本实用新型专利技术属于辐射防护设施，具体涉及一种屏蔽室。其结构包括由四面立式墙体和一面顶面墙体组成的拼接式钢制屏蔽结构，钢制屏蔽结构内部形成密闭空间，在一面立式墙体上设有电驱动推拉门，在两面立式墙体上设有窥视窗，在至少一个窥视窗的下方设有机械手安装孔、样品转运孔道和手套操作孔道。本实用新型专利技术能够满足辐射防护需求，实现分析仪器的屏蔽，并能够在辐射防护领域进行推广应用。
【技术实现步骤摘要】
本技术属于辐射防护设施，具体涉及一种用于辐射环境下分析仪器防护的屏蔽室。
技术介绍
随着核能技术的发展应用，辐照后燃料及材料需要用特殊仪器分析时需对仪器进行屏蔽处理，为特殊仪器配置屏蔽室。屏蔽室基本功能要求:内部空间可以满足仪器及部分附属设备的安装；密封良好，具有通风孔道；具有一定的γ射线屏蔽能力。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种满足辐射防护需求的屏蔽室结构，实现分析仪器的屏蔽，并能够在辐射防护领域进行推广应用。本技术的技术方案如下:一种屏蔽室，包括由四面立式墙体和一面顶面墙体组成的拼接式钢制屏蔽结构，钢制屏蔽结构内部形成密闭空间，在一面立式墙体上设有电驱动推拉门，在两面立式墙体上设有窥视窗，在至少一个窥视窗的下方设有机械手安装孔道、样品转运孔道和手套操作孔道。进一步，如上所述的屏蔽室，其中，所述的四面立式墙体分为两面主屏蔽墙和两面辅屏蔽墙，主屏蔽墙的屏蔽能力不小于30mm铅防护当量，辅屏蔽墙的屏蔽能力不小于10mm铅防护当量；所述的窥视窗、机械手安装孔道、样品转运孔道和手套操作孔道均设置在主屏蔽墙上。进一步，如上所述的屏蔽室，其中，所述的窥视窗采用屏蔽铅玻璃，在屏蔽铅玻璃的内外具有钢化玻璃保护层。窥视窗的底边距离地面的垂直高度为1200_-1500_。进一步，如上所述的屏蔽室，其中，在所述顶面墙体上设有通风孔道。进一步，如上所述的屏蔽室，其中，在所述的钢制屏蔽结构上设有电气线路进出口，在主屏蔽墙上设有电气开关。进一步，如上所述的屏蔽室，其中，在所述的钢制屏蔽结构内外表面设有嗔漆层。本技术的有益效果如下:本技术所提供的钢制屏蔽室结构由主屏蔽墙体和辅屏蔽墙体拼接组成，安装方便，适用于实验室环境；主屏蔽墙体可满足安装窥视窗、机械手和样品转运孔道的要求；专用的取样通道便于样品转运，预留的手套操作孔道可根据屏蔽室实际需要匹配合适的机械手或防护手套，便于人员进行多种操作；专用的通风管道使屏蔽室内进排风都得到过滤，避免污染环境；专用的电缆管道，便于电气安装维护；特种推拉门便于仪器检修。【附图说明】图1为本技术具体实施例中屏蔽室的结构不意图。【具体实施方式】下面结合附图和实施例对本技术进行详细的描述。本技术所提供的屏蔽室由屏蔽墙体、铅玻璃窥视窗和电驱动推拉门组成。屏蔽室内部形成一个密闭空间。如图1所示，屏蔽室由四面立式墙体1、一面顶面墙体2组成拼接式钢制屏蔽结构。立式墙体可根据屏蔽要求设置成2面主屏蔽墙，2面辅屏蔽墙，主屏蔽墙体可满足安装窥视窗、机械手和样品转运孔道的要求。立面墙体均采用拼接式结构，背面辅屏蔽墙安装1800_X 1000mm的电驱动推拉门3 (检修门)，打开方式为电驱动推拉式。主屏蔽墙体屏蔽能力不小于30mm铅防护当量，辅屏蔽墙屏蔽能力不小于10mm铅防护当量。屏蔽室内部空间不小于2500mm(L)X2000mm(W)X2200mmOl)。屏蔽室主体结构材料为Q235材质，内外表面需做喷漆处理。窥视窗4采用屏蔽铅玻璃(含内外钢化玻璃保护层)，铅玻璃内应无气泡、夹杂等现象，窥视窗的尺寸为800mmX600mm。窥视窗底边距地面垂直高度在1200mm-1500mm。正面主屏蔽墙体预置机械手安装孔道5，孔道位置根据机械手类型在窥视窗的上方或下方，孔径尺寸以配合机械手为准。