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一种祛痘洗面奶制造技术

技术编号:13001668 阅读:48 留言:0更新日期:2016-03-10 13:54
本发明专利技术公开了一种祛痘洗面奶,由以下各组分的原料组成:硬脂酸1-4份,十四酸15-25份,十二酸3-5份,单烷基磷酸酯3-8份,85%氢氧化钾3-8份,双甘油20-30份,月桂氨基二丙酸钠2-6份,甘草酸二钾0.05-0.15份,三氯新0.1-0.5份,尼泊金甲酯0.05-0.15份,去离子水90-110份。本发明专利技术提供的洗面奶能够对皮肤起到很好的清洁作用,同时还具有很好的祛痘、祛印、保湿的优点,便于推广应用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种洗面奶,具体涉及一种祛痘洗面奶
技术介绍
洗面奶是用于清洁面部污垢如汗液、灰尘彩妆等的清洁用品。比起使用肥皂清洁脸部,洗面奶对皮肤的刺激更小,冲洗也更容易。针对不同的肤质,可选择不同类型的洗面奶,例如清洁型洗面奶、抗敏感洗面奶、温和洗面奶等,而且还可以根据皮肤的问题,选择具有相应功能的洗面奶,例如美白洗面奶、祛痘洗面奶、祛斑洗面奶等。洗面奶更加有利于皮肤的保养,深受女性的欢迎。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种祛痘洗面奶,该洗面奶清洁性好,并且具有很好的祛痘作用。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:—种祛痘洗面奶,由以下各组分的原料组成:硬脂酸1-4份,十四酸15-25份,十二酸3-5份,单烷基磷酸酯3-8份,85%氢氧化钾3-8份,双甘油20-30份,月桂氨基二丙酸钠2-6份,甘草酸二钾0.05-0.15份,三氯新0.1-0.5份,尼泊金甲酯0.05-0.15份,去离子水90-110 份。有益效果本专利技术提供的洗面奶能够对皮肤起到很好的清洁作用,同时还具有很好的祛痘、祛印、保湿的优点,便于推广应用。【具体实施方式】实施例1—种祛痘洗面奶,由以下各组分的原料组成:硬脂酸1份,十四酸15份,十二酸3份,单烷基磷酸酯3份,85 %氢氧化钾3份,双甘油20份,月桂氨基二丙酸钠2份,甘草酸二钾0.05份,三氯新0.1份,尼泊金甲酯0.05份,去离子水90份。实施例2—种祛痘洗面奶,由以下各组分的原料组成:硬脂酸2份,十四酸20份,十二酸4份,单烷基磷酸酯5份,85 %氢氧化钾5份,双甘油25份,月桂氨基二丙酸钠4份,甘草酸二钾0.1份,三氯新0.2份,尼泊金甲酯0.1份,去离子水100份。实施例3—种祛痘洗面奶,由以下各组分的原料组成:硬脂酸4份,十四酸25份,十二酸5份,单烷基磷酸酯8份,85 %氢氧化钾8份,双甘油30份,月桂氨基二丙酸钠6份,甘草酸二钾0.15份,三氯新0.5份,尼泊金甲酯0.15份,去离子水110份。【主权项】1.一种祛痘洗面奶,其特征在于:所述洗面奶是由以下各组分的原料组成:硬脂酸1-4份,十四酸15-25份,十二酸3-5份,单烷基磷酸酯3-8份,85 %氢氧化钾3_8份,双甘油20-30份,月桂氨基二丙酸钠2-6份,甘草酸二钾0.05-0.15份,三氯新0.1-0.5份,尼泊金甲酯0.05-0.15份,去离子水90-110份。【专利摘要】本专利技术公开了一种祛痘洗面奶,由以下各组分的原料组成:硬脂酸1-4份,十四酸15-25份,十二酸3-5份,单烷基磷酸酯3-8份,85%氢氧化钾3-8份,双甘油20-30份,月桂氨基二丙酸钠2-6份,甘草酸二钾0.05-0.15份,三氯新0.1-0.5份,尼泊金甲酯0.05-0.15份,去离子水90-110份。本专利技术提供的洗面奶能够对皮肤起到很好的清洁作用,同时还具有很好的祛痘、祛印、保湿的优点,便于推广应用。【IPC分类】A61P17/00, A61Q19/10, A61K8/63【公开号】CN105380815【申请号】CN201510828100【专利技术人】刘勇 【申请人】刘勇【公开日】2016年3月9日【申请日】2015年11月24日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种祛痘洗面奶,其特征在于:所述洗面奶是由以下各组分的原料组成:硬脂酸1‑4份,十四酸15‑25份,十二酸3‑5份,单烷基磷酸酯3‑8份,85%氢氧化钾3‑8份,双甘油20‑30份,月桂氨基二丙酸钠2‑6份,甘草酸二钾0.05‑0.15份,三氯新0.1‑0.5份,尼泊金甲酯0.05‑0.15份,去离子水90‑110份。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘勇
申请(专利权)人:刘勇
类型:发明
国别省市:江苏;32

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