用于获得提供有涂层的基材的方法技术

本发明专利技术涉及用于获得提供有涂层的基材的方法，其中该涂层包含该涂层的至少一种性质的空间调制图案，该方法包括使用激光辐射对在该基材上沉积的连续涂层进行热处理的步骤。这种热处理步骤使得对该基材使用以至少一根激光线的形式被聚焦在涂层上的激光辐射进行照射，保持该涂层是连续的并且不熔化该涂层，并且使该基材和该聚焦在该涂层上的激光线在与该激光线的纵向方向(Y)横交的方向(X)中进行相对位移，在这种相对位移期间对该激光线的功率(Plas)作为该相对位移的速度(v)和该图案在相对位移方向(Y)中的尺寸的函数进行时间调制。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】 本专利技术设及用于获得一种基材的方法，该基材在它的至少一个面的至少一部分上 被提供有涂层，该涂层包含该涂层的至少一种性质的空间调制图案。本专利技术还设及用于处 理被提供有至少一个涂层的基材W产生该涂层的至少一种性质的空间调制图案的装置，和 设及一种基材，该基材在它的至少一个面的至少一部分上被提供有涂层，该涂层包含该涂 层的至少一种性质的空间调制图案。 通常的是，为基材，尤其由玻璃或者有机聚合物材料制成的基材提供为它们提供 特定性质，尤其光学性质（例如在给定波长范围中的福射的反射或者吸收）、导电性质或者 与清洁容易醒相关或者与该基材的自清洁的可能性有关的性质的涂层。运些涂层，其可W 是单层的或者多层的，通常基于无机化合物，尤其金属、氧化物、氮化物或者碳化物。运些涂 层可W是薄层或者薄层堆叠体。对于本专利技术来说，该术语"薄层"表示其厚度低于微米并 通常为数纳米至几百纳米的层，由此定性为"薄"。 作为为基材提供特定性质的涂层的实例，可W提到： -改变该基材在可见光的波长范围中的反射性质的涂层，如反射金属涂层，尤其基于金 属银，其用于形成反射镜，或者抗反射涂层，其目的在于减少在空气和基材之间的界面的福 射反射。抗反射涂层可W尤其由具有在空气的折光指数和基材的折光指数之间的折光指数 的层，如溶胶-凝胶类型的薄层或者多孔层形成；或者由具有交替地较低和较高的折光指 数的薄层堆叠体（充当在空气和基材之间的界面干设滤波器）形成；或者由具有在空气的 折光指数和基材的折光指数之间连续的或者分阶的折光指数梯度的薄层堆叠体形成； -为基材提供红外福射反射性质的涂层，如包含至少一个薄金属层（尤其基于银）的透 明涂层。运些具有薄金属层的透明涂层用于形成日照控制窗玻璃，特别地抗日光窗玻璃，目 的为减少进入的太阳能的量，或者低发射率窗玻璃，目的为减少从建筑物或者交通工具向 外部消散的能量的量； -为基材提供导电性质的涂层，如包含至少一个薄金属层，尤其基于银的薄金属层的涂 层，或者基于透明导电氧化物（TC0)的薄层，例如基于铜和锡混合氧化物（IT0)，基于铜锋 混合氧化物（IZ0)，基于用嫁或者用侣渗杂的氧化锋，基于用妮进行渗杂的氧化铁，基于锡 酸儒或者锡酸锋，基于用氣和/或用錬渗杂的氧化锡的薄层。运些具有导电性质的涂层尤 其用在加热窗玻璃中，其中使电流流通过该涂层中W便经由焦耳效应产生热量，或者用作 为在层状电子装置中的电极，特别地用作为位于有机发光二极管装置（0LED)，光电装置或 者电致变色装置的正面上的透明电极； -为该基材提供自清洁性质的涂层，如基于氧化铁的薄层，其促进有机化合物在紫外福 射作用下的退化并且在水流动的作用下除去无机污物。 对于某些应用，希望局部地，例如周期性地改变被沉积在基材上的涂层的性质，W 便获得具有该涂层的性质（无论它是光学性质、导电性质等等）的空间调制图案。特别地， 可W寻求该涂层的光学性质的调制W便改变该经涂覆基材的视觉外观，出于美学的或者功 能的目的。例如，其涂层包含反射颜色梯度或者任何其它具有反射颜色的调制图案的窗玻 璃可W用作为用于内部或者外部应用的装饰玻璃。类似地，使透明区域与反射和/或吸收 区域交替的窗玻璃可w用作为装饰玻璃，或者作为隔板，尤其用于"开放空间"类型的开放 办公室的隔板，允许在该窗玻璃的不透明区域的位置限定私人空间而同时维持在该透明区 域位置的优良的光透射。 该涂层的光学性质的调制还可W允许调节经涂覆的基材对某些福射的光学响应， 并因此调节该基材的性能。例如，其涂层包含红外线福射反射的缕空图案的日光控制窗玻 璃允许控制太阳热量的增加。 除了光学性质的调制，可W寻求该涂层的导电性质的调制W便在基材上产生图案 或者电导率特定制图。