光学涂膜形成用前体、光学涂膜以及光学涂膜的制造方法技术

技术编号:12978272 阅读:79 留言:0更新日期:2016-03-04 00:58
本发明专利技术涉及光学涂膜形成用前体、光学涂膜以及光学涂膜的制造方法。本发明专利技术的课题在于获得一种光学涂膜形成用前体,其可以形成在多湿环境下能够长时间维持防反射特性的光学涂膜。所述光学涂膜形成用前体含有金属氧化物(A)和在以10℃/分钟的升温速度加热时具有两个以上的放热峰的树脂颗粒(B)。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学涂膜形成用前体、光学涂膜W及光学涂膜的制造方法。
技术介绍
W往,作为光学涂膜的防反射膜大多是由形成涂膜的第1工序和在该涂膜中形成 空隙的第2工序制造的。如此地,通过在形成涂膜后,在涂膜中形成空隙,从而在防反射膜 中涂膜折射率降低,可实现反射率的降低。 例如,在专利文献1~4中公开了一种多孔体,其利用多孔形成剂(多孔起因剤) 在涂膜中导入了空隙。 此外,在专利文献5~7中,作为不需要从涂膜提取多孔起因剂的将低折射率多孔 体成膜的方法,公开了利用含有链状金属氧化物的涂布液将多孔体成膜的方法。另外,在专利文献8和10中公开了一种耐擦伤性优异的防反射膜,其是利用含有 链状硅胶和球状微粒的涂布液得到的。 此外,在专利文献9中公开了一种涂膜,其是利用机械强度、透明性、耐候性、耐化 学药品性、光学特性、防污性、防雾性W及抗静电性等优异的水性高分子分散体形成的。 另外,在专利文献11中公开了一种防污性能优异的涂布组合物。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 ;日本特开平01-312501号公报 专利文献2 ;日本特开平07-140303号公报 专利文献3 ;日本特开平03-199043号公报 专利文献4 ;日本特开平11-035313号公报 专利文献5 ;日本特开2001-188104号公报 专利文献6 ;日本特开平11-061043号公报 专利文献7 ;日本特开平11-292568号公报 专利文献8 ;日本特开2005-10470号公报 专利文献9 ;国际公开第2007/069596号小册子 专利文献10 ;日本特表2011-530401号公报 专利文献11 ;国际公开第2010/104146号小册子
技术实现思路
专利技术要解决的课题 但是,在专利文献1~4中公开的技术中,在提取工序中除去用于形成空隙的多孔 起因剂时,膜会溶胀,具有引起空隙的外观不良和膜剥离的问题W及成膜工序繁杂的问题。 此外,利用专利文献5~7中公开的方法得到的多孔体具有机械强度欠缺的问题。另外,专利文献8和10中公开的防反射膜具有耐候性存在改善的余地的问题。 此外,专利文献9中公开的涂膜具有防反射特性存在改善的余地的问题。 另外,专利文献11中公开的涂布组合物具有防反射特性存在改善的余地的问题。 此外,一般来说,已知将玻璃作为基材的防反射膜在多湿环境下碱成分会从玻璃 内部溶出,由于长时间的环境曝露,该溶出物会侵入防反射膜的空隙中,具有使防反射效果 降低的耐候性不足的问题。 因此,本专利技术中,鉴于上述现有技术的问题,目的在于提供一种光学涂膜前体,其 能够得到即便在多湿环境下也能维持防反射特性的光学涂膜。 用于解决课题的方案 为了解决上述课题,本专利技术人进行了深入研究,结果发现,利用了下述光学涂膜 前体的光学涂膜在多湿环境下能够长时间维持防反射特性,由此完成了本专利技术,所述光学 涂膜前体含有金属氧化物(A)和在特定条件下升温时包括两个W上的放热峰的树脂颗粒 度)。 目P,本专利技术如下所述。 山 -种光学涂膜形成用前体,其含有金属氧化物(A)和在W1(TC/分钟的升温速度 加热时具有两个W上的放热峰的树脂颗粒度)。 凹 如权利要求1所述的光学涂膜形成用前体,其中,上述放热峰中的至少1个超过 510〇C。 -种光学涂膜,其从上述或所述的光学涂膜形成用前体中除去了上述树 脂颗粒度)的至少一部分。 -种光学涂膜的制造方法,该制造方法具有在30(TC~80(TC对光学涂膜形成用 前体进行热处理而形成空隙的空隙形成工序, 上述光学涂膜形成用前体含有金属氧化物(A)和树脂颗粒度),所述树脂颗粒度) 在W1(TC/分钟的升温速度加热时具有两个W上的放热峰。 