【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体
,尤其是涉及一种具有被动元件(passive device)的半导体封装结构。
技术介绍
为了确保电子产品和通信设备的小型化和多功能性,期望半导体封装在尺寸上变小,以支持多引脚连接、高速度和高功能性。传统的半导体封装一般把被动元件放置在PCB(Printed Circuit Board,印刷电路板)上。但是,这需要PCB提供额外的区域,用于被动元件安装于其上。因此,难以降低封装尺寸。如此,期望创新的半导体封装结构。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术提供了一种半导体封装结构,可以降低半导体封装结构的面积。本专利技术提供了一种半导体封装结构,包含:第一半导体封装,该第一半导体封装包括:第一半导体祼芯片;第一模塑料,围绕该第一半导体祼芯片;第一重分布层结构,设置在该第一模塑料的底面上,其中,该第一半导体祼芯片耦接至该第一重分布层结构;第二重分布层结构,设置在该第一模塑料的顶面上;以及被动元件,耦接至该第二重分布层结构。其中,该第一半导体封装进一步包括:第一导电结构,设置在该第一重分布层结构的第一表面上,该第一重分布层结构的第一表面远离该第一半导体祼芯片,其中,该第一导电结构耦接至该第一重分布层结构。其中,该被动元件设置在该第二重分布层结构的第一表面上,该第二重分布层结构的第一表面远离该第一半导体祼芯片。其中,该被动元件不被该第一模塑料覆盖。其中,该第二重分布层结构通过多个第一通孔耦接至该第一重分布层结构,该多个第一通孔穿过该第一和第二重分布层结构之间的该第一模塑料。其中,该多个第一通孔围绕该第一半导体祼芯片。其中,该多个第一通孔中的每 ...
【技术保护点】
一种半导体封装结构,其特征在于,包含:第一半导体封装,该第一半导体封装包括:第一半导体祼芯片;第一模塑料,围绕该第一半导体祼芯片;第一重分布层结构,设置在该第一模塑料的底面上,其中,该第一半导体祼芯片耦接至该第一重分布层结构;第二重分布层结构,设置在该第一模塑料的顶面上;以及被动元件,耦接至该第二重分布层结构。
【技术特征摘要】
2015.03.06 US 62/129,099;2015.12.31 US 14/986,2071.一种半导体封装结构,其特征在于,包含:第一半导体封装,该第一半导体封装包括:第一半导体祼芯片;第一模塑料,围绕该第一半导体祼芯片;第一重分布层结构,设置在该第一模塑料的底面上,其中,该第一半导体祼芯片耦接至该第一重分布层结构;第二重分布层结构,设置在该第一模塑料的顶面上;以及被动元件,耦接至该第二重分布层结构。2.如权利要求1所述的半导体封装结构,其特征在于,该第一半导体封装进一步包括:第一导电结构,设置在该第一重分布层结构的第一表面上,该第一重分布层结构的第一表面远离该第一半导体祼芯片,其中,该第一导电结构耦接至该第一重分布层结构。3.如权利要求2所述的半导体封装结构,其特征在于,该被动元件设置在该第二重分布层结构的第一表面上,该第二重分布层结构的第一表面远离该第一半导体祼芯片。4.如权利要求1所述的半导体封装结构,其特征在于,该被动元件不被该第一模塑料覆盖。5.如权利要求3所述的半导体封装结构,其特征在于,该第二重分布层结构通过多个第一通孔耦接至该第一重分布层结构,该多个第一通孔穿过该第一和第二重分布层结构之间的该第一模塑料。6.如权利要求5所述的半导体封装结构,其特征在于,该多个第一通孔围绕该第一半导体祼芯片。7.如权利要求5所述的半导体封装结构,其特征在于,该多个第一通孔中的每一个的两端分别相邻于该第一重分布层结构的第二表面以及该第二重分布层结构的第二表面,其中该第一重分布层结构的第二表面以及该第二重分布层结构的第二表面均相邻于该第一半导体祼芯片。8.如权利要求5所述的半导体封装结构,其特征在于,进一步包括:第二半导体封装,堆叠在该第一半导体封装上;其中,该第二半导体封装包括:第三重分布层结构;第二半导体祼芯片,
\t耦接至该第三重分布层结构;以及第二模塑料,围绕该第二半导体祼芯片,并且该第二模塑料与该第三重分布层结构以及该第二半导体祼芯片均接触。9.如权利要求8所述的半导体封装结构,其特征在于,该第二重分布层结构设置在该第一重分布层结构和该第三重分布层结构之间。10.如权利要求8所述的半导体封装结构,其特征在于,该第二半导体封装进一步包括:多个第二导电结构,设置在该第三重分布层结构中远离该第二半导体祼芯片的表面上,其中,该多个第二导电结构耦接至该第三重分布层结构。11.如权利要求10所述的半导体封装结构,其特征在于,该多个第二导电结构围绕该被动元件。12.如权利要求8所述的半导体封装结构,其特征在于,该被动元件与该第二半导体封装和该第一模塑料均不接触。13.如权利要求8所述的半导体封装结构,其特征在于,该第二半导体封装通过该第二重分布层结构和该多个第一通孔耦接至该第一重分布层结构...
【专利技术属性】
技术研发人员:林子闳,彭逸轩,
申请(专利权)人:联发科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:中国台湾;71
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