并且，在屏蔽室主屏蔽墙预留手套操作孔道6，以备后续简单的维修使用。屏蔽室需预置样品转运孔道7，配带轴单开圆形屏蔽门，安装位置以便于机械手夹取样品为准，内部安装样品托盘，便于样品转入后放置。顶面墙体2预置Φ 150mm的通风孔，用于连接通风设施，确保屏蔽室内部有一定负压，配有压力安全保护装置。钢制屏蔽结构上预置电气线路进出口，主屏蔽墙上设有电气开关8;预留220V/50HZ输入接口，不少于2个；内置冷光源，强弱可调，光照方向应避免直射人眼，照度应达到较强照明要求(1000流明以上)。显然，本领域的技术人员可以对本技术进行各种改动和变型而不脱离本技术的精神和范围。这样，倘若对本技术的这些修改和变型属于本技术权利要求及其同等技术的范围之内，则本技术也意图包含这些改动和变型在内。【主权项】1.一种屏蔽室，其特征在于:包括由四面立式墙体⑴和一面顶面墙体⑵组成的拼接式钢制屏蔽结构，钢制屏蔽结构内部形成密闭空间，在一面立式墙体上设有电驱动推拉门(3)，在两面立式墙体上设有窥视窗(4)，在至少一个窥视窗(4)的下方设有机械手安装孔道(5)、样品转运孔道(7)和手套操作孔道(6)。2.如权利要求1所述的屏蔽室，其特征在于:所述的四面立式墙体分为两面主屏蔽墙和两面辅屏蔽墙，主屏蔽墙的屏蔽能力不小于30_铅防护当量，辅屏蔽墙的屏蔽能力不小于10_铅防护当量；所述的窥视窗(4)、机械手安装孔道(5)、样品转运孔道(7)和手套操作孔道(6)均设置在主屏蔽墙上。3.如权利要求1所述的屏蔽室，其特征在于:所述的窥视窗(4)采用屏蔽铅玻璃，在屏蔽铅玻璃的内外具有钢化玻璃保护层。4.如权利要求3所述的屏蔽室，其特征在于:窥视窗(4)的底边距离地面的垂直高度为 1200mm-1500mmο5.如权利要求1所述的屏蔽室，其特征在于:在所述顶面墙体(2)上设有通风孔道。6.如权利要求2所述的屏蔽室，其特征在于:在所述的钢制屏蔽结构上设有电气线路进出口，在主屏蔽墙上设有电气开关(8)。7.如权利要求1所述的屏蔽室，其特征在于:在所述的钢制屏蔽结构内外表面设有喷漆层。【专利摘要】本技术属于辐射防护设施，具体涉及一种屏蔽室。其结构包括由四面立式墙体和一面顶面墙体组成的拼接式钢制屏蔽结构，钢制屏蔽结构内部形成密闭空间，在一面立式墙体上设有电驱动推拉门，在两面立式墙体上设有窥视窗，在至少一个窥视窗的下方设有机械手安装孔、样品转运孔道和手套操作孔道。本技术能够满足辐射防护需求，实现分析仪器的屏蔽，并能够在辐射防护领域进行推广应用。【IPC分类】G21F7/06, G21F7/03, G21F7/04【公开号】CN205050568【申请号】CN201520756953【专利技术人】罗晓渭, 李小明, 张, 郭俊, 郭朝选 【申请人】中国辐射防护研究院【公开日】2016年2月24日【申请日】2015年9月28日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种屏蔽室，其特征在于：包括由四面立式墙体(1)和一面顶面墙体(2)组成的拼接式钢制屏蔽结构，钢制屏蔽结构内部形成密闭空间，在一面立式墙体上设有电驱动推拉门(3)，在两面立式墙体上设有窥视窗(4)，在至少一个窥视窗(4)的下方设有机械手安装孔道(5)、样品转运孔道(7)和手套操作孔道(6)。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：罗晓渭，李小明，张铻，郭俊，郭朝选，
申请(专利权)人：中国辐射防护研究院，
类型：新型
国别省市：山西;14
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