曝光机及光罩洁净设备制造技术

本发明专利技术提供一种曝光机及光罩洁净设备，该光罩洁净设备设置在曝光机内，用于对曝光机内的光罩进行清洁，该光罩洁净设备包括箱体、移动台、离子气枪以及紫外线灯管，其中，箱体设有快门；移动台设于箱体内，用于从快门处接收光罩并在箱体内移动；离子气枪设于箱体内，用于吹出离子风以清除光罩上的杂尘；紫外线灯管设于箱体内，用于发出紫外线以分解光罩上的有机物。本发明专利技术提供的曝光机及其光罩洁净设备使得光罩可以在曝光机内部进行清洁，不用拿出曝光机之外进行清洁，大大提高了工作效率和产能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶面板制造
，特别涉及一种曝光机及光罩洁净设备。
技术介绍
液晶显示装置具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用，如:移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。通常液晶显示装置包括壳体、设于壳体内的液晶面板及设于壳体内的背光模组。其中，液晶面板的结构主要是由薄膜晶体管阵列基板(TFT基板)、彩色滤光片基板(CF基板)以及配置于两基板间的液晶层构成，其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。其中，TFT基板制程中需要用到曝光机对已完成光阻涂布的玻璃基板进行曝光。而为了避免光罩(Mask)表面的异物对制程造成影响，需要保证光罩的洁净度，一旦检测到光罩表面的洁净度不达标时，需要工程师手动将光罩取出并进行清洁，影响工作效率进而影响产能。
技术实现思路
本专利技术提供一种曝光机及光罩洁净设备，以解决现有技术中光罩洁净需要在曝光机外部进行，影响工作效率进而影响产能的问题。为解决上述技术问题，本专利技术采用的一个技术方案是:提供一种光罩洁净设备，所述光罩洁净设备设置在曝光机内，用于对曝光机内的光罩进行清洁，所述光罩洁净设备包括:箱体，设有快门；移动台，设于所述箱体内，用于从所述快门处接收光罩并在所述箱体内移动；离子气枪，设于所述箱体内，用于吹出离子风以清除所述光罩上的杂尘；紫外线灯管，设于所述箱体内，用于发出紫外线以分解所述光罩上的有机物。根据本专利技术一优选实施例所述箱体由上板、下板和侧板围合而成，所述快门设置在所述侧板上。根据本专利技术一优选实施例所述移动台包括导轨和设于所述导轨上的支撑台，所述支撑台在所述导轨上往复移动。根据本专利技术一优选实施例所述支撑台包括竖架和支撑板，所述竖架设于所述导轨上，所述支撑板设于所述竖架的顶部。根据本专利技术一优选实施例所述支撑台进一步包括设于所述竖架之间且位于所述支撑台下方的横架。根据本专利技术一优选实施例所述支撑台上设有支撑销，所述支撑销用于将所述光罩夹持固定并间隔支撑在所述支撑台的上方。根据本专利技术一优选实施例所述离子气枪包括在所述移动台移动方向上前后设置的多个。根据本专利技术一优选实施例所述离子气枪包括在所述移动台移动方向上前后设置的两个，所述紫外线灯管设置在所述离子气枪之间，所述移动台从所述快门处接收光罩并在所述箱体内移动时，所述光罩移动至第一离子风枪处，所述第一离子风枪开始清洁大的杂尘，同时移动经过所述紫外线灯管照射分解光罩上的有机物，再通过第二离子风枪清洁所述光罩表面，除去表面附着物。根据本专利技术一优选实施例所述光罩洁净设备还包括设于所述箱体的吸风机以提供负压，以及设于所述箱体内壁的排气过滤层以吸附收集从所述光罩表面清洁出的杂尘。为解决上述技术问题，本专利技术采用的另一个技术方案是:提供一种曝光机，该曝光机用于通过光罩进行曝光作业，所述曝光机内设有机械传送手及上述的光罩洁净设备，所述光罩由所述机械传送手经所述快门送至所述移动台。本专利技术的有益效果是:区别于现有技术的情况，本专利技术提供的曝光机及其光罩洁净设备使得光罩可以在曝光机内部进行清洁，不用拿出曝光机之外进行清洁，大大提高了工作效率和产能。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图，其中:图1是本专利技术优选实施例的曝光机的简化结构示意图；图2是本专利技术优选实施例的光罩洁净设备的前视简化结构透示图；图3是本专利技术优选实施例的光罩洁净设备的左视简化结构透示图；图4是本专利技术优选实施例的光罩洁净设备的俯视简化结构透示图。【具体实施方式】下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅图1，本专利技术提供一种曝光机20，该曝光机20用于通过光罩30对涂覆好光阻的玻璃基板(图示未)进行曝光作业，曝光机20内设有机械传送手40及光罩洁净设备10，光罩30由机械传送手40经光罩洁净设备10的快门111送至光罩洁净设备10内的移动台120(见图2)并进行清洁。具体而言，请一并参阅图2至图4，图2至图4示意了本专利技术优选实施例的光罩洁净设备的三视图。如图2至图4所示，本专利技术提供一种光罩洁净设备10，该光罩洁净设备10设置在曝光机20内，用于对曝光机20内的光罩30进行清洁，该光罩洁净设备10主要包括箱体110、移动台120、离子气枪130以及紫外线灯管140。其中，箱体110，设有快门(shutter门)111，快门11可以迅速开关，以避免杂尘进入。移动台120设于箱体110内，用于从快门111处接收光罩30并在箱体110内往复移动。离子气枪130设于箱体110内，用于吹出离子风以清除光罩30上的杂尘。紫当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光罩洁净设备，其特征在于，所述光罩洁净设备设置在曝光机内，用于对曝光机内的光罩进行清洁，所述光罩洁净设备包括：箱体，设有快门；移动台，设于所述箱体内，用于从所述快门处接收光罩并在所述箱体内移动；离子气枪，设于所述箱体内，用于吹出离子风以清除所述光罩上的杂尘；紫外线灯管，设于所述箱体内，用于发出紫外线以分解所述光罩上的有机物。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王轩，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44