两个轴承护圈带(9)包括多个轴承，优选地是滚珠轴承，以用于接收所述传输装置的各传输元件(8)的相应的外部端。3.根据权利要求1或2所述的处理模块，其特征在于，所述处理模块(1)进一步包括在所述第一液体喷嘴(11)之间布置在大型基板的所述传输高度(17)上方的至少第二液体喷嘴(12)。4.根据先前权利要求中一项所述的处理模块，其特征在于，所述液体堰(13)布置在相应的第一液体喷嘴(11)下方在传输系统的两个相邻的传输元件(8)之间。5.根据先前权利要求中一项所述的处理模块，其特征在于，所述处理模块(1)包括气体递送元件(22)，优选地是压缩空气递送元件，所述气体递送元件(22)布置在大型基板的所述传输高度(17)下方，其中所述气体递送元件(22)布置在所述处理模块的各气体喷嘴(10)下方。6.根据先前权利要求中一项所述的处理模块，其特征在于，所述处理模块(1)进一步包括至少第三轴承护圈带(9)，优选地是滚珠轴承带，所述第三轴承护圈带(9)包括多个轴承，优选地是滚珠轴承，以用于接收所述传输装置的传输元件(8)的相应的外部端，其中所述至少第三轴承护圈带(9)在两个轴承护圈带(9)之间平...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗兰德·哈恩，克里斯蒂安·托马斯，马丁·诺斯纳，托马斯·奥特，奥拉夫·洛伦佐，
申请(专利权)人：埃托特克德国有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE