电容提取的方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种方法，包括处理集成电路的布局，以确定集成电路的一个或多个部件的一种或多种属性。方法还包括从与制造集成电路相关联的工艺文件中提取一个或多个工艺参数。基于包括在工艺文件中的一个或多个逻辑函数，从工艺文件中提取一个或多个工艺参数。计算基于一种或多种属性。方法还包括：基于包括在工艺文件中的一个或多个工艺参数和电容确定规则，计算集成电路的至少两个部件之间的电容值。基于用户输入，可编辑一个或多个工艺参数、一个或多个逻辑函数和电容确定规则中的至少一个。本发明专利技术还提供了电容提取的方法和装置。

【技术实现步骤摘要】
201510985005

【技术保护点】
一种方法，包括：处理集成电路的布局，以确定所述集成电路的一个或多个部件的一种或多种属性；从与制造所述集成电路相关联的工艺文件中提取一个或多个工艺参数，其中，基于一个或多个逻辑函数的计算，从所述工艺文件中提取所述一个或多个工艺参数，所述一个或多个逻辑函数中的至少一个包括在所述工艺文件中，并且所述计算基于所述一种或多种属性；以及基于包括在所述工艺文件中的一个或多个工艺参数和电容确定规则，计算所述集成电路的至少两个部件之间的电容值，其中，基于用户输入来编辑所述一个或多个工艺参数、所述一个或多个逻辑函数和所述电容确定规则中的至少一个。

【技术特征摘要】
2015.02.05 US 14/615,0841.一种方法，包括：处理集成电路的布局，以确定所述集成电路的一个或多个部件的一种或多种属性；从与制造所述集成电路相关联的工艺文件中提取一个或多个工艺参数，其中，基于一个或多个逻辑函数的计算，从所述工艺文件中提取所述一个或多个工艺参数，所述一个或多个逻辑函数中的至少一个包括在所述工艺文件中，并且所述计算基于所述一种或多种属性；以及基于包括在所述工艺文件中的一个或多个工艺参数和电容确定规则，计算所述集成电路的至少两个部件之间的电容值，其中，基于用户输入来编辑所述一个或多个工艺参数、所述一个或多个逻辑函数和所述电容确定规则中的至少一个。2.根据权利要求1所述的方法，其中，确定所述一种或多种属性包括确定所述一个或多个部件中的至少一个的布局尺寸，并且提取所述一个或多个工艺参数包括使用所述布局尺寸提取所述一个或多个工艺参数中的至少一个或计算所述电容值。3.根据权利要求2所述的方法，其中，提取所述一个或多个工艺参数包括：使用所述一个或多个部件中的至少一个的工艺尺寸，以提取所述一个或多个工艺参数中的至少一个或计算所述电容值，其中，所述工艺尺寸包括在所述工艺文件中；以及选择性地利用所述工艺尺寸来替换所述布局尺寸。4.根据权利要求1所述的方法，其中，用于确定所述电容值的电容确定规则是第一电容确定规则和第二电容确定规则中的一个，并且计算所述电容值包括：使用所述第一电容确定规则以利用电容确定函数来计算所述电容值，或使用所述第二电容确定规则以基于电容值的索引来计算所述电容值。5.根据权利要求4所述的方法，还包括：基于包括在所述工艺文件中的一个或多个逻辑函数的计算，应用所述第一电容确定规则或所述第二电容确定规则。6.根据权利要求1所述的方法，其中，确定所述一种或多种属性包括使用用...

【专利技术属性】
技术研发人员：周志政，吴宗翰，苏哿颖，李宪信，王中兴，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71