【技术实现步骤摘要】
本专利技术设及到精密加工制造领域，特别设及一种磁浮式精密定位平台。
技术介绍
现代科学技术对微观领域的研究越来越深入，已经进入了高精度的纳米、原子量 级的时代。微定位技术是微观领域研究的核屯、关键技术之一，其技术发展水平直接影响 到微观领域技术的发展水平，因此作为微定位技术工程化应用的多自由度高精度定位平台 也就具有极为重要的现实研究意义。特别的，在光刻机领域，对光刻的工艺节点线宽达到 22nm，而且晶圆的直径的进一步增大，运意味着对定位平台的要求增高，需要运动平台达到 纳米级别的定位精度，达到数百毫米级别的运动行程范围且要求运动平台响应速度快。 传统的接触式高精度定位平台主要有=种方式：一、利用旋转伺服电机驱动，然后 采用精密滚珠丝杆来传动；二、利用直线电机直接驱动；=、利用压电陶瓷驱动。采用伺服 电机驱动并且采用滚珠丝杆传动的定位平台是目前应用较为广泛的平面运动定位方式，但 其缺点是：由于运动平台与驱动机构之间存在包括联轴器、丝杆、轴承等中间过渡环节，增 加了定位机构的惯性质量，对系统的响应频率具有较大的影响，且由于中间过渡环节产生 的摩擦、弹性...
【技术保护点】
一种磁浮式精密定位平台，其特征在于，包括安装板、运动平台、基座、直线电机驱动装置和电磁铁悬浮驱动装置，其中：在垂直方向上将所述安装板、运动平台和基座通过固定装置依次连接；所述电磁铁悬浮驱动装置包括电磁铁和衔铁，所述电磁铁安装在安装板上，在电磁铁下方对应的位置上将衔铁安装在运动平台的上表面；所述直线电机驱动装置包括永磁阵列和空心线圈绕组，所述永磁阵列镶嵌于运动平台下表面，在永磁阵列下方对应的位置上将空心线圈绕组安装在基座上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：龙志强，李晓龙，杨鑫，张和洪，戴春辉，窦峰山，
申请(专利权)人：中国人民解放军国防科学技术大学，
类型：发明
国别省市：湖南;43
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