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通过在空间上和/或在时间上改变采样模式增强抗锯齿制造技术

技术编号:13014717 阅读:68 留言:0更新日期:2016-03-16 13:18
本发明专利技术公开了通过在空间上和/或在时间上改变采样模式增强抗锯齿的技术。光栅单元配置为针对给定帧内的相邻像素生成不同的采样模式。此外,光栅单元可以调整帧之间的采样模式。光栅单元包括索引单元,其选择采样模式表用于当前帧使用。对于给定像素,索引单元从所选择的采样模式表中提取采样模式。所提取的采样模式用来生成用于像素的覆盖信息。用于所有像素的覆盖信息随后用来生成图像。结果图像可随后被滤波以较少或移除由采样位置的改变所引起的伪影。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的实施例总地涉及图形处理,并且更具体地,涉及通过在空间上和/或在时间上改变采样模式(sample pattern)增强抗锯齿。
技术介绍
在图形处理管线中,光栅化器典型地负责基于与图形场景相关联的几何体计算用于像素的覆盖信息。例如,针对给定像素,光栅化器可以确定图形场景中的三角形覆盖该像素。于是稍后在管线中,可以基于三角形的颜色为像素着色。光栅化器通过确定几何体是否在像素内的一个或多个覆盖采样位置处覆盖像素来计算用于像素的覆盖信息。在采样配置中,通过测试几何体是否覆盖像素的中心来确定覆盖,此处使用像素的中心作为覆盖采样位置。然而,这种形式的采样可能不准确,尤其是对于复杂的形状。因此,现代着色器常采用多采样方法,其中在多个不同的覆盖采样位置处测试像素内的覆盖。多个采样的位置通常是固定的并且从像素到像素是完全相同的,以反映已在经验上被确定为针对一系列图形场景产生准确覆盖信息的具体采样模式。上述方法的一个缺点是经由常规多采样产生的图像的质量依赖于每像素所使用的采样位置的数目。因此,为了生成较高质量的图像,必须实现较多的采样位置。然而,这些附加的采样位置引发显著的开销。特本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种图形子系统,包括:第一采样模式表,所述第一采样模式表包括第一多个条目;以及索引单元,所述索引单元配置为:生成到所述第一采样模式表的第一索引,所述第一索引引用所述第一多个条目中所包括的条目的第一子集,以及从所述第一采样模式表中提取所述条目的第一子集,其中所述条目的第一子集中所包括的第一条目指示第一帧的第一像素内的第一位置,第一样本将在所述第一位置处生成。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:尤里·乌拉尔斯基乔纳·M·阿尔本格里高利·马萨尔安卡·班纳吉托马斯·彼得森奥列格·库兹涅佐夫埃里克·B·卢姆帕克夏普·梅塔
申请(专利权)人:辉达公司
类型:发明
国别省市:美国;US

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