一种实验用均匀加热装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种实验用均匀加热装置，包括加热部，所述加热部包括上凹槽和下凹槽，上凹槽和下凹槽之间连接有一条第一通道和若干条第二通道、第三通道和第四通道，第二通道、第三通道和第四通道的数量比为4:3:2；所述第一通道呈螺旋状设置在加热部内；所述第二通道的直径由上凹槽到下凹槽的方向逐渐增大；所述第四通道的直径由上凹槽到下凹槽的方向逐渐减小；本实用新型专利技术装置加热均匀，可以有效的用于需要进行均匀加热的实验；加热效率高，加热速度快，并且不易出现加热温度超标的现象。

【技术实现步骤摘要】
201620161886

【技术保护点】
一种实验用均匀加热装置，包括加热部（1），其特征在于：所述加热部（1）包括上凹槽（11）和下凹槽（12），上凹槽（11）和下凹槽（12）之间连接有一条第一通道（13）和若干条第二通道（14）、第三通道（15）和第四通道（16），第二通道（14）、第三通道（15）和第四通道（16）的数量比为4:3:2；所述第一通道（13）呈螺旋状设置在加热部（1）内；所述第二通道（14）的直径由上凹槽（11）到下凹槽（12）的方向逐渐增大；所述第四通道（16）的直径由上凹槽（11）到下凹槽（12）的方向逐渐减小。

【技术特征摘要】
1.一种实验用均匀加热装置，包括加热部（1），其特征在于：所述加热部（1）包括上凹槽（11）和下凹槽（12），上凹槽（11）和下凹槽（12）之间连接有一条第一通道（13）和若干条第二通道（14）、第三通道（15）和第四通道（16），第二通道（14）、第三通道（15）和第四通道（16）的数量比为4:3:2；
所述第一通道（13）呈螺旋状设置在加热部（1）内；
所述第二通道（14）的直径由上凹槽（11）到下凹槽（12）的方向逐渐增大；
所述第四通道（16）的直径由上凹槽（11）到下凹槽（12）的方向逐渐减小。
2.如权利要求1所述的一种实验用均匀加热装置，其特征在于：所述第一通道（13）和第四通道（16）的长度相等；
所述第二通道（14）和第三通道（15）的长度相等；
所述第一通道（13）的长度大于第二通道（14）的长度。
3.如权利要求1所述的一种实验用均匀加热装置，其特征在于：所述上凹槽（11）的中心处设有第一上开口（111），上凹槽（11）上由中心向外依次设有若干个第二上开口（112）、第三上开口（113）和第四上开口（114）；
所述若干个第二上开口（112）位于同一圆周上，相邻的第二上开口（112）之间间距相等；
所述若干个第三上开口（113）位于同一圆周上，相邻的第三上开口（113）之间间距相等；
所述若干个第四上开口（114）位于同一圆周上，相邻的第四上开口（114）之间间距相等。
4.如权利要求1所述的一种实验用均匀加热装置，其特征在于：所述下凹槽（12）的中心处设有第一下开口（121），下凹槽（12）上由中心向外依次设有若干个第二下开口（122）、第三下开口（123）和第四下开口（124）；
所述若干个第二下开口（122）位于同一圆周上，相邻的第二下开口（122）之间间距相等；
所述若干个第三下开口（123）位于同一圆周上，相邻的第三下开...

【专利技术属性】
技术研发人员：曲阳，
申请(专利权)人：曲阳，
类型：新型
国别省市：山东;37