等离子体生成装置及等离子体生成方法制造方法及图纸

技术编号:13238953 阅读:68 留言:0更新日期:2016-05-15 01:03
等离子体生成装置具备:流路,供液体流动,具有形成在与液体接触的内壁面的凹部或凸部,设置有将流路的内部和流路的外部的气体所存在的外部空间连通的气体导入路;送液装置,向流路送出液体;第1电极及第2电极,配置于流路内部;电源,向第1电极和第2电极之间施加规定的电压;控制电路,控制送液装置及电源,使送液装置向流路送出液体,在通过减压空间与外部空间的气压差从外部空间经由气体导入路向液体中导入了气体,并且由该气体产生了气泡的状态下,使电源向第1电极和第2电极之间施加规定的电压,所述减压空间是通过液体在流路的形成有凹部或凸部的部分流动而在流路内部形成的。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
—直以来,对于将等离子体用于液体或气体的净化或杀菌等的技术展开了研究。例如,在专利文献I中公开了通过等离子体产生OH原子团等的活性种、利用产生的活性种来对微生物及细菌进行杀菌的杀菌装置。专利文献I所记载的杀菌装置具备一对电极,向该一对电极间施加2kV/cm?50kV/cm、10Hz?20kHz的负极性的高电压脉冲而进行放电。利用放电的能量所导致的水的蒸发和伴随着冲击波的气化,产生由水蒸气形成的气泡,在该气泡中生成等离子体。专利文献1:特开2009-255027号公报但是,在上述以往的杀菌装置中,存在等离子体的生成效率低的课题。
技术实现思路
本专利技术提供一种能够高效地生成等离子体的。本专利技术的一个方式的等离子体生成装置,具备:流路,供液体流动,具有形成在与所述液体接触的内壁面的凹部或凸部,设置有将流路内部和流路外部的气体所存在的外部空间连通的气体导入路;送液装置,向所述流路送出液体;第I电极及第2电极,配置在所述流路内部;电源,向所述第I电极和所述第2电极之间施加规定的电压;以及控制电路,控制所述送液装置及所述电源,使所述送液装置向所述流路送出所述液体,在通过减压空间与所述外部空间的气压差从所述外部空间经由所述气体导入路向所述流路内部的液体中导入了所述气体,并且由所述气体产生了气泡的状态下,使所述电源向所述第I电极和所述第2电极之间施加规定的电压,所述减压空间是通过所述液体在所述流路的形成有所述凹部或所述凸部的部分流动而在所述流路内部形成的。本专利技术的另一方式的等离子体生成装置,具备:流路,供液体流动,设置有将流路内部和流路外部的气体所存在的外部空间连通的气体导入路;送液装置,向所述流路送出液体;第I电极及第2电极,设置于所述流路内部;电源,向所述第I电极和所述第2电极之间施加规定的电压;控制电路,控制所述送液装置及所述电源,使所述送液装置送出该液体,以使所述液体在所述流路内部回旋,在通过减压空间与所述外部空间的气压差而从所述外部空间经由所述气体导入路向所述流路内部的液体中导入了所述气体,并且由所述气体产生了气泡的状态下,使所述电源向所述第I电极和所述第2电极之间施加规定的电压,所述减压空间是通过所述液体回旋而在所述流路内部形成的。另外,整体或具体的方式也可以通过装置、器件、系统、集成电路及方法来实现。此夕卜,整体或具体的方式也可以通过装置、器件、系统、集成电路及方法的任意组合来实现。公开的实施方式的更多效果及优点在说明书及附图中有详细记载。效果及/或优点通过说明书及附图所公开的各种实施方式和特征来分别提供,得到这些效果及/或优点中的一个并不需要全部实施方式和特征。专利技术的效果:根据本专利技术,不使用导入气体的栗就能够向液体中导入气体。此外,能够在导入的气体内生成等离子体。【附图说明】图1是表示实施方式I的等离子体生成装置的构造的图。图2是表示实施方式I的第I电极的一部分及绝缘体的一部分的构造的立体图。图3A是表示实施方式I的流路的形状的另一例的图。图3B是表示实施方式I的流路的形状的另一例的图。图3C是表示实施方式I的流路的形状的另一例的图。图4是表示实施方式I的等离子体生成装置的动作的流程图。图5是表示实施方式2的等离子体生成装置的构造的图。图6是表不实施方式2的第I电极的一部分及绝缘体的一部分的构造的立体图。