【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于制造反射式隐藏镜面的间隙壁的制造方法,其特征在于其至少包含: 形成一I型镜面结构; 形成一间隙壁层于该I型镜面结构上;以及 图案化该间隙壁层,以沿着该I型镜面结构的一侧形成至少一间隙壁。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴善华,陈斐筠,王薇雅,刘鸿兴,潘升良,
申请(专利权)人:台湾积体电路制造股份有限公司,
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。