【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种具有高开关比的光开关的制备方法，其特征是向载有透明电极的基片上旋涂一层有机聚合物绝缘层，聚合物绝缘层的厚度为１０～２００ｎｍ，再把涂有聚合物绝缘层的玻璃基片置于真空腔内，覆盖以掩膜板，在真空条件下热蒸发沉积顶端电极层，向透明电极和顶端金属电极之间施加２～３０Ｖ的电压，以使纳米金属细丝在聚合物绝缘层中形成。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李立东，徐新军，于贵，魏大程，狄重安，刘云圻，
申请(专利权)人：北京科技大学，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]
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