【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种基于微观层流控制的各向同性材料高深宽比结构刻蚀方法,其特征在于:通过机械加工工艺加工出三路进口、一路出口的流道阳模,采用PDMS材料以阳模为模具铸造出内流道结构的PDMS薄膜,再将已成型的PDMS薄膜与表面抛光的各向同性材料键合使内流道密封,三路进口的中间进口为刻蚀剂入口,另外两路为隔离剂入口,通过控制三路流体的流量比,控制各向同性材料表面的刻蚀宽度和刻蚀位置,同时由于隔离剂的存在,侧向刻蚀可控,从而实现深宽比大于1的刻蚀方法。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:谢海波,郑毅,傅新,杨华勇,
申请(专利权)人:浙江大学,
类型:发明
国别省市:86[中国|杭州]
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