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基于瓦片的图形处理方法和装置制造方法及图纸

技术编号:13106589 阅读:99 留言:0更新日期:2016-03-31 12:36
本文提供一种基于瓦片的图形处理方法和装置。瓦片元数据包括标志数据(tfd),例如透明性及/或强度标志数据,该标志数据指示给定输入图形瓦片对于对应输出图形瓦片所作的贡献是小于预定第一贡献阈值水平,还是大于预定第二贡献阈值水平。例如,如若输入图形瓦片是透明的,则自存储器(6)中对输入图形瓦片的读取及/或后续处理可被抑制。如若给定输入图形瓦片是不透明的,则任何不透明的下层输入图形瓦片的读取及/或进一步处理可被抑制。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及图形处理领域。更具体而言,本专利技术涉及基于瓦片的图形处理,在该图形处理中,图像被分为许多瓦片(tile),这些瓦片依次被单独处理以便生成全帧图像。
技术介绍
已知提供基于瓦片的图形处理系统以便降低存储器带宽需求。在自主存储器读取及向主存储器写入大量图形数据时所消耗的能量及时间可能相当大。可减少存储器通信量或所执行处理的量以便生成图形数据的输出帧的措施是合乎需要的。
技术实现思路
从一方面可见,本专利技术提供用于处理图形数据以生成多个输出图形瓦片的设备,这些瓦片共同形成输出图形帧,该设备包括:合成电路系统,被配置以针对共同瓦片区域结合一个或更多个输入图形瓦片以形成针对共同瓦片区域的输出图形瓦片;其中所述一个或更多个输入图形瓦片中的每一者具有关联的瓦片标志数据;及行为修正电路系统,被配置以读取所述一个或更多个输入图形瓦片针对所述共同瓦片区域的瓦片标志数据,并且被配置以依据瓦片标志数据控制对所述一个或更多个输入图形瓦片的处置。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于处理图形数据以生成多个输出图形瓦片的设备,所述瓦片共同形成一输出图形帧,该设备包括:合成电路系统,被配置以针对共同瓦片区域结合一个或更多个输入图形瓦片以形成针对所述共同瓦片区域的输出图形瓦片;其中所述一个或更多个输入图形瓦片中的每一者具有关联的瓦片标志数据;及行为修正电路系统,被配置以读取所述一个或更多个输入图形瓦片针对所述共同瓦片区域的瓦片标志数据,并且依据瓦片标志数据控制对所述一个或更多个输入图形瓦片的处置。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.08.14 GB 1314556.01.一种用于处理图形数据以生成多个输出图形瓦片的设备,所述瓦片
共同形成一输出图形帧,该设备包括:
合成电路系统,被配置以针对共同瓦片区域结合一个或更多个输入图
形瓦片以形成针对所述共同瓦片区域的输出图形瓦片;
其中所述一个或更多个输入图形瓦片中的每一者具有关联的瓦片标志
数据;及
行为修正电路系统,被配置以读取所述一个或更多个输入图形瓦片针
对所述共同瓦片区域的瓦片标志数据,并且依据瓦片标志数据控制对所述
一个或更多个输入图形瓦片的处置。
2.如权利要求1所述的设备,其中所述关联的瓦片标志数据可指示以
下各者中一者或更多者:
(i)输入图形瓦片对于所述输出图形瓦片作出的贡献小于第一贡献阈
值水平;及
(ii)输入图形瓦片对于所述输出图形瓦片作出的贡献大于第二贡献
阈值水平。
3.如权利要求1和2中任一项所述的设备,包括:
存储器,被配置以储存输入图形瓦片;及
瓦片读取电路系统,耦接至所述存储器并被配置以从所述存储器中读
取输入图形瓦片;其中
所述行为修正电路系统包括瓦片读取抑制电路系统,该瓦片读取抑制
电路系统耦接至所述瓦片读取电路系统并被配置以读取所述一个或更多个
输入图形瓦片针对所述共同瓦片区域的瓦片标志数据并依据瓦片标志数据
控制所述一个或更多个输入图形瓦片中各者从所述存储器的读取。
4.如权利要求1所述的设备,其中所述瓦片标志数据是透明性标志数
据,该透明性标志数据可指示以下各者中一者或更多者:
(i)大于输入图形瓦片中至少一部分的第一透明性阈值水平;及
(ii)小于输入图形瓦片中至少一部分的第二透明性阈值水平。
5.如权利要求4所述的设备,其中储存在所述存储器中的输入图形瓦
片中的至少一者包括逐个像素透明性数据,该数据独立地规定每一像素的
透明度,该透明度控制由所述合成电路系统进行的输入图形瓦片的混合。
6.如权利要求5所述的设备,其中所述逐个像素透明性数据作为输入
图形瓦片的每一像素的单独α平面数据储存。
7.如权利要求1所述的设备,其中所述瓦片标志数据是强度标志数
据,该强度标志数据可指示以下各者中一者或更多者:
(i)小于输入图形瓦片中至少一部分的第一强度阈值水平;及
(ii)大于输入图形瓦片中至少一部分的第二强度阈值水平。
8.如权利要求7所述的设备,其中在所述输入图形瓦片内的像素的强
度值与所述第一阈值水平及所述第二阈值水平比较之前藉由透明性值而调
变。
9.如权利要求8所述的设备,其中所述输入图形瓦片包括颜色成分像
素值,并且所述瓦片读取抑制电路系统被配置以抑制对具有以下颜色成分
值的瓦片的读取:所述颜色成分值小于第一预定强度和大于第二预定强度
中的一者。
10.如权利要求9所述的设备,其中所述像素值位于像素颜色空间
中,该像素颜色空间是以下各者之一:RGB、sRGB,及YUV。
11.如权利要求1所述的设备,其中所述读取抑制电路系统被配置以
藉由一操作响应于瓦片标志,该瓦片标志指示小于给定第一输入图形瓦片
的至少一部分的第一贡献阈值水平,所述操作是抑制对所述第一给定输入
图形瓦片的所述至少一部分的读取。
12.如权利要求1所述的设备,其中所述一个或更多个输入图形瓦片
具有各自关联的优先值,这些优先值指示一相对排序,所述一个或更多个
输入图形瓦片利用该相...

【专利技术属性】
技术研发人员:达伦·克罗克斯福特托马斯·詹姆斯·库克西斯恩·特里斯拉姆·艾利斯
申请(专利权)人:ARM有限公司
类型:发明
国别省市:英国;GB

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