硅片传输控制方法及系统技术方案

本发明专利技术公开了一种硅片传输控制方法及系统，其中方法包括：在工艺过程中，实时计算工艺腔室中的当前硅片的工艺剩余时间；比较当前硅片的工艺剩余时间与预设的传片时间之间的大小，其中，预设的传片时间为机械手将片盒中的硅片传输至对应工艺腔室所需的平均时间；若当前硅片的工艺剩余时间小于或等于预设的传片时间，则控制机械手执行下一片硅片的传片动作。本发明专利技术的硅片传输控制方法及系统，减少甚至消除了硅片在传输腔中的等待时间，从而避免了由于等待造成的硅片的污染，在提升了硅片传输效率的同时提高了机台良率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造领域，特别是涉及一种硅片传输控制方法及系统。
技术介绍
在半导体制造工厂中，对硅片进行刻蚀工艺时，需要使硅片按照预先设定好的路径在机台的各个模块间传输。通常，硅片的传输路径为:片盒(LoadPort，简称LP)、大气机械手、传输腔(LoadLock,简称LL)、真空机械手、工艺腔室(ProcessModule,简称PM)、真空机械手、传输腔、大气机械手、片盒。在硅片传输的过程中，为了保证以较优的效率完成整个工艺制程，控制系统判断只要有可以移动的路径，机械手即进行传片。例如，第一片硅片在工艺腔室中进行工艺时，第二片硅片已从片盒中取出，在传输腔中等待。等第一片硅片工艺结束从工艺腔室中取出后，机械手将第二片硅片从传输腔中取出并放入工艺腔室中进行工艺。在工艺时间较长的情况下，这种传输方法会导致机台中各个模块都有可能存在正在等待传输的已工艺的或未工艺的硅片。硅片如果长时间在机台中等待，一方面机台中的残留颗粒会对硅片造成一些不必要的污染，影响良率；另一方面也会造成传输腔被占用，当有其他工艺制程同时进行调度时，无法进行传输，从而降低了传输效率。
技术实现思路
为解决这一问题，本专利技术提出了一种硅片传输控制方法及系统，避免了硅片在机台中长时间等待，以减少??圭片的污染，提升机台良率和5圭片传输效率。为实现本专利技术目的而提供的硅片传输控制方法，包括以下步骤:在工艺过程中，实时计算工艺腔室中的当前硅片的工艺剩余时间；比较所述当前硅片的工艺剩余时间与预设的传片时间之间的大小，其中，所述预设的传片时间为机械手将片盒中的硅片传输至对应工艺腔室所需的平均时间；若所述当前硅片的工艺剩余时间小于或等于所述预设的传片时间，则控制机械手执行下一片硅片的传片动作。其中，所述在工艺过程中，实时检测工艺腔室中的当前硅片的工艺剩余时间，包括以下步骤:在工艺开始后，实时监测工艺腔室中的所述当前硅片的工艺进行时间；根据获取的所述当前硅片的工艺进行时间和工艺制程中预设的当前硅片的总工艺时间，计算所述当前硅片的工艺剩余时间，所述当前硅片的工艺剩余时间等于所述当前硅片的总工艺时间与所述当前硅片的工艺进行时间的差值。其中，所述若所述当前硅片的工艺剩余时间小于或等于所述预设的传片时间，则控制机械手进行下一片硅片的传片动作，包括以下步骤:若所述当前硅片的工艺剩余时间小于或等于所述预设的传片时间，则判断片盒中是否还存在未进行工艺的硅片；若判断为是，则控制机械手从所述片盒中取片，然后将取出的硅片按照工艺制程中的传输路径进行传输；若判断为否，则等待当前硅片的工艺完成，并在工艺完成后结束工艺制程。作为一种可实施方式，所述预设的传片时间为30s_35s。作为一种可实施方式，本专利技术的硅片传输控制方法，还包括以下步骤:在工艺开始前，取首次进行工艺的硅片作为输入，计算初始的硅片传输序列；在工艺过程中，在判断所述当前硅片的工艺剩余时间小于或等于所述预设的传片时间，且所述片盒中还存在未进彳丁工艺的5圭片后，将当如工艺腔室中的娃片和所述片盒中下一片需要进行该工艺制程的硅片作为输入，重新计算所述硅片传输序列。相应地，为实现本专利技术目的而提供的硅片传输控制系统，包括依次连接的计算模块、比较模块以及控制模块；所述计算模块，用于在工艺过程中，实时计算工艺腔室中的当前硅片的工艺剩余时间；所述比较模块，用于比较所述当前硅片的工艺剩余时间与预设的传片时间之间的大小，其中，所述预设的传片时间为机械手将片盒中的硅片传输至对应工艺腔室所需的平均时间；所述控制模块，用于在所述当前硅片的工艺剩余时间小于或等于所述预设的传片时间时，控制机械手执行下一片硅片的传片动作。其中，所述计算模块包括依次连接的监测单元和计算单元；所述监测单元，用于在工艺开始后，实时监测工艺腔室中的所述当前硅片的工艺进行时间；所述计算单元，用于根据获取的所述当前硅片的工艺进行时间和工艺制程中预设的当前硅片的总工艺时间，计算所述当前硅片的工艺剩余时间，所述当前硅片的工艺剩余时间等于所述当前硅片的总工艺时间与所述当前硅片的工艺进行时间的差值。其中，所述控制模块包括判断单元、取片单元以及工艺结束单元，所述取片单元和工艺结束单元分别与所述判断单元连接；所述判断单元，用于在所述当前硅片的工艺剩余时间小于或等于所述预设的传片时间时，判断片盒中是否还存在未进行工艺的硅片；所述取片单元，用于在所述判断单元判断所述片盒中还存在所述未进行工艺的硅片时，控制机械手从所述片盒中取片，然后将取出的硅片按照工艺制程中的传输路径进行传输；所述工艺结束单元，用于在所述判断单元判断所述片盒中不存在所述未进行工艺的硅片时，等待当前硅片的工艺完成，并在工艺完成后结束工艺制程。作为一种可实施方式，所述预设的传片时间为30s_35s。作为一种可实施方式，本专利技术的娃片传输控制系统，还包括第一传输序列计算模块和第二传输序列计算模块；所述第一传输序列计算模块，用于在工艺开始前，取首次进行工艺的硅片作为输入，计算初始的硅片传输序列；所述第二传输序列计算模块，用于在工艺过程中，在判断所述当前硅片的工艺剩余时间小于或等于所述预设的传片时间，且所述片盒中还存在未进行工艺的硅片后，将当前工艺腔室中的硅片和所述片盒中下一片需要进行该工艺制程的硅片作为输入，重新计算所述娃片传输序列。本专利技术的有益效果为:本专利技术提供的硅片传输控制方法及系统，通过比较工艺腔室中的当前硅片的工艺剩余时间与预设的机械手将片盒中的硅片传输至对应工艺腔室所需的平均时间来判断是否从片盒中取下一片硅片进行传输。这样，在工艺腔室中的当前硅片的工艺即将结束之前，准备好下一片将要进入腔室的硅片，在将硅片传输至工艺腔室的过程中，减少甚至消除了硅片在传输腔中的等待时间，从而避免了由于等待造成的硅片的污染，在提升了硅片传输效率的同时提高了机台良率。【附图说明】为了使本专利技术的硅片传输控制方法及系统的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合具体附图及具体实施例，对本专利技术硅片传输控制方法及系统进行进一步详细说明。图1为本专利技术的硅片传输控制方法的一个实施例的流程图；图2为本专利技术的硅片传输控制方法的另一个实施例的流程图；图3为本专利技术的硅片传输控制系统的一个实施例的系统结构图。【具体实施方式】下面结合说明书附图，对本专利技术实施例提供的硅片传输控制方法及系统进行说明。参见图1，本专利技术提供的硅片传输控制方法，包括以下步骤:S100，在工艺过程中，实时计算工艺腔室中的当前硅片的工艺剩余时间；[当前第1页1 2 3 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硅片传输控制方法，其特征在于，包括以下步骤：在工艺过程中，实时计算工艺腔室中的当前硅片的工艺剩余时间；比较所述当前硅片的工艺剩余时间与预设的传片时间之间的大小，其中，所述预设的传片时间为机械手将片盒中的硅片传输至对应工艺腔室所需的平均时间；若所述当前硅片的工艺剩余时间小于或等于所述预设的传片时间，则控制机械手执行下一片硅片的传片动作。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘振华，
申请(专利权)人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京;11