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菲涅尔透镜阻隔环制造技术

技术编号:13515334 阅读:59 留言:0更新日期:2016-08-12 01:38
本发明专利技术涉及菲涅尔透镜阻隔环。菲涅尔透镜可以通过液态光学透明的粘附剂(LOCA)粘附到光学装置中的窗口。然而,在粘附期间,LOCA可能会溢出进入到菲涅耳透镜的刻槽中,并且刻槽可以将LOCA携带到透镜的有效区域中,从而可能导致视觉伪像,并改变透镜的功能性的和外观的光学性能。在公开内容的示例中,沿着透镜表面的圆周的围绕菲涅耳透镜的内刻槽的一个或多个刻槽可以形成防止LOCA到达内刻槽的阻隔环。

【技术实现步骤摘要】
201610068550

【技术保护点】
一种具有带有圆周的表面的透镜,所述透镜包括:所述表面中不与所述表面的所述圆周同心的第一组一个或多个刻槽;以及所述表面中与所述表面的所述圆周同心并围绕第一组刻槽的第二组一个或多个刻槽。

【技术特征摘要】
2015.02.02 US 62/110,979;2015.06.29 US 14/754,5571.一种具有带有圆周的表面的透镜,所述透镜包括:所述表面中不与所述表面的所述圆周同心的第一组一个或多个刻槽;以及所述表面中与所述表面的所述圆周同心并围绕第一组刻槽的第二组一个或多个刻槽。2.如权利要求1所述的透镜,其中,第一组中的刻槽与第二组中的刻槽相交。3.如权利要求1所述的透镜,其中,第一组刻槽包括具有第一横截面形状的第一刻槽,并且第二组刻槽包括具有不同于第一横截面形状的第二横截面形状的第二刻槽。4.如权利要求3所述的透镜,其中,第一刻槽是锥形的,从而在第一刻槽的最深的部分处变窄成V形角,并且第二刻槽在第二刻槽的最深的部分处包括平坦表面。5.如权利要求3所述的透镜,其中,第二刻槽在第二刻槽的表面部分处比在第二刻槽的比所述表面部分更深的部分处窄。6.如权利要求3所述的透镜,其中,第二刻槽比第一刻槽深。7.如权利要求3所述的透镜,其中,第二刻槽比第一刻槽宽。8.如权利要求3所述的透镜,其中,由第二刻槽形成的腔的容积比由第一刻槽形成的腔的容积大。9.如权利要求3所述的透镜,其中,第一刻槽包括在第一刻槽的最深的部分处相遇的两个侧面,第一刻槽包括不超过两个的侧面,并且第二刻槽包括超过两个的侧面,所述超过两个的侧面包括在第二刻槽的最深的部分处的平坦表面。10.如权利要求1所述的透镜,其中,透镜在透镜的与包括第一组刻槽和第二组刻槽的表面相对的另外的表面上粘附...

【专利技术属性】
技术研发人员:U·L·布洛克T·J·哈里森努南D·纳扎罗
申请(专利权)人:苹果公司
类型:发明
国别省市:美国;US

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