例如，在它的表面包含导电栅格的窗玻璃可W用作为用于层状电子 装置的电极，尤其作为透明电极（当在该栅格的网眼之间的空间是透明的时），或者作为加 热窗玻璃，或者可W充当法拉第筒类型的透明等位面。 在实践中，在涂层的沉积期间使图案与涂层的性质的调制结合是复杂的，尤其在 工业方法的背景下。特别地，虽然目前在大的基材表面上沉积薄层是相对容易的（尤其通 过磁场-增强的阴极瓣射，亦被称为该"磁控管"方法），但是通过作用于沉积条件仍然难 W在空间上调制运些薄层的性质。在经由磁控管方法在基材上沉积层期间掩模的使用产生 问题，尤其对于维持该基材的清洁度，运限制它在工业规模上的实施。 而且存在各种用于在涂层上形成图案的技术，一旦该涂层已经被沉积在基材上 后。第一种已知的技术是激光微加工广laserpatterning"),其中通过使用点激光束的扫 描实施至少一部分涂层的烧蚀或者蒸发。运种技术然而是局部的、缓慢的技术，其难W对大 尺寸基材实施并且产生相对低生产速率。另一种已知的技术是丝网印刷，其允许通过穿过 印刷屏沉积瓷釉或者通过数字印刷使该基材的一部分变得不透明。该丝网印刷技术然而在 分辨率方面是受限制的并且要求在至少600°C的溫度下热处理该基材W便保证瓷釉化产品 的稳定性，运是不利的。在又一种已知的技术中，通过平版印刷术或者丝网印刷在要处理的 涂层上设置树脂掩模，例如光敏树脂掩模，然后实施该未被树脂掩模保护的涂层部分的烧 蚀或者氧化。运种技术具有是缓慢的并且昂贵的方法的缺点，它设及数个步骤。 本专利技术更特别地通过提出用于获得被提供有涂层的基材的方法旨在解决运些缺 点，该涂层包含该涂层的至少一种性质的空间调制图案，该方法同时是经济的、简单的W及 快速的，并且其允许实现高生产率，运种方法对于该涂层的性质的调制来说确保高分辨率 水平并且甚至适用于大尺寸基材，运种方法还特别地是灵活的W便允许在生产线上（对于 同一个基材或者从一个基材至另一个基材）该涂层的性质在空间结构中的快速改变。 为此，本专利技术主题是用于获得基材的方法，该基材在它的至少一个面的至少一部 分上被提供有涂层，该涂层包含该涂层的至少一种性质的空间调制图案，特征在于该方法 包括使用激光福射热处理在该基材上沉积的连续涂层的步骤，其中在热处理之前该涂层至 少部分地吸收激光福射，运种热处理步骤使得该基材使用W至少一根激光线的形式被聚焦 在涂层上的激光福射进行照射，保持该涂层是连续的并且不烙化该涂层，使该基材和该聚 焦在该涂层上的激光线在与该激光线的纵向方向横交的方向中相对移动，同时在运种相对 移动期间对该激光线的功率作为该相对移动的速度和该图案在相对移动方向中的尺寸的 函数进行时间调制（modulationtemporelle)。 在本专利技术的范围中，"激光线"是W具有比它的横向尺寸更大的纵向尺寸的线的 形式进行聚焦的激光束，其通过一个或者数个激光源产生和其在该线的纵向中的所有点同 时地通过一个或多个激光源进行照射。因此，激光线通过同时由一个或多个激光源照射该 线的整个表面而获得。 对于本专利技术来说，一个方向（当它与另一个方向形成非零角度时）是相对于该另 一个方向是横交的。此外，对于本专利技术来说，在基材的面的一部分上存在的涂层是连续的， 当该涂层基本上覆盖整个该部分时。根据本专利技术，该涂层的运种连续性质在该热处理步骤 期间得到保存。 当使用激光束照射沉积在基材上的涂层时，其中该涂层至少部分地吸收激光福 射，提供足W引起本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于获得基材的方法，该基材在它的至少一个面的至少一部分上被提供有涂层，该涂层包含该涂层的至少一种性质的空间调制图案，特征在于该方法包括使用激光辐射对在该基材上沉积的连续涂层进行热处理的步骤，其中在热处理之前该涂层至少部分地吸收该激光辐射，这种热处理步骤使得对该基材使用以至少一根激光线的形式被聚焦在涂层上的激光辐射进行照射，保持该涂层是连续的并且不熔化该涂层，使该基材和该聚焦在该涂层上的激光线在与该激光线的纵向方向(Y)横交的方向(X)中进行相对移动，同时在这种相对移动期间，作为该相对移动的速度(v)和该图案在相对移动方向(Y)中的尺寸的函数对该激光线的功率(Plas)进行时间调制。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：N纳道，E米蒙，B迪博，
申请(专利权)人：法国圣戈班玻璃厂，
类型：发明
国别省市：法国;FR