一种具有祛痘且抑制痘痕生成功能的组合物及其应用制造技术

技术编号:13109648 阅读:120 留言:0更新日期:2016-03-31 14:45
本发明专利技术涉及一种具有祛痘且抑制痘痕生成功能的组合物,包括A组分和B组分,其中A组分包括:植物甾醇0.1~1份、穗花牡荆油0.1~1份、红没药醇0.1~1份和甘草次酸硬脂醇酯0.1~1份;B组分包括:根皮素0.1~1份、甜菜碱水杨酸盐0.1~2份、乙酰壳糖胺0.5~5份、肝素钠0.05~1份和积雪草苷0.1~1份;A组分和B组分重量份比例为0.4~4:0.85~10。本发明专利技术的特点是所有原料均收录于中国《已批准使用化妆品原料目录》,以天然来源的高纯度原料成分来制备,避免使用植物粗提物来制备祛痘原料用量大、产品见效慢的问题,本发明专利技术制备的祛痘痕产品具有软化角质、抑菌消炎、抑制痘和痘疤的生成功能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及化妆品领域,具体涉及一种具有祛痘且抑制痘痕生成功能的化妆品组 合物及其应用。
技术介绍
痘是指青春痘,是痤疮的俗称,又称"暗疮"、"粉刺",痤疮的发生主要与皮脂分泌 过多、毛囊皮脂腺导管堵塞、细菌感染和炎症反应等因素密切相关。进入青春期后人体内雄 激素特别是睾酮的水平迅速升高,促进皮脂腺发育并产生大量皮脂。同时毛囊皮脂腺导管 的角化异常造成导管堵塞,皮脂排出障碍,形成角质栓即微粉刺。毛囊中多种微生物尤其是 痤疮丙酸杆菌大量繁殖,痤疮丙酸杆菌产生的脂酶分解皮脂生成游离脂肪酸,同时趋化炎 症细胞和介质,最终诱导并加重炎症反应。 痘痕又称痘疤,是机体对组织损伤产生的一种修复反应,当皮肤的损伤深及真皮 或大面积的表皮缺损,该部位的表皮不能再生,将由真皮纤维细胞,胶原以及增生的血管所 取代,这样就出现了痘疤。痘疤是因为感染发炎或外力挤压所形成,往往是因为在青春痘发 作时没有得到及时适当的治疗,皮肤细胞的发炎反应造成了对皮肤组织的破坏,造成了疤 痕的产生。由于青春痘的种类各式各样,所以青春痘疤的形式也有好多种,而青春痘发作时 的发炎反应越严重,皮肤组织也破坏得越厉害;本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有祛痘且抑制痘痕生成功能的组合物,其特征在于,包括A组分和B组分,所述A组分包括如下重量份的原料:植物甾醇0.1~1份、穗花牡荆油0.1~1份、红没药醇0.1~1份和甘草次酸硬脂醇酯0.1~1份;所述B组分包括如下重量份的原料:根皮素0.1~1份、甜菜碱水杨酸盐0.1~2份、乙酰壳糖胺0.5~5份、肝素钠0.05~1份和积雪草苷0.1~1份;A组分和B组分重量份比例为0.4~4:0.85~10。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:殷传江杨敏
申请(专利权)人:广州豆乎生物科技有限公司殷传江杨敏
类型:发明
国别省市:广东;44

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