等离子体蒸发装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种等离子体蒸发装置，其能够将等离子束高精度地引导至蒸发材料。包括等离子体蒸发装置的成膜装置（1）具备多个用于使成膜材料（Ma）蒸发的等离子枪（7）。多个等离子枪（7）包括在等离子束（P）的射出方向上具有磁力线（G）方向的第1等离子枪（7R）、及在与等离子束（P）的射出方向相反的方向上具有磁力线（G）方向的第2等离子枪（7L）。从与成膜材料（Ma）相对的方向观察时，多个等离子枪（7）并列设置于真空腔室（10），并且配置成第2等离子枪（7L）相对于第1等离子枪（7R）不排列在将射出方向作为前方时的右侧。

【技术实现步骤摘要】
等离子体蒸发装置
本申请主张基于2013年5月29日申请的日本专利申请第2013-112949号的优先权。该申请的所有内容通过参考援用于本说明书中。本专利技术涉及一种等离子体蒸发装置，尤其涉及一种使用多个等离子枪来使蒸发材料蒸发的等离子体蒸发装置。
技术介绍
作为有关以往的等离子体蒸发装置的技术，众所周知有如下离子镀装置，例如专利文献1所记载，真空容器中设有多个具有磁铁机构的等离子枪和与其对应的转向线圈及炉缸的离子镀装置。该离子镀装置中，在炉缸的周围设置环状永久磁铁，通过将在相邻的等离子枪中的磁铁机构、转向线圈、及环状永久磁铁的磁极方向设为相反方向，从而能够实现减少各磁力线的干扰，并减少等离子束的扭曲。专利文献1：日本特开平9-256147号公报然而，在近年来的等离子体蒸发装置中，作为并列设置的多个等离子枪，开发了具备在等离子束的射出方向上具有磁力线方向的第1等离子枪、及在与等离子束的射出方向相反的方向上具有磁力线方向的第2等离子枪的等离子枪。此时，由等离子束本身的流动而激发自感应磁场，该等离子束的流动不仅扭曲，该扭曲的流动在多个等离子枪之间相互增强并强烈地激发自感应磁场，存在使等离子束的流动进一步扭曲的风险。其结果，存在难以将等离子束高精度地引导至蒸发材料的问题。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述实情而完成的，其课题在于提供一种能够将等离子束高精度地引导至蒸发材料的等离子体蒸发装置。为解决上述问题，本专利技术所涉及的等离子体蒸发装置为使蒸发材料在腔室内蒸发的等离子体蒸发装置，其中，具备多个用于蒸发蒸发材料的等离子枪，多个等离子枪包括在等离子束的射出方向上具有磁力线方向的第1等离子枪、及在与等离子束的射出方向相反的方向上具有磁力线方向的第2等离子枪，从与蒸发材料相对的方向观察时，多个等离子枪并列设置于腔室，并且配置成第2等离子枪相对于第1等离子枪不会排列在将射出方向作为前方时的右侧。该等离子体蒸发装置中，关于并列设置的多个等离子枪，从与蒸发材料相对的方向观察时，配置成第2等离子枪相对于第1等离子枪不会排列在将射出方向作为前方时的右侧。由此，能够抑制从邻接的等离子枪射出的等离子束的流动以相互接近的方式扭曲。其结果，能够抑制在多个等离子枪之间强烈激发自感应磁场，并抑制等离子束的流动进一步扭曲。因此，能够将等离子束高精度地引导至蒸发材料。并且，多个等离子枪优选并列设置成满足控制其等离子束的射出方向的转向线圈所涉及的下式（1）的关系式。由此，通过根据下式（1）的关系式并列设置多个等离子枪，能够适当地抑制在多个等离子枪之间自感应磁场相互增强。φs×1.1＜D＜φs×2.0…（1）其中，φs为转向线圈的直径D为多个等离子枪之间的距离并且，等离子枪及蒸发材料的至少一个优选配置成蒸发材料的中心位置偏离等离子束的射出轴。并且，等离子枪及蒸发材料的至少一个优选设置成能够相对移动，以使蒸发材料的中心位置相对于等离子束的射出轴偏离。在这种情况下，例如能够考虑蒸发材料相对于等离子束的射出轴的偏离。专利技术效果根据本专利技术，可以提供一种能够将等离子束高精度地引导至蒸发材料的等离子体蒸发装置。附图说明图1是表示包括一实施方式所涉及的等离子体蒸发装置的成膜装置的概要结构图。图2是沿图1的II-II线的剖视图。图3是说明图1的成膜装置中等离子枪的配置的概要俯视图。图4是说明图1的成膜装置中等离子枪之间的距离的图。图5是说明包括参考实施方式所涉及的等离子体蒸发装置的成膜装置中等离子枪的配置的概要俯视图。图中：1-成膜装置（等离子体蒸发装置），7-等离子枪，7L-第2等离子枪，7R-第1等离子枪，10-真空腔室（腔室），48-转向线圈，Ma-成膜材料（蒸发材料），G-磁力线，P-等离子束，PL-等离子束的射出轴。具体实施方式以下，参考附图对本专利技术的优选实施方式进行详细说明。另外，在以下的说明中对相同或相应要件附加相同的符号，并省略重复说明。图1是表示包括一实施方式所涉及的等离子体蒸发装置的成膜装置的概要结构图，图2是沿图1的II-II线的剖视图。图中，为便于说明，以XYZ坐标系表示。Y轴方向为传送后述的成膜对象物的方向。X轴方向为成膜对象物与后述的炉缸部20相对的方向。Z轴方向为与X轴方向和Y轴方向正交的方向。本实施方式的成膜装置为，通过RPD[ReactivePlasmaDeposition]法对成膜对象物进行成膜的装置，在此为用于所谓离子镀法的离子镀装置。该成膜装置构成使用多个等离子枪在腔室内使成膜材料（蒸发材料）蒸发的等离子体蒸发装置。并且，本实施方式的成膜装置是，在将成膜对象物直立以使成膜对象物的板厚方向呈水平方向的状态下或在从直立的状态倾斜的状态下，将成膜对象物配置于腔室内而被传送的所谓的立式成膜装置。此时，X轴方向为水平方向且为成膜对象物的板厚方向，Y轴方向为水平方向，Z轴方向为铅垂方向。另一方面，本实施方式的成膜装置也可以是以成膜对象物的板厚方向大致成为铅垂方向的方式，将成膜对象物配置于腔室内而被传送的所谓的卧式成膜装置。此时，Z轴及Y轴方向为水平方向，X轴方向为铅垂方向且为板厚方向。以下，在本实施方式中，以立式的情况为例进行说明。如图1及图2所示，本实施方式的成膜装置1具备沉积部2、传送机构3及真空腔室（腔室）10。并且，沉积部2具备多个等离子枪7及多个炉缸部20。真空腔室10具有用于传送形成成膜材料Ma的膜的成膜对象物11的传送室10a、为了使成膜材料Ma蒸发并扩散而使其移动的成膜室10b、及将从等离子枪7射出的等离子束P进入真空腔室10的等离子体口10c。传送室10a、成膜室10b、及等离子体口10c相互连通。传送室10a沿规定的传送方向（图中的箭头A）（Y轴）进行设定。并且，真空腔室10由导电性材料构成并连接于地电位。在真空腔室10中连接有调整该真空腔室10内的压力的压力调整装置（未图示）。压力调整装置例如具有涡轮分子泵和低温泵等减压部、及测定真空腔室10内的压力的压力测定部。成膜室10b具有沿传送方向A的一对侧壁10j及10k（参考图2）、沿与传送方向A交叉的方向（X轴方向）的一对侧壁10h及10i（参考图1）、及与传送室10a相对的侧壁10m。侧壁10h配置于成膜室10b中传送方向A的上游侧（即Y轴负方向侧）。侧壁10i配置于成膜室10b中传送方向A的下游侧（即Y轴正方向侧）。传送机构3向传送方向A传送以与成膜材料Ma相对的状态保持成膜对象物11的成膜对象物保持部件16。传送机构3由设置于传送室10a内的多个传送辊15构成。传送辊15沿传送方向A以等间隔配置，并支承成膜对象物保持部件16的同时向传送方向A进行传送。另外，成膜对象物11使用例如玻璃基板和塑料基板等板状部件。并且，成膜对象物保持部件16使用例如在使成膜对象物11的被成膜面露出的状态下保持成膜对象物11的传送托盘等。等离子枪7为压力梯度型，其主体部分经由侧壁10h的等离子体口10c连接于成膜室10b。等离子枪7在真空腔室10内生成等离子束P。在等离子枪7中生成的等离子束P沿Y轴方向从等离子体口10c向成膜室10b内射出。在安装有等离子枪7的等离子体口10c的周围设置有用于将等离子束P引导至成膜室10b的转向线圈48。转向线圈48通过转向线圈用的电源被励磁，由本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子体蒸发装置，其在腔室内使蒸发材料蒸发，所述等离子体蒸发装置具备用于蒸发所述蒸发材料的多个等离子枪，所述多个等离子枪包括：第1等离子枪，在等离子束的射出方向上具有磁力线方向；及第2等离子枪，在与等离子束的射出方向相反的方向上具有磁力线方向，从与所述蒸发材料相对的方向观察时，所述多个等离子枪并列设置于所述腔室，并且被配置成所述第2等离子枪相对于所述第1等离子枪不排列在将所述射出方向作为前方时的右侧。