符号说明:10、110等离子体生成装置;11液体;12气体;13等离子体;20、20a、20b、20c流路;21、21a凹部;21b、21c、21d凸部;22减压空间;30外部空间;40、140第I电极;41金属电极部;42金属保持部;50第2电极;60绝缘体;61空隙;62开口部;70、170气体导入路;80电源;90控制电路;141中空部【具体实施方式】(本专利技术的概要)为了解决上述课题,本专利技术的一个方式的等离子体生成装置,具备:流路,供液体流动,具有形成在与所述液体接触的内壁面的凹部或凸部,设置有将流路内部和流路外部的气体所存在的外部空间连通的气体导入路;送液装置,向所述流路送出液体;第I电极及第2电极,配置在所述流路内部;电源,向所述第I电极和所述第2电极之间施加规定的电压;以及控制电路,控制所述送液装置及所述电源,使所述送液装置向所述流路送出所述液体,在通过减压空间与所述外部空间的气压差从所述外部空间经由所述气体导入路向所述流路内部的液体中导入了所述气体,并且由所述气体产生了气泡的状态下,使所述电源向所述第I电极和所述第2电极之间施加规定的电压,所述减压空间是通过所述液体在所述流路的形成有所述凹部或所述凸部的部分流动而在所述流路内部形成的。由此,不必使用栗等的气体供给装置,通过利用流路内部的减压空间与外部空间的气压差由流路内部吸入外部空间的气体,能够向流路内部供给气体。由此,不必使用栗等,就能够向流路内部的液体中供给气体,能够高效地在向流路内部供给的气体中生成等离子体。此外,例如也可以是,所述凹部是在相对于所述液体在所述流路内流动的方向垂直的截面上比周围凹陷的部分,并且是在相对于该方向平行的截面上比周围凹陷的部分,所述凸部是在相对于所述液体在所述流路内流动的方向垂直的截面上比周围突出的部分,并且是在相对于该方向平行的截面上比周围突出的部分。由此,通过在流路的内壁面设置凹部或凸部这样的简单的构成,能够使在流路内部流动的液体回旋。因此,不需要使用例如用于使液体回旋的风扇等,能够实现省功率化及小型化等。此外,例如也可以是,还具备绝缘体,该绝缘体以隔着空隙包围所述第I电极的方式配置,并且具有将所述外部空间和所述空隙和所述流路内部连通的开口部,所述气体导入路由所述空隙和所述开口部构成。由此,能够将与覆盖第I电极的绝缘体之间的空隙作为气体导入路利用,所以导入的气体容易覆盖第I电极。因此,在气体覆盖第I电极的状态下施加电压变得容易,能够将电力有效地用于等离子体的生成,能够有效地生成等离子体。此外,例如也可以是,所述第I电极是具有中空部的筒状电极,该中空部沿长度方向贯通,并且将所述外部空间和所述流路内部连通,所述气体导入路由所述中空部构成。由此,能够将贯通第I电极的中空部作为气体导入路利用,所以导入的气体容易覆盖第I电极。因此,在气体覆盖第I电极的状态下施加电压变得容易,能够将电力有效地用于等离子体的生成,能够有效地生成等离子体。此外,本专利技术的另一个方式的等离子体生成装置,具备:流路,供液体流动,设置有将流路内部和流路外部的气体所存在的外部空间连通的气体导入路;送液装置,向所述流路送出液体;第I电极及第2电极,设置于所述流路内部;电源,向所述第I电极和所述第2电极之间施加规定的电压;控制电路,控制所述送液装置及所述电源,使所述送液装置送出该液体,以使所述液体在所述流路内部回旋,在通过减压空间与所述外部空间的气压差而从所述外部空间经由所述气体导入路向所述流路内部的液体中导入了所述气体,并且由所述气体产生了气泡的状态下,使所述电源向所述第I电极和所述第2电极之间施加规定的电压,所述减压空间是通过所述液体回旋而在所述流路内部形成的。由此,不必使用栗等的气体供给装置,利用流路内部的减压空间与外部空间的气压差由流路内部吸入外部空间的气体,从而向流路内部供给气体。由此,不必使本文档来自技高网...
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【技术保护点】
一种等离子体生成装置,具备:流路,供液体流动,具有形成在与所述液体接触的内壁面的凹部或凸部,设置有将流路内部和流路外部的气体所存在的外部空间连通的气体导入路;送液装置,向所述流路送出液体;第1电极及第2电极,配置在所述流路内部;电源,向所述第1电极和所述第2电极之间施加规定的电压;以及控制电路,控制所述送液装置及所述电源,使所述送液装置向所述流路送出所述液体,在通过减压空间与所述外部空间的气压差从所述外部空间经由所述气体导入路向所述流路内部的液体中导入的所述气体形成了气泡的状态下,使所述电源向所述第1电极和所述第2电极之间施加规定的电压,所述减压空间是通过所述液体在所述流路的形成有所述凹部或所述凸部的部分流动而在所述流路内部形成的。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:今井伸一
申请(专利权)人:松下知识产权经营株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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