本发明专利技术公开了一种抗电磁波增亮膜及其制备方法，提升其使用性能。本发明专利技术包含有上增亮膜与下增亮膜，上增亮膜包含A基材、抗电磁结构层以及扩散层；A基材包含A光学面和B光学面，抗电磁结构层设置在A基材的A光学面，扩散层层叠在A基材的B光学面；下增亮膜包括B基材、B棱镜结构层，B棱镜结构层设置在B基材上。本发明专利技术能具有抗电磁波功能，优化增亮膜的功能，同时该制备方法简单，适用于大量生产。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光学保护膜，尤其是涉及一种液晶显示器背光模组中的抗电磁波 增亮膜。
技术介绍
液晶显示器有着能耗低、重量轻、无辐射、无闪烁等优点，是目前市面上主流的显 示器，但液晶作为一种被动发光材料，需要依靠背光模组才能实现图像的显示，一般来说， 背光模组由光源、反射膜、导光板、光学模组组成，其中光学模组包含下增亮膜、上增亮膜， 增亮膜一般包含基材和棱镜结构层，上增亮膜含雾化层。而目前市场上的增亮膜功能比较 单一，不具备抗电磁波的功能，不能满意满足市场的需求。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服现有技术的不足，提供一种抗电磁波增亮膜，提升其使 用性能。 为达到上述目的，本专利技术采用以下方案： -种抗电磁波增亮膜，包含有：上增亮膜与下增亮膜，上增亮膜包含A基材、抗电 磁结构层以及扩散层；A基材包含A光学面和B光学面，抗电磁结构层设置在A基材的A光 学面，扩散层层叠在A基材的B光学面；下增亮膜包括B基材、B棱镜结构层，B棱镜结构层 设置在B基材上；抗电磁结构层为添加有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂结构层；上增亮膜 与下增亮膜的棱镜单体长度方向相互垂直，即抗电磁结构层与B棱镜结构层的棱镜单体长 度方向相互垂直；棱镜单体截面为一等腰三角形，抗电磁结构层与B棱镜结构层的棱镜高 度d2为15~30μm，棱镜单体之间的间距d4为20~40μm，棱镜单体截面为等腰三角形， 顶角角度α为85~95°。 在其中一些实施例中，所述Α基材与Β基材为PET膜、PC膜或ΡΜΜΑ膜，Α基材与Β 基材厚度d0为23~100μm;扩散层为添加有光扩散粒子的扩散层，扩散层厚度d3为4~ 10μm〇 在其中一些实施例中，所述扩散层和抗电磁结构层分置在A基材的两面，B棱镜结 构层由若干平行的丙烯酸类树脂棱镜单体组成。 在其中一些实施例中，所述扩散层的原料组成及重量份为： 丙烯酸类树脂40~75份， 光扩散粒子 3~15份； 光扩散粒子为ΡΜΜΑ粒子、PS粒子、Si02粒子或TiO2粒子的一种及其组合，粒子大 小为2~5urn。 在其中一些实施例中，所述抗电磁结构层的原料组成及重量份为： 丙烯酸类树脂40~75份， 抗电磁波材料8~26份； 抗电磁波材料的原料组成及重量份为： 纳米银颗粒 2CH35份， 溶剂 46~70份， 增稠剂 4~5.5份, 分散剂 3~5份； 溶剂为松油醇（1~5份）与无水乙醇（45~65份）混合，增稠剂为乙基纤维素， 分散剂为司班-85。 -种抗电磁波增亮膜的制造方法，制造方法如下： (1)、选用23~100μπι厚度的PET、PC或PMMA作为A基材，在A基材的B光学面 涂布扩散层，涂布方式为微凹涂布或刮刀式涂布；(2)、在A基材的A光学面用花纹辊转印添加有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂涂 布，并经烤箱与UV光源固化而形成带有若干平行棱镜单体的抗电磁结构层，得到上增亮 膜； 花纹辊为金属轮，表面电镀100~500μm厚度的铜层或镍层，表面微结构经单点 金刚石刀具车削或激光成形加工而成； (3)、选用23~100μπι厚度的PET、PC或PMMA作为B基材，在B基材的上面用花 纹辊转印丙烯酸类树脂涂布，并经烤箱与UV光源固化而形成带有若干平行棱镜单体的B棱 镜结构层，得到下增亮膜； (4)、各自做好的上增亮膜、下增亮膜，使用时叠加使用，成为具有抗电磁波效果的 增亮膜。 本专利技术主要提供一种抗电磁波增亮膜，相比传统结构的增亮膜，其在提供轴向亮 度增益的同时，能具有抗电磁波功能，优化增亮膜的功能，提高其使用价值。同时该制备方 法简单，适用于大量生产。【附图说明】图1为本专利技术实施例上增亮膜的示意图；图2为本专利技术实施例下增亮膜的示意图；图3为本专利技术实施例的结构示意图； 图4为本专利技术实施例的立体示意图。附图标记说明： 上增亮膜10,A基材11，抗电磁结构层12,扩散层13,下增亮膜20,B基材21， B棱镜结构层22。【具体实施方式】 为能进一步了解本专利技术的特征、技术手段以及所达到的具体目的、功能，解析本发 明的优点与精神，藉由以下通过实施例对本专利技术做进一步的阐述。 本增亮膜组包括上增亮膜10和下增亮膜20,上增亮膜10包括A基材11、抗电磁 结构层12、扩散层13,抗电磁波材料添加在抗电磁结构层12里，扩散层13和抗电磁结构层 12分置在A基材11的两面；下增亮膜20包括B基材21、B棱镜结构层22。抗电磁结构层 12为添加有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂结构层，B棱镜结构层22由若干平行的丙烯酸类 树脂棱镜单体组成。 增亮膜基材（A基材11与B基材21)材料为PET、PC、PMMA等其中一种，厚度d0为 23 ~100μm〇 扩散层13的原料组成及重量份为：包括丙烯酸类树脂和光扩散粒子，光扩散粒子 包含PMMA粒子、PS粒子、Si02粒子、TiO2等粒子一种或几种，粒子大小为2~5μm。 抗电磁结构层12的原料组成及重量份为：丙烯酸类树脂40~75份，抗电磁波材 料8~26份；抗电磁波材料成分主要为纳米银颗粒（20~35份），溶剂为松油醇（1~5份） 与无水乙醇（45~65份）混合，增稠剂为乙基纤维素（4~5. 5份），分散剂为司班-85 (3~ 5份）。扩散层涂布方式为微凹涂布或刮刀式涂布。 抗电磁结构层12与B棱镜结构层22包含设置成规律的棱镜单体，棱镜单体高度 d2为15~30μm，间距d4为20~4当前第1页1 2 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种抗电磁波增亮膜，包含有：上增亮膜(10)与下增亮膜(20)，其特征在于，所述上增亮膜(10)包含A基材(11)、抗电磁结构层(12)以及扩散层(13)；所述A基材(11)包含A光学面和B光学面，所述抗电磁结构层(12)设置在A基材(11)的A光学面，所述扩散层(13)层叠在A基材(11)的B光学面；所述下增亮膜(20)包括B基材(21)、B棱镜结构层(22)，所述B棱镜结构层(22)设置在B基材(21)上；所述抗电磁结构层(12)为添加有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂结构层；所述抗电磁结构层(12)与B棱镜结构层(22)由若干平行的棱镜单体组成；所述抗电磁结构层(12)与B棱镜结构层(22)的棱镜单体长度方向相互垂直；所述棱镜单体截面为一等腰三角形，所述抗电磁结构层(12)与B棱镜结构层(22)的棱镜高度为15～30μm，所述棱镜单体之间的间距为20～40μm，所述棱镜单体截面为等腰三角形，顶角角度为85～95°。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：朱文峰，王善文，
申请(专利权)人：东莞市纳利光学材料有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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