【技术特征摘要】
2013.05.29 JP 2013-1129491.一种等离子体蒸发装置，其在腔室内使蒸发材料蒸发，所述等离子体蒸发装置具备：多个等离子枪，经由设置在所述腔室的侧壁的等离子体口与所述腔室连接，用于在所述腔室内生成并射出等离子束而蒸发所述蒸发材料；以及多个炉缸部，在所述腔室内与所述多个等离子枪分别对应地设置，所述多个等离子枪沿与射出所述等离子束的方向即Y轴方向的正方向交叉的方向即Z轴方向排列设置，在与所述Y轴方向的正方向以及所述Z轴方向这两个方向交叉的X轴方向上，所述多个炉缸部位于相比所述多个等离子枪靠负的方向即X轴负方向，并且，沿所述Z轴方向排列配置所述多个炉缸部，所述多个炉缸部中的各个炉缸部具有：主炉缸，填充有所述蒸发材料；以及环炉缸，配置成包围所述主炉缸，并吸引从所述多个等离子枪中的一个等离子枪射出的等离子束，所述多个等离子枪包括：第1等离子枪，在等离子束的射出方向上即所述Y轴方向的正方向上具有磁力线方向；...

【专利技术属性】
技术研发人员：宫下大，
申请(专利权)人：住友重机械工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP