色素多聚体的制造方法以及着色组合物的制造方法技术

本发明专利技术提供耐热性优异的色素多聚体的制造方法、包含由该制造方法而所得的色素多聚体的着色组合物。一种色素多聚体的制造方法，其包含使具有色素结构的化合物与聚合物反应的步骤。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】色素多聚体的制造方法以及着色组合物的制造方法
本专利技术涉及一种适于制造液晶显示元件或固体摄影元件等中所使用的彩色滤光片的色素多聚体的制造方法以及着色组合物的制造方法。
技术介绍
制造液晶显示装置或固体摄影元件等中所使用的彩色滤光片的方法之一是颜料分散法，作为该颜料分散法，存在有使用将颜料分散于各种感光性组合物中而成的着色感光性组合物，利用光刻法而制造彩色滤光片的方法。亦即，使用旋涂机或辊涂机等将硬化性组合物涂布于基板上，使其干燥而形成涂布膜，对所述涂布膜进行图案曝光、显影，由此获得着色的像素。根据所期望的色相程度反复进行该操作，可制作彩色滤光片。所述方法由于使用颜料而对光或热稳定，且由于利用光刻法而进行图案化，因此充分确保位置精度，可作为适于制造彩色显示器用彩色滤光片等的方法而广泛利用。另一方面，在彩色滤光片的制作中一般使用包含染料或颜料的着色组合物，揭示了使用将色素聚合物化而成的色素多聚体作为此种染料或颜料(例如参照专利文献1～专利文献3)。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2012-32754号公报[专利文献2]日本专利第3736221号公报(日本专利特开2000-162429号公报)[专利文献3]日本专利特开平9-204047号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题然而，在上述的现有技术中，获得色素多聚体的方法主要是使具有聚合性基的色素化合物进行聚合反应，在所得的色素多聚体的分子量中容易产生不均一。因此，利用现有技术而所得的色素多聚体在过度的加热工艺中，其一部分分解。而且，在现有的技术中，通过聚合反应而形成色素多聚体，因此在所得的色素多聚体中残存聚合引发剂等的分解物。本专利技术是鉴于所述课题而成者，涉及耐热性优异的色素多聚体的制造方法、包含所述制造方法的着色组合物的制造方法。解决问题的技术手段本专利技术者等人进行了详细研究，结果通过使具有色素结构的化合物与构成聚合物的聚合物成分反应而完成本专利技术。具体而言，通过下述手段<1>，优选的是通过<2>～<9>而解决所述课题。<1>一种色素多聚体的制造方法，其包含：使具有色素结构的化合物与聚合物反应。<2>根据<1>所述的色素多聚体的制造方法，其中，反应是在具有色素结构的化合物与聚合物之间形成共价键的反应。<3>根据<1>或<2>所述的色素多聚体的制造方法，其中，还包含使具有聚合性基的化合物与聚合物反应的步骤。<4>根据<1>～<3>中任一项所述的色素多聚体的制造方法，其中，具有色素结构的化合物包含阳离子部位与反荷阴离子。<5>根据<4>所述的色素多聚体的制造方法，其中，色素结构是源自如下色素的色素结构：选自二吡咯亚甲基色素、三芳基甲烷色素、呫吨色素、花青色素及方酸菁色素的色素。<6>根据<4>或<5>所述的色素多聚体的制造方法，其中，反荷阴离子选自磺酸根阴离子、磺酰亚胺阴离子、双(烷基磺酰基)酰亚胺阴离子、三(烷基磺酰基)甲基化物阴离子、羧酸根阴离子、四芳基硼酸盐阴离子、BF4-、PF6-、及SbF6-。<7>根据<1>～<3>中任一项所述的色素多聚体的制造方法，其中，具有色素结构的化合物在同一分子内包含阳离子与阴离子。<8>根据<1>～<7>中任一项所述的色素多聚体的制造方法，其中，聚合物的分子量的分布为1.0～2.5。<9>一种着色组合物的制造方法，其包含：利用根据<1>～<8>中任一项所述的色素多聚体的制造方法而制造色素多聚体，调配聚合性化合物、色素多聚体以外的颜料及光聚合引发剂。专利技术的效果根据本专利技术，可提供耐热性优异的色素多聚体的制造方法、及包含着色组合物的制造方法的着色组合物的制造方法。具体实施方式以下，对本专利技术的色素多聚体的制造方法及着色组合物的制造方法加以详述。以下所记载的本专利技术中的构成要素的说明有时是基于本专利技术的代表性实施形态而进行的，但本专利技术并不限定于此种实施形态。在本说明书中的基(原子团)的表述中，未记载经取代及未经取代的表述包含不具取代基的基(原子团)，也包含具有取代基的基(原子团)。例如，所谓“烷基”不仅仅包含不具取代基的烷基(未经取代的烷基)，也包含具有取代基的烷基(经取代的烷基)。而且，本说明书中的所谓“光化射线”或“放射线”例如表示水银灯的明线光谱、以准分子激光为代表的远紫外线、极紫外线(extremeultravioletlight，EUV光)、X射线、电子束(electronbeam)等。而且，在本专利技术中所谓“光”是表示光化射线或放射线。本说明书中的所谓“曝光”，若无特别限制，则不仅仅包含利用水银灯、以准分子激光为代表的远紫外线、X射线、EUV光等的曝光，而且利用电子束、离子束等粒子束的描绘也包含于曝光中。在本说明书中，使用“～”而表示的数值范围表示包含“～”的前后所记载的数值作为下限值及上限值的范围。本说明书中，所谓“所有固体成分”是指自着色组合物的所有组成中除去溶剂的成分的总质量。而且，在本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯的两者或任意者，“(甲基)丙烯酸基”表示丙烯酸基及甲基丙烯酸基的两者或任意者，“(甲基)丙烯酰基”表示丙烯酰基及甲基丙烯酰基的两者或任意者。Me表示甲基，Et表示乙基，Ph表示苯基，Bu表示丁基。而且，在本说明书中，“单体”与“单体(monomer)”同义。本说明书中的单体与寡聚物及聚合物区别，是指重量平均分子量为2,000以下的化合物。在本说明书中，所谓“聚合性化合物”是指具有聚合性官能基的化合物，可为单体，也可为聚合物。所谓“聚合性官能基”是指参与聚合反应的基。在本说明书中，“步骤”的术语不仅仅是独立的步骤，即使是无法与其他步骤明确地区别的情况下，若可达成该步骤的所期望的作用，则包含于本术语中。在本说明书中，重量平均分子量及数量平均分子量定义为利用凝胶渗透色谱法(GelPermeationChromatography，GPC)测定的聚苯乙烯换算值。在本说明书中，重量平均分子量(Mw)及数量平均分子量(Mn)例如可通过使用HLC-8220(东曹股份有限公司制造)，使用TSKgelSuperAWM-H(东曹股份有限公司制造、6.0mmID×15.0cm)作为管柱，使用10mmol/L的溴化锂NMP(N-甲基吡咯烷酮)溶液作为洗脱液而求出。<色素多聚体的制造方法>本专利技术的色素多聚体的制造方法的特征在于包含使具有色素结构的化合物与聚合物反应的步骤。亦即，本专利技术的色素多聚体的制造方法并非使具有色素结构的化合物(聚合性单体)进行聚合反应，而是使具有色素结构的化合物与聚合物反应，从而制造色素多聚体。现在，色素多聚体是使具有聚合性基的色素化合物聚合而制造。因此，容易在所得的色素多聚体的分子量或组成中产生不均一。如上所述，在分子量或组成中存在不均一的色素多聚体在过度的加热工艺中，色素多聚体容易分解，容易产生向其他图案的色移。而且，当使用此种色素多聚体，利本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种色素多聚体的制造方法，其包含：使具有色素结构的化合物与聚合物反应。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.07.18 JP 2013-149771;2014.06.04 JP 2014-115701.一种色素多聚体的制造方法，其包含：使具有色素结构的化合物与聚合物反应，所述聚合物包含具有与所述具有色素结构的化合物反应的反应性基的重复单元，所述具有色素结构的化合物具有可与所述聚合物的反应性基反应的反应性基，相对于所述聚合物所具有的反应性基1摩尔而言，使0.3摩尔～1.0摩尔所述具有色素结构的化合物与其反应，所述具有色素结构的化合物包含阳离子部位与反荷阴离子，所述反荷阴离子选自双(烷基磺酰基)酰亚胺阴离子、三(烷基磺酰基)甲基化物阴离子、及四芳基硼酸盐阴离子。2.根据权利要求1所述的色素多聚体的制造...

【专利技术属性】
技术研发人员：鲛岛贤，渡邉哲也，金子祐士，伊藤纯一，室祐継，田口贵规，尾田和也，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP