一种按摩保健盆，涉及盥洗盆，盆体内底面匀布凸突，盆体内侧面及上部边沿同样匀布凸突，盆体内底面和盆体内侧面及上部边沿与凸突相间匀布永磁体，制成洗脚盆时，不仅可以按摩足底部，还可以利用盆体内侧面及上部边沿匀布的凸突按摩足趾和足趾间；制成浴盆时，不仅可以利用盆体内侧面及上部边沿匀布的凸突按摩足趾和足趾间，而且可以利用盆体内侧面及上部边沿匀布的凸突按摩身体后背和侧部；由于盆体内底面和盆体内侧面及上部边沿与凸突相间匀布永磁体，可以在热水、凸突、永磁体磁力的作用下刺激穴位反射区，促进毛细血管扩张，使血气流畅，起到健身防病的作用，适用于洗脚盆、洗浴盆。（*该技术在2012年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及盥洗盆，详细讲是一种按摩保健盆。现有技术 我们知道，现有的盥洗盆，如浴盆、洗手洗脸盆等，盆体内侧都是光滑的，无按摩保健功能。中国专利局1994年5月18日公开了一种名称为足底按摩磁疗保健盆，专利号为93116928.3的技术专利，是将一个长形盆的盆底中间部分加工成拱形的按摩板，在按摩板上分布有许多排列整齐有序的凸和若干个永磁体，在洗脚时进行足底按摩。这种按摩保健盆，只能制成洗脚盆用于洗脚时按摩足底部，不能按摩身体其他部位，使用局限性大。
技术实现思路
本技术解决的技术问题是，解决只能制成洗脚盆用于洗脚时按摩足底部，不能按摩身体其他部位，使用局限性大的问题。本技术解决的技术方案是，盆体内底面匀布凸突，其主要结构特点是，盆体内侧面及边沿上部匀布凸突。作为它的改进，盆体内底面和盆体内侧面及上部边沿与凸突相间匀布永磁体。本技术的有益效果是，由于盆体内侧面及边沿上部匀布凸突，制成洗脚盆时，不仅可以按摩足底部，还可以利用盆体内侧面及上部边沿匀布的凸突按摩足趾和足趾间；制成浴盆时，不仅可以利用盆体内侧面及上部边沿匀布的凸突按摩足趾和足趾间，而且可以利用盆体内侧面及上部边沿匀布的凸突按摩身体后背和侧部；由于盆体内底面和盆体内侧面及上部边沿与凸突相间匀布永磁体，可以在热水、凸突、永磁体磁力的作用下刺激穴位反射区，促进毛细血管扩张，使血气流畅，起到健身防病的作用。本技术适用于洗脚盆、洗浴盆。附图说明图1是一种按摩保健盆的主视图，图2是又一种按摩保健盆的主视图。实施方式 如图1所示，盆体1内底面匀布凸突2，盆体1内侧面及边沿上部同样匀布凸突2。制成洗脚盆时，不仅可以按摩足底部，还可以利用盆体1内侧面及上部边沿匀布的凸突2按摩足趾和足趾间；制成浴盆时，不仅可以利用盆体1内侧面及上部边沿匀布的凸突2按摩足趾和足趾间，而且可以利用盆体1内侧面及上部边沿匀布的凸突2按摩身体后背和侧部；在热水、凸突2的作用下刺激穴位反射区，促进毛细血管扩张，使血气流畅，起到健身防病的作用。如图2所示，盆体1内底面匀布凸突2，盆体1内侧面及边沿上部同样匀布凸突2，盆体1内底面和盆体1内侧面及上部边沿与凸突2相间匀布永磁体3。制成洗脚盆时，不仅可以按摩足底部，还可以利用盆体1内侧面及上部边沿匀布的凸突2按摩足趾和足趾间；制成浴盆时，不仅可以利用盆体1内侧面及上部边沿匀布的凸突2按摩足趾和足趾间，而且可以利用盆体1内侧面及上部边沿匀布的凸突2按摩身体后背和侧部；由于盆体1内底面和盆体1内侧面及上部边沿与凸突2相间匀布永磁体3，可以在热水、凸突2、永磁体3磁力的作用下刺激穴位反射区，促进毛细血管扩张，使血气流畅，起到健身防病的作用。权利要求1.一种按摩保健盆，盆体内底面匀布凸突，其特征是盆体内侧面及边沿上部匀布凸突。2.根据权利要求1所述的按摩保健盆，其特征是所说的盆体内底面和盆体内侧面及上部边沿与凸突相间匀布永磁体。专利摘要一种按摩保健盆，涉及盥洗盆，盆体内底面匀布凸突，盆体内侧面及上部边沿同样匀布凸突，盆体内底面和盆体内侧面及上部边沿与凸突相间匀布永磁体，制成洗脚盆时，不仅可以按摩足底部，还可以利用盆体内侧面及上部边沿匀布的凸突按摩足趾和足趾间；制成浴盆时，不仅可以利用盆体内侧面及上部边沿匀布的凸突按摩足趾和足趾间，而且可以利用盆体内侧面及上部边沿匀布的凸突按摩身体后背和侧部；由于盆体内底面和盆体内侧面及上部边沿与凸突相间匀布永磁体，可以在热水、凸突、永磁体磁力的作用下刺激穴位反射区，促进毛细血管扩张，使血气流畅，起到健身防病的作用，适用于洗脚盆、洗浴盆。文档编号A61N2/00GK2537330SQ0221472公开日2003年2月26日 申请日期2002年5月15日 优先权日2002年5月15日专利技术者谷祖威 申请人:谷祖威本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种按摩保健盆，盆体内底面匀布凸突，其特征是：盆体内侧面及边沿上部匀布凸突。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：谷祖威，
申请(专利权)人：谷祖威，
类型：实用新型
国别省市：37[中国|山东]
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