【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】201480033500
【技术保护点】
式(I)的化合物或其药学上可接受的盐,其中:Y为NH或O;R1为羟基、氟或‑OCD3;R2为氢或氘;或R2为C1‑C6烷基、丙二烯基、C2‑C6烯基或C2‑C6炔基;其各自为任选氘化的且任选被取代的;或R1和R2相连以形成含有一个选自N、O和S的杂原子的3‑6元环烷基环或3‑6元杂环烷基环,其各自为任选被取代的;R3为氢、氘、卤素或‑N3;或R3为C1‑C6烷基、丙二烯基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基、(C3‑C6环烷基)C0‑C4烃基、(4‑6元杂环烷基)C0‑C4烃基、(芳基)C0‑C4烃基或(杂芳基)C0‑C4烃基,其各自为任选氘化的且任选被取代的;且R3'为羟基; ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.04.12 US 61/8114641.式(I)的化合物
或其药学上可接受的盐,其中:
Y为NH或O;
R1为羟基、氟或-OCD3;
R2为氢或氘;或
R2为C1-C6烷基、丙二烯基、C2-C6烯基或C2-C6炔基;其各自为任选氘化的且任选被取代
的;或
R1和R2相连以形成含有一个选自N、O和S的杂原子的3-6元环烷基环或3-6元杂环烷基
环,其各自为任选被取代的;
R3为氢、氘、卤素或-N3;或
R3为C1-C6烷基、丙二烯基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、(C3-C6环烷基)C0-C4烃基、(4-6元杂环
烷基)C0-C4烃基、(芳基)C0-C4烃基或(杂芳基)C0-C4烃基,其各自为任选氘化的且任选被取
代的;且
R3'为羟基;或
R3和R3'合起来形成任选含有一个选自N、O和S的杂原子的3-6元环,所述环任选被一个
或多个独立地选自卤素、羟基、C1-C2烷基和C1-C2烷氧基的取代基取代;
R4为氢、氘、卤素、C1-C2卤烷基或C1-C2卤烷氧基;或R4为C1-C6烷基、丙二烯基、C2-C6烯基、
C2-C6炔基或C1-C6烷氧基,其各自为任选氘化的且任选被取代的;
R5为氢、氘或卤素;或R5为C1-C6烷基、丙二烯基、C2-C6烯基、C2-C6炔基或C1-C6烷氧基,其
各自为任选氘化的且任选被取代的;或
R4和R5合起来形成任选含有一个选自N、O和S的杂原子的3-6元环,所述环任选被一个或
多个独立地选自卤素、羟基、C1-C2烷基和C1-C2烷氧基的取代基取代;
R6为C1-C6烷基、丙二烯基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、(芳基)C0-C2烷基或含有1-3个独立地
选自N、O和S的杂原子的5-6元单环杂芳基或含有1-4个独立地选自N、O和S的杂原子的8-10
元二环杂芳基;R6各自为任选被取代的;
R7为氢、卤素、C1-C2卤烷基或C1-C2卤烷氧基;或R7为C1-C6烷基、丙二烯基、C2-C6烯基、C2-
C6炔基、C1-C6烷氧基、(C3-C6环烷基)C0-C4烷基或(芳基)C0-C2烷基;其各自为任选被取代的;
R8为氢、卤素、C1-C2卤烷基或C1-C2卤烷氧基;或R8为C1-C6烷基、丙二烯基、C2-C6烯基、C2-
C6炔基或C1-C6烷氧基,其各自为任选被取代的;或
R7和R8合起来形成含有一个选自N、O和S的杂原子的3-6元环烷基环或3-6元杂环烷基
环;其各自为任选被取代的;
R9为C1-C6烷基、丙二烯基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、(C3-C7环烷基)C0-C4烃基、(芳基)C0-C4烃基、(3-6元杂环烷基)C0-C4烃基或(杂芳基)C0-C4烃基,其各自为任选被取代的;
B1为选自以下基团的碱:
R10和R11独立地为氢和氘;
R12、R13和R13'独立地为氢、氘、甲基和-CD3;
R14为氢、氘、羟基、氨基、C1-C4烷氧基、氘化C1-C4烷氧基、C1-C4烷基酯或单-或二-C1-C4烷
基氨基甲酸酯;
其中由D表示的各个位置具有至少50%的氘富集度;且
R4和R5中的一个或两个为具有至少50%的氘富集度的氘;且R1、R2、R10、R11、R12、R13、R13'和
R14中的一个或多个任选为具有至少50%的氘富集度的氘;或者氘化取代基,所述取代基的至
少一个位置具有至少50%的氘富集度。
2.权利要求1的化合物或盐,其中
由D表示的各个位置具有至少90%的氘富集度;且
R1、R2、R4、R5、R10、R11、R12、R13、R13'和R14中的一个或多个为具有至少90%的氘富集度的氘;
或者氘化取代基,所述取代基的至少一个位置具有至少90%的氘富集度。
3.权利要求1的化合物或盐,其中
由D表示的各个位置具有至少90%的氘富集度;且
R1、R2、R4、R5、R10、R11、R12、R13、R13'和R14中的至少两个为具有至少90%的氘富集度的氘;或
者氘化取代基,所述取代基的至少一个位置具有至少90%的氘富集度。
4.权利要求1的化合物或盐,其中
由D表示的各个位置具有至少95%的氘富集度;且
R1、R2、R4、R5、R10、R11、R12、R13、R13'和R14中的两个或三个为具有至少95%的氘富集度的氘;
或者氘化取代基,所述取代基的至少一个位置具有至少95%的氘富集度。
5.权利要求1的化合物或盐,其中
由D表示的各个位置具有至少90%的氘富集度;且
R1、R2、R4、R5、R10、R11、R12、R13、R13'和R14中的三个为具有至少90%的氘富集度的氘;或者氘
化取代基,所述取代基的至少一个位置具有至少90%的氘富集度。
6.权利要求1的化合物或盐,其中
由D表示的各个位置具有至少90%的氘富集度;且
至少R4、R5及R12和R13中的一个为具有至少90%的氘富集度的氘;或者氘化取代基,所述
取代基的至少一个位置具有至少90%的氘富集度。
7.权利要求1-6中任一项的化合物或盐,其中Y为NH。
8.权利要求1-7中任一项的化合物或盐,其中
R1为羟基、氟或-OCD3;
R2为氢或氘;或
R2为C1-C6烷基、丙二烯基、C2-C6烯基或C2-C6炔基;其各自为任选氘化的且任选被取代
的。
9.权利要求8的化合物或盐,其中
R1为羟基或氟;且R2为C1-C4烷基、丙二烯基、C2-C4烯基或C2-C4炔基;其各自为任选氘化
的。
10.权利要求8的化合物或盐,其中
R1为羟基或氟;且R2为甲基或-CD3。
11.权利要求1-7中任一项的化合物或盐,其中
R1和R2相连以形成含有一个选自N、O和S的杂原子的3-6元环烷基环或3-6元杂环烷基
环,其各自为任选被取代的。
12.权利要求11的化合物或盐,其中
R1和R2相连以形成含有一个选自N、O和S的杂原子的3-6元环烷基环或3-6元杂环烷基
环,其各自任选被一个或多个独立地选自卤素、羟基、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C1-C2卤烷基
和C1-C2卤烷氧基的取代基取代。
13.权利要求11的化合物或盐,其中R1和R2相连以形成环丙基。
14.权利要求1-13中任一项的化合物或盐,其中R3为氢、氘、卤素或-N3且R3'为羟基。
15.权利要求1-13中任一项的化合物或盐,其中
R3为C1-C4烷基、丙二烯基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、(C3-C6环烷基)C0-C2烷基或(苯基)乙炔
基;且R3'为羟基。
16.权利要求1-13中任一项的化合物或盐,其中
R3和R3'合起来形成任选含有一个选自N、O和S的杂原子的3-6元环,所述环任选被一个
或多个独立地选自卤素、羟基、C1-C2烷基和C1-C2烷氧基的取代基取代。
17.权利要求1-16中任一项的化合物或盐,其中
R4为氢、氘、C1-C2卤烷基或C1-C2卤烷氧基;或R4为C1-C6烷基、丙二烯基、C2-C6烯基、C2-C6炔基或C1-C6烷氧基,其各自为任选氘化的且任选被取代的;
R5为氢或氘;或R5为C1-C6烷基、丙二烯基、C2-C6烯基、C2-C6炔基或C1-C6烷氧基,其各自为
任选氘化的且任选被取代的。
18.权利要求17的化合物或盐,其中
R4为氢或氘,或R4为C1-C4烷基、丙二烯基、C2-C4烯基、C2-C4炔基或C1-C4烷氧基,其各自为
任选氘化的;且
R5为氢或氘;或R5为C1-C6烷基、丙二烯基、C2-C6烯基、C2-C6炔基或C1-C6烷氧基,其各自为
任选氘化的。
19.权利要求18的化合物或盐,其中R4和R5两者都为氘。
20.权利要求1-16中任一项的化合物或盐,其中
R4和R5合起来形成任选含有一个选自N、O和S的杂原子的3-6元环,所述环任选被一个或
多个独立地选自卤素、羟基、C1-C2烷基和C1-C2烷氧基的取代基取代。
21.权利要求1-20中任一项的化合物或盐,其中
R6为C1-C6烷基、丙二烯基、C2-C6烯基、C2-C6炔基,其各自为任选被取代的。
22.权利要求1-20中任一项的化合物或盐,其中
R6为(芳基)C0-C2烷基、含有1-3个独立地选自N、O和S的杂原子的5-6元单环杂芳基或含
有1-4个独立地选自N、O和S的杂原子的8-10元二环杂芳基;R6各自为任选被取代的。
23.权利要求22的化合物或盐,其中
R6为苯基、吡啶基、萘基或吲哚基,其各自任选被一个或多个独立地选自卤素、羟基、C1-
C4烷基、C1-C4烷氧基、(单-和二-C1-C4烷基氨基)C0-C2烷基、C1-C2卤烷基和C1-C2卤烷氧基的
取代基取代。
24.权利要求1-23中任一项的化合物或盐,其中
R7为氢、卤素、C1-C2卤烷基或C1-C2卤烷氧基;或R7为C1-C6烷基、丙二烯基、C2-C6烯基、C2-
C6炔基、C1-C6烷氧基、(C3-C6环烷基)C0-C4烷基或(芳基)C0-C2烷基,其各自为任选被取代的;
且
R8为氢、卤素、C1-C2卤烷基或C1-C2卤烷氧基;或R8为C1-C6烷基、丙二烯基、C2-C6烯基、C2-
C6炔基或C1-C6烷氧基,其各自为任选被取代的。
25.权利要求24的化合物或盐,其中
R7和R8独立地选自氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C1-C2卤烷基和C1-C2卤烷氧基。
26.权利要求1-23中任一项的化合物或盐,其中
R7和R8合起来形成含有一个选自N、O和S的杂原子的3-6元环烷基环或3-6元杂环烷基
环,其各自为任选被取代的。
27.权利要求1-26中任一项的化合物或盐,其中
R9为C1-C6烷基、(C3-C7环烷基)C0-C4烷基或(苯基)C0-C4烷基,其各自为任选被取代的。
28.权利要求27的化合物或盐,其中R9为C1-C6烷基。
29.权利要求1-28中任一项的化合物或盐,其中
B1为选自以下基团的嘧啶碱:
。
30.权利要求1的化合物或盐,其具有式(II):
。
31.权利要求1-6中任一项的化合物或盐,其具有式(II):
或其药学上可接受的盐,其中:
R1为羟基、氟或-OCD3;
R2为氢、-CH3或-CD3;或
R1和R2相连以形成环丙基;
R3为氢或-N3;
R4和R5独立地为氢、氘、甲基或-CD3;
R6为苯基、吡啶基、萘基或吲哚基,其各自任选被一个或多个独立地选自卤素、羟基、氨
基、氰基、-CHO、-COOH、-CONH2、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C1-C6烷氧基、C2-C6烷酰基、C1-C6烷基
酯、(单-和二-C1-C6烷基氨基)C0-C2烷基、C1-C2卤烷基和C1-C2卤烷氧基的取代基取代;
R7为氢、卤素、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C2卤烷基、C1-C2卤烷氧基、(C3-C6环烷基)C0-C4烷基或(芳基)C0-C2烷基;
R8为氢、卤素、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C2卤烷基或C1-C2卤烷氧基;或
R7和R8合起来形成3-6元环烷基环;且
R9为C1-C6烷基、(C3-C7环烷基)C0-C4烷基或(芳基)C0-C4烷基,其各自任选被一个或多个
独立地选自卤素、羟基、氨基、氰基、-CHO、-COOH、-CONH2、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C1-C6烷氧
基、C2-C6烷酰基、C1-C6烷基酯、(单-和二-C1-C6烷基氨基)C0-C2烷基、C1-C2卤烷基和C1-C2卤
烷氧基的取代基取代;
B1为选自以下基团的碱:
其中:
R10和R11独立地为氢和氘;
R12和R13独立地为氢、氘和甲基;
R14为氢、氘、羟基、氨基、C1-C4烷氧基、氘化C1-C4烷氧基、C1-C4烷基酯或单-或二-C1-C4烷
基氨基甲酸酯。
32.权利要求31的化合物或盐...
【专利技术属性】
技术研发人员:M德什潘德,JA威尔斯,A哈施莫托,A法克,
申请(专利权)人:艾其林医药公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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