巧] 如上述所述的光学涂膜的制造方法,其中,上述放热峰中的至少1个超过 510〇C。 -种防反射膜,其包含通过上述或[引所述的光学涂膜的制造方法所得到的 光学涂膜。 -种太阳能电池用玻璃,其包含上述所述的防反射膜。 [引 一种太阳能电池模块,其包含上述所述的防反射膜。 -种太阳能电池用聚光透镜,其包含上述所述的防反射膜。 专利技术的效果 通过使用本专利技术的光学涂膜形成用前体,能够得到在多湿环境下能长时间维持防 反射特性的光学涂膜。【具体实施方式】 下面,对本专利技术的【具体实施方式】(下文中称为"本实施方式")进行详细说明。W 下的本实施方式是用于说明本专利技术的例示,并不将本专利技术限定于W下内容。本专利技术可W在 其要点的范围内适宜变形来实施。 本实施方式的光学涂膜形成用前体含有金属氧化物(A)和在W1(TC/分钟的升温 速度加热时具有两个W上的放热峰的树脂颗粒度)。[005引(金属氧化物(A)) 本实施方式的光学涂膜形成用前体所含有的金属氧化物(A)为后述的特定的金 属的氧化物,从涂膜强度的方面出发,优选包含球状的金属氧化物(al)和/或长宽比(长 径/短径)为3~25的非球状的金属氧化物(a2)。[005引此处,本说明书中,上述球状的金属氧化物(al)是指W长宽比(长径/短径)小 于3的颗粒状态存在的金属氧化物。 需要说明的是,对W-次颗粒自身存在的颗粒而言,长宽比是指一次颗粒的长宽 比;此外,对作为凝集颗粒存在的颗粒而言,长宽比是指凝集颗粒的长宽比。 上述球状的金属氧化物(al)的存在形态可W为一次颗粒,也可W为凝集颗粒,在 为凝集颗粒的情况下,其形状不需要为完全的球,例如也可W具有角部。 此处,球状的金属氧化物(al)和非球状的金属氧化物(a2)的长宽比可W如下确 定;对用透射型显微镜(TEM)拍摄的金属氧化物颗粒的短径和长径进行测定,由该测定值 求出长径/短径,从而确定上述长宽比。 需要说明的是,上述短径和长径各自依次为与金属氧化物颗粒外接的面积最小的 外接长方形的短边和长边。 作为球状的金属氧化物(al),可W举出例如娃、铅、铁、铅、锋、锡、钢、嫁、错、錬、钢 等的氧化物,但不限定于上述物质。 从由本实施方式的光学涂膜形成用前体形成的光学涂膜的透明性和机械强度的 表现的方面出发,上述球状的金属氧化物(al)的平均粒径优选为Inm~lOOnm、更优选为 Inm~50皿、进一步优选为Inm~lOnm。 此处,在该颗粒W-次颗粒的形式存在的情况下,球状的金属氧化物(al)的平均 粒径是指一次粒径;在该颗粒W凝集颗粒的形式存在的情况下,球状的金属氧化物(al)的 平均粒径是指凝集粒径(二次粒径),可W通过W下的方法确定。目P,按照拍到100个~200 个球状的金属氧化物(al)的颗粒的方式调整并拍摄,对得到的透射型显微镜(TEM)照片中 存在的该颗粒的粒径(双轴平均直径、即短径与长径的平均值)进行测定,求出该测定的各 粒径的平均值,由此可W确定。 作为形成上述球状的金属氧化物(al)的材料,可W举出例如日产化学工业株式 会社制造的"SN0WTEX-0 (注册商标)"、该社制造的"SN0WTEX-0S(注册商标)"、该社制造的 "SNOWTEX-OXS(注册商标)"等,但不限定于上述材料。 上述非球状的金属氧化物(曰2)是指长宽比(长径/短径)为3W上的金属氧化 物,例如可W举出金属氧化物(微粒)颗粒的一次颗粒W念珠状连结的复合颗粒、纤维状颗 粒、针状颗粒、板状颗粒W及它们的中空颗本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种光学涂膜形成用前体,其含有金属氧化物(A)和树脂颗粒(B),所述树脂颗粒(B)在以10℃/分钟的升温速度加热时具有两个以上的放热峰。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:广濑淳一
申请(专利权)人:旭化成株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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