【技术实现步骤摘要】
本技术涉及显微成像装置。更具体地，本技术涉及一种针对压强可调流场的显微成像装置。
技术介绍
为了了解在不同的压强下，不同流速对微纳米表面结构的浸润特性的影响，通常需要在定量加压(减压)和定量流速下利用显微成像技术进行测量。现有技术中，通常需要利用光刻硅片的方法得到规则排列的微米圆柱孔。图1为一种硅片材料的激光共聚焦显微镜二维扫描图。如图1所示，微米圆柱孔规则排列在硅片上，图中每一个圆代表一个微米圆柱孔。圆柱孔直径为50微米，深度为40微米。针对水下实验环境，观测不同压强下，流体不同流速对微结构中气层的影响。利用激光共聚焦显微镜进行精确的三维成像测量。在测量过程中，由于要使液体流过微米孔上表面，且要进行加压减压，因此，要将硅片放置在可以密封的流道之中。且要保证流道规则可以使得流场稳定。
技术实现思路
本技术提供了一种针对压强可调流场的显微成像装置，包括:测压模块、施压模块、密封流道模块、管道、以及显微镜，其中:施压模块通过管道与密封流道模块相连，在密封流道模块充满流体的情况下向密封流道模块提供静水压强；测压模块包括两部分，第一部分连接到施压模块顶部以测量施压模...
【技术保护点】
一种针对压强可调流场的显微成像装置，包括：测压模块、施压模块、密封流道模块、管道、以及显微镜，其中：施压模块通过管道与密封流道模块相连，在密封流道模块充满流体的情况下向密封流道模块提供静水压强；测压模块包括两部分，第一部分连接到施压模块顶部以测量施压模块顶部所施加的气压，第二部分连接到密封流道模块内的流道中样品附近以测量流动静压；以及流道下壁设置有放置样品的位置，显微镜的镜头设置为面向流道上壁的视窗。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吕鹏宇，相耀磊，段慧玲，
申请(专利权)人：北京大学，
类型：新型
国别省市：北京;11
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