本发明专利技术的EL用光提取薄膜包含扩散层和凹凸结构层，所述扩散层包含第1光扩散微粒，所述凹凸结构层根据需要包含第2光扩散微粒，所述EL用光提取薄膜满足Px-Py≥5质量％，其中，Px表示所述第1光扩散微粒相对于所述扩散层总质量的含有率，Py表示所述第2光扩散微粒相对于所述凹凸结构层总质量的含有率。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术设及化用光提取薄膜、化用光提取薄膜的制造方法W及面发光体。 本申请基于2013年6月12日在日本提出的特愿2013-123456号专利申请主张优先 权，此处引用其内容。
技术介绍
面发光体中，有机化(有机电致)发光元件有望用于代替平板显示器、日光灯等的 二代照明。 有机化发光元件的结构从构成发光层的有机薄膜仅由两个电极夹持的简单结构 到含有发光层且有机薄膜多层化的结构，多种多样。后者的多层化结构可W例举在设置于 玻璃基板上的阳极上层叠空穴输送层、发光层、电子输送层、阴极的结构。夹持在阳极和阴 极之间的层均由有机薄膜构成，各有机薄膜的厚度非常薄，为数十nm。 有机发光元件是薄膜的层叠体，由各薄膜材料的折射率之差决定薄膜间的光的 全反射角。现状是，发光层中产生的光的约80%被封闭在有机化发光元件内部，不能被提取 至外部。具体而言，如果设玻璃基板的折射率为1.5、空气层的折射率为1.0,则临界角Θ。为 41.8°，入射角比该临界角Θ。小的的光从玻璃基板射出到空气层，但入射角大于该临界角0C 的光则全反射而被封闭在玻璃基板内部。因此，需要将封闭在有机化发光元件表面的玻璃 基板内部的光提取到玻璃基板外部，即，需要提高光提取效率。 此外，关于进行各向同性发光的有机化发光元件，要求在提高光提取效率的同时， 来自有机化发光元件的出射光波长的出射角度依赖性小。即，来自发光层的出射光通过玻 璃基板从玻璃基板射出光时，波长引起的出射角度的差异小，换言之，来自玻璃基板的出射 光分布中波长依赖性尽可能少。 为解决上述课题，专利文献1提出由粒子随着靠近光出射面侧而增加的扩散层W 及含有粒子的凹凸结构层构成的透镜片。[000引现有技术文献 专利文献 专利文献1:日本国专利第5157294号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题 但是，专利文献1中记载的透镜片中，虽然面发光体的出射光波长的出射角度依赖 性得到抑制，但是面发光体的光提取效率差。此外，粒子随着靠近光出射面侧而增加等的扩 散层中的粒子的分布不均，在制造工艺上困难，透镜片的生产率差。 因此，本专利技术的目的在于提供兼顾提高面发光体的光提取效率和抑制面发光体的 出射光波长的出射角度依赖性的化用光提取薄膜、生产率优异的化用光提取薄膜的制造方 法、W及兼顾提高光提取效率和抑制出射光波长的出射角度依赖性的面发光体。 解决技术课题的方法 本专利技术提供用于解决上述课题的化用光提取薄膜、化用光提取薄膜的制造方法W 及面发光体，包括W下记载的方式。 (1) 一种化用光提取薄膜，是包含扩散层W及凹凸结构层的化用光提取薄膜，其特 征在于，所述扩散层包含第1光扩散微粒，所述凹凸结构层根据需要包含第2光扩散微粒，所 述化用光提取薄膜满足下式（1)， Px-Py^质量％ (1) (Px表示所述第1光扩散微粒相对于所述扩散层总质量的含有率，Py表示所述第2 光扩散微粒相对于所述凹凸结构层总质量的含有率。） (2)如（1)所述的化用光提取薄膜，所述化用光提取薄膜还包含基材，所述基材上 依序具有所述扩散层、所述凹凸结构层。 (3)如（1)或(2)所述的化用光提取薄膜，所述第1光扩散微粒相对于所述扩散层总 质量的含有率Px为10质量％ W上。 (4)如（1)~（3)中任一项所述的化用光提取薄膜，所述扩散层含有第1树脂，所述 扩散层中含有的所述第1光扩散微粒在所述第1树脂中均匀分散。 (5)如(4)所述的化用光提取薄膜，所述第1树脂的折射率Rxm与所述扩散层中含有 的所述第1光扩散微粒的折射率Rxp之差为0.05~0.30。 (6)如(4)或（5)中任一项所述的化用光提取薄膜，所述第1树脂的折射率Rxm与所 述扩散层中含有的所述第1光扩散微粒的折射率Rxp之差为0.15~0.30。 (7)如（1)~(6)中任一项所述的化用光提取薄膜，所述扩散层的厚度为1皿~50μ ΓΠ 〇 (8)如（1)~(7)中任一项所述的化用光提取薄膜，所述第2光扩散微粒相对于所述 凹凸结构层总质量的含有率巧为20质量％ W下。 (9)如（1)~(8)中任一项所述的化用光提取薄膜，所述凹凸结构层中实质上不含 所述第2光扩散微粒。 (10)如（1)~(9)中任一项所述的化用光提取薄膜，所述凹凸结构层含有第2树脂， 所述第2树脂的折射率Rym为1.40~1.80。[002引（11)如（10)所述的化用光提取薄膜，所述第2树脂的折射率Rym为1.55~1.80。 (12)-种面发光体，含有（1)~（11)中任一项所述的化用光提取薄膜W及化发光 元件。 (13)如（12)所述的面发光体，所述面发光体的色度变化量Au'v'为0.01 W下。 (14化L用光提取薄膜的制造方法，在扩散片和具有凹凸结构的转印部的模具之间 供给活性能量射线固化树脂组合物，向所述活性能量射线固化树脂组合物照射活性能量射 线。 专利技术效果 通过本专利技术的化用光提取薄膜，可W获得光提取效率优异、抑制出射光波长的出 射角度依赖性的面发光体。此外，本专利技术的化用光提取薄膜的制造方法，生产率优异，可W 通过获得的化用光提取薄膜，得到光提取效率优异、抑制出射光波长的出射角度依赖性的 面发光体。此外，本专利技术的面发光体，光提取效率优异，可W抑制出射光波长的出射角度依 赖性。【附图说明】 图1是表示本专利技术的化用光提取薄膜的截面的一例的示意图。 图2A是从光学薄膜的上方看到的本专利技术的化用光提取薄膜的凹凸结构的配置例 的示意图。 图2B是从光学薄膜的上方看到的本专利技术的化用光提取薄膜的凹凸结构的配置例 的示意图。 图2B是从光学薄膜的上方看到的本专利技术的化用光提取薄膜的凹凸结构的配置例 的示意图。 图2C是从光学薄膜的上方看到的本专利技术的化用光提取薄膜的凹凸结构的配置例 的示意图。 图2D是从光学薄膜的上方看到的本专利技术的化用光提取薄膜的凹凸结构的配置例 的示意图。 图2E是从光学薄膜的上方看到的本专利技术的化用光提取薄膜的凹凸结构的配置例 的示意图。 图2F是从光学薄膜的上方看到的本专利技术的化用光提取薄膜的凹凸结构的配置例 的示意图。 图3A是表示本专利技术的化用光提取薄膜的凹凸结构的一例的示意图。 图3B是表示本专利技术的化用光提取薄膜的凹凸结构的一例的示意图。 图4是从光学薄膜的上方看到的本专利技术的化用光提取薄膜的一例的示意图。 图5是表示本专利技术的面发光体的一例的示意图。 图6是用扫描型显微镜拍摄的实施例4制造的化用光提取薄膜的截面图像。 图7是用扫描型显微镜拍摄的比较例1制造的化用光提取薄膜的截面图像。[004引符号说明 10化用光提取薄膜11凹凸结构层 12扩散层 13中间层 14凹凸结构 15凹凸结构的底面部 16 基材 21粘结层 22保护薄膜[0化引 30化发光元件 31玻璃基板 32 阳极 33发光层 34 阴极【具体实施方式】 W下结合附图对本专利技术的实施方式进行说明，但本专利技术不局限于运些附图。 化L用光提取薄膜10) 本专利技术的化用光提取薄膜10包含扩散层12W及凹凸结构层11。 本专利技术的化用光提取薄膜10可W例举，在层叠于如图1所示的基材16上的扩散层 12上隔着中间层13层叠有凹凸结构层11的化用光提取薄膜10等。 从生产率和操作性优异、面发光体的光提取效率优异运些方面考本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种EL用光提取薄膜，是包含扩散层和凹凸结构层的EL用光提取薄膜，其特征在于，所述扩散层包含第1光扩散微粒，所述凹凸结构层根据需要包含第2光扩散微粒，所述EL用光提取薄膜满足下式(1)，Px‑Py≥5质量％ (1)Px表示所述第1光扩散微粒相对于所述扩散层总质量的含有率，Py表示所述第2光扩散微粒相对于所述凹凸结构层总质量的含有率。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：越峠晴贵，
申请(专利权)人：三菱丽阳株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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