【技术实现步骤摘要】
【专利说明】含氣化合物表面处理剂从及用其处理的制品 相关申请的交叉引用 阳00引本非临时申请根据美国法典第35卷第119节（a)款要求2014年8月7日于日本 提交的第2014-161004号的专利申请的优先权，所述专利申请的全部内容通过引用并入本 文。
本专利技术设及含氣化合物表面处理剂，更特别地设及包含用含氣代氧亚烷基的聚合 物改性的含水解性基团的硅烷和/或其部分水解缩合物的含氣化合物表面处理剂，W及用 其处理的制品，所述含氣化合物表面处理剂能够形成具有防水/油性和耐擦伤性、特别是 耐化学品性的涂层。
技术介绍
为了更好的外观和可视性，目前存在对将光学制品的表面定制为防指纹的或易于 去污溃的技术的日益增长的需求。尤其是，因为眼镜镜片、可佩戴终端和触摸面板显示器容 易被污溃如皮脂弄脏，期望在它们的表面上形成防水/油层。在现有技术中存在具有防污、 污溃擦除、耐磨性和耐擦伤性的可获得的表面处理剂。然而，它们的耐化学品性不足，留下 它们的性能随时间流逝因指纹和去污剂而劣化的问题。 阳〇化]通常，含氣代氧亚烷基的化合物借助于它们的极低的表面自由能而显示防水/油 ...
【技术保护点】
含氟化合物表面处理剂，其包含(A)由平均组成式(1)表示的用含氟代氧亚烷基的聚合物改性的含水解性基团的硅烷和/或其部分水解缩合物，其中，A为用‑CF3封端的一价氟化基团，Rf为‑(CF2)d‑(OCF2)p(OCF2CF2)q(OCF2CF2CF2)r‑(OCF2CF2CF2CF2)s(OCF(CF3)CF2)t‑O(CF2)d‑，d独立地为0至5的整数，p、q、r、s和t各自独立地为0至200的整数，p+q+r+s+t为10至200，括号内的单元可以无规地排列，Q为单键或二价有机基团，B为二价基团‑J2C‑、二价基团‑L2Si‑、三价基团‑JC＝、三价基团‑LSi＝、四价...
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：山根祐治，松田高至，酒匂隆介，小池则之，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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