对称式背景装饰砖制造技术

本实用新型专利技术公开了一种对称式背景装饰砖，包括主体和釉层，釉层设于主体的表面，主体表面分为多个雕刻部，多个雕刻部对称分布，雕刻部包括多个凹槽，相邻凹槽的深度不相同，釉层与主体的上端面相平齐。由于釉层与主体的上端面相平齐，因此，使得雕刻部的凸起部分被釉层覆盖；同时，多个雕刻部对称设置，雕刻部的相邻凹槽的深度不相同，因此，使得雕刻部上覆盖釉层后，釉层的厚度不均一，具有层次感，提高美观度，减少反光面，满足使用要求。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于一种装饰用品，尤其是涉及一种对称式背景装饰砖。
技术介绍
现今陶瓷已广泛运用于建筑装饰，为了增加建筑的美观，在瓷砖上雕刻各种图案，满足使用要求；或者采用冲压成型，在粉料上成型出不同图案；或者采用注浆成型，在泥浆坯料上成型出不同图案。但现有的陶瓷上成型或雕刻的图案大多是直接在瓷砖表面进行，从而使得成型或雕刻后瓷砖表面凹凸不平，减低了瓷砖的平整度；现有部分瓷砖在成型或雕刻完成，瓷砖表面依旧平整，容易存积尘土等，不易于清洗，且反光面较多，使用不便。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种对称式背景装饰砖，能够解决上述问题中的至少一个。根据本技术的一个方面，提供了一种对称式背景装饰砖，包括主体和釉层，釉层设于主体的表面，主体表面分为多个雕刻部，多个雕刻部对称分布，雕刻部包括多个凹槽，相邻凹槽的深度不相同，釉层与主体的上端面相平齐。本技术的有益效果是:由于釉层与主体的上端面相平齐，因此，使得雕刻部的凸起部分被釉层覆盖；同时，多个雕刻部对称设置，雕刻部的相邻凹槽的深度不相同，因此，使得雕刻部上覆盖釉层后，釉层的厚度不均一，具有层次感，提高美观度，减少反光面，满足使用要求。在一些实施方式中，多个雕刻部关于主体上端面的中心对称分布。由此，可以增加雕刻后整个对称式背景装饰砖的美观度。在一些实施方式中，相邻凹槽的深度相差大于0.1mm，由此，可以体现雕刻部的层次感。在一些实施方式中，主体与釉层通过烧制固定，由此，可以增强主体与釉层结合的牢固程度。在一些实施方式中，相邻凹槽之间设有隔层，隔层的厚度大于0.1mm。由此，设有隔层，可以保证各部分在填充釉层时相互连通，保证了雕刻部的层次感，以及便于雕刻不同图案，满足不同使用要求。【附图说明】图1是本技术的对称式背景装饰砖的结构示意图；图2是本技术的对称式背景装饰砖的剖视结构示意图。【具体实施方式】下面结合附图对本技术作进一步详细的说明。参照图1和图2:对称式背景装饰砖，包括主体1和釉层2，釉层2设于主体1的表面，主体1表面分为多个雕刻部3，多个雕刻部3对称分布，雕刻部3的数量根据需要进行选择，多个雕刻部3可以关于主体1上表面的中心轴对称。雕刻部3包括多个凹槽31，相邻凹槽31的深度不相同。本技术中的釉层2与主体1的上端面相平齐，釉层2对主体1的上端面进行填平，使得整个对称式背景装饰砖表面平整，不易于灰尘等的沉积，且易于清洗，增加实用性。其中，凹槽31的数量可以根据雕刻部3所需雕刻的图案决定，釉层2在雕刻部3雕刻完成后涂敷在主体1的表面，使得釉层2覆盖整个主体1的上端面，并与雕刻部3的顶端相平，使得釉层2填满雕刻部3的凹槽31。由此，该对称式背景装饰砖通过釉层2将主体1填充平整，可以有效保护雕刻部3，增加对称式背景装饰砖的耐磨损性，保证了对称式背景装饰砖的平整度；通过凹槽31内釉层2厚度的不同，体现整个雕刻部3的立体感。多个雕刻部3关于主体1上端面的中心对称分布。由此，可以使得多块对称式背景装饰砖在拼装完成后可以使各图案依旧对称分布，增加装饰的美观性。相邻凹槽31的深度相差大于0.1mm，其中，釉层2采用透明釉或者是彩色釉加透明釉材料。相邻凹槽31的深度不一致，使得釉层2填充后可以通过釉层2的不同厚度体现出来的颜色深浅，体现雕刻部3的立体感，从而使得整个对称式背景装饰砖具有层次感，提高装饰的美观性和实用性。主体1与釉层2通过烧制固定，当雕刻部3雕刻完成后，在主体1的表面填充釉层，填充后再放入窑炉烧制完成。相邻凹槽31之间设有隔层4，隔层4的厚度大于0.1mm，隔层4与主体1为一体成型结构。相邻雕刻部3之间也通过隔层4相隔开，保证了各雕刻部3的图案的独立性。本技术的对称式背景装饰砖通过设有多个雕刻部3，使得对称式背景装饰砖的图案呈对称分布，增加美感；通过釉层2填满整个主体1上表面，减少主体1的反光面，且对称式背景装饰砖表面光洁，易于清洗，增强实用性；通过不同深度的凹槽31，使得整个对称式背景装饰砖具有层次感和立体感，更符合美学要求。以上所述的仅是本技术的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本技术的保护范围。【主权项】1.对称式背景装饰砖，其特征在于，包括主体(1)和釉层(2)，所述釉层(2)设于主体(1)的表面，所述主体⑴表面分为多个雕刻部(3)，多个所述雕刻部(3)对称分布，所述雕刻部⑶包括多个凹槽(31)，相邻所述凹槽(31)的深度不相同，所述釉层(2)与主体(1)的上端面相平齐。2.根据权利要求1所述的对称式背景装饰砖，其特征在于，多个所述雕刻部(3)关于主体(1)上端面的中心对称分布。3.根据权利要求1或2所述的对称式背景装饰砖，其特征在于，相邻所述凹槽(31)的深度相差大于0.1mm。4.根据权利要求3所述的对称式背景装饰砖，其特征在于，所述主体(1)与釉层(2)通过烧制固定。5.根据权利要求3所述的对称式背景装饰砖，其特征在于，相邻所述凹槽(31)之间设有隔层(4)，所述隔层(4)的厚度大于0.lmm0【专利摘要】本技术公开了一种对称式背景装饰砖，包括主体和釉层，釉层设于主体的表面，主体表面分为多个雕刻部，多个雕刻部对称分布，雕刻部包括多个凹槽，相邻凹槽的深度不相同，釉层与主体的上端面相平齐。由于釉层与主体的上端面相平齐，因此，使得雕刻部的凸起部分被釉层覆盖；同时，多个雕刻部对称设置，雕刻部的相邻凹槽的深度不相同，因此，使得雕刻部上覆盖釉层后，釉层的厚度不均一，具有层次感，提高美观度，减少反光面，满足使用要求。【IPC分类】E04F13/14【公开号】CN205046789【申请号】CN201520820484【专利技术人】苏乃昌 【申请人】苏乃昌【公开日】2016年2月24日【申请日】2015年10月21日本文档来自技高网...

【技术保护点】
对称式背景装饰砖，其特征在于，包括主体(1)和釉层(2)，所述釉层(2)设于主体(1)的表面，所述主体(1)表面分为多个雕刻部(3)，多个所述雕刻部(3)对称分布，所述雕刻部(3)包括多个凹槽(31)，相邻所述凹槽(31)的深度不相同，所述釉层(2)与主体(1)的上端面相平齐。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：苏乃昌，
申请(专利权)人：苏乃昌，
类型：新型
国别省市：广东;44