涂布有改进外涂层性能的硅/有机层的物品制造技术

技术编号:12846901 阅读:127 留言:0更新日期:2016-02-11 13:27
本发明专利技术涉及一种物品,该物品包括具有至少一个主表面的一个衬底,该至少一个主表面涂布有与一个疏水性外层B直接接触的一个层A,其特征在于所述层A通过在离子束下沉积源于至少一种化合物C的活化物种而获得,该至少一种化合物C呈气态形式,在其结构中含有:-至少一个碳原子;-至少一个氢原子;-至少一个Si-X基团,其中X是一个羟基或选自以下的一个可水解基团:H;卤素;烷氧基;芳氧基和酰氧基;-NR1R2,其中R1和R2独立地表示一个氢原子、烷基或芳基;以及-N(R3)-Si,其中R3表示一个烷基或芳基,所述化合物C既不是四甲基二硅氧烷,也不是四乙氧基硅烷、也不是乙烯基甲基二乙氧基硅烷、也不是六甲基环三硅氮烷,所述层A不是由无机前体化合物形成的。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】涂布有改进外涂层性能的硅/有机层的物品 本专利技术总体上涉及一种制品,优选地一种光学制品,尤其是一种眼科镜片,该制品 具有一个外涂层,优选地一个抗污涂层,该涂层的性能通过一个下层的存在得以改进,并且 涉及一种用于生产这种制品的方法。此外,该制品具有改进的热机械特性和有限的随时间 推移产生外观缺陷的倾向。 光学制品最常见地包括一个改变表面能的外层,例如一个疏水和/或疏油性抗污 涂层,该涂层在本领域中众所周知并且通常与减反射涂层相关联。这是氟硅烷类型材料最 常见的一个问题,即降低表面能以便防止油污的粘附,因此更易于去除油污。 以申请人名义的专利申请PCT/FR 12053092描述了一种制品,该制品包括具有涂 布有多层干涉涂层的至少一个主表面的一个衬底,所述涂层含有不是由无机前体化合物形 成且具有低于或等于1. 55的折射率的一个层A,该层A是: 。该干涉涂层的外层; 〇或者与该干涉涂层的外层直接接触的一个中间层,在此第二种情况中,该干涉 涂层的这个外层是具有低于或等于1. 55的折射率的一个附加层,所述层A通过在离子束下 沉积源于至少一种前体化合物C的活化物种而获得,该至少一种前体化合物C呈气态形式 并且具有硅-有机性质,如八甲基环四硅氧烷。 在层A是干涉涂层的外层的情况下,已经观察到直接沉积在此层A上的抗污涂层 的性能是不能令人满意的。在层A与抗污涂层之间沉积一个附加层,典型地一个二氧化硅 层,允许抗污涂层的性能得到改进,但使得沉积过程复杂化并且相对于前述实施例略微降 低耐刮擦性和粘附特性。 因为这个原因,为了能够充分受益于有机层A的优点,将令人希望的是能够改进 外涂层特别是抗污涂层的性能,而不需要在层A与此外涂层之间插入一个附加层。此外,通 过离子束沉积的有机层A的使用可能导致在某些衬底上逐渐出现白色和半透明的外观缺 陷,这些缺陷采取点和线的形式,在镜片的整个表面上延伸并且在某些光照条件(弧光灯 或采用应变测试仪(tensioscope))下可见。光学制品上在其生产后出现的外观缺陷妨碍 其被售出。取决于衬底,这些缺陷从一开始就存在,或者在可在从几天到几个月的范围内的 一定时间长度之后当眼科镜片被佩戴时出现。 在专利申请PCT/FR 12053092中,通过在层A的沉积过程中使用氩气流可以尤其 防止这些缺陷的出现。然而,这具有需要调整和控制该过程以保证没有外观缺陷的缺点。因 此,将优选具有一种对参数变化较不敏感的更加稳健的工艺。 专利US 6 919 134描述了一种包括减反射涂层的光学制品,该减反射涂层含有 至少一个通过一种有机化合物和一种无机化合物的共蒸发获得的所谓的"混合"层,从而为 该涂层提供更好的粘附性、更好的耐热性以及更好的耐磨性。该减反射涂层优选含有两个 "混合"层,一个在内部位置而另一个在外部位置。这些层通常是通过典型地二氧化硅和改 性硅油的离子辅助共蒸发而沉积的。 专利申请JP 2007-078780描述了一种包括多层减反射涂层的眼镜片,其外层是 一个所谓的"有机"低折射率层。此层是通过湿法处理(旋涂或浸涂)来沉积的,而减反射 涂层的无机层是通过离子辅助真空沉积来沉积的。该专利申请指出,这种减反射叠层具有 比完全由无机层组成的减反射涂层更好的耐热性。所述"有机"层优选含有二氧化硅颗粒 与有机硅烷粘合剂(如y_缩水甘油氧基丙基二甲氧基硅烷)的混合物。 专利申请JP 05-323103描述了将一种有机氟化合物并入含有Si(V^Ti02的层的 光学多层叠层的最后一层,目的在于使其疏水并从而最小化由水的吸收所造成的其光学特 征的改变。含氟层是通过在由含氟前体(可以是四氟乙烯或氟烷基硅烷)组成的气氛中气 相沉积该层的构成材料获得的。 外观缺陷出现和外涂层性能的问题在以上引用的任何文件中均没有得到解决。 此外,在配镜师处修整和装配眼镜过程中,眼镜经受机械变形,这可能在无机干涉 涂层中产生裂纹,特别是当操作不是小心进行时。同样,热应力(框架的加热)可以在干涉 涂层中产生裂纹。取决于裂纹的数目和尺寸,后者可能会损害佩戴者的视野并妨碍眼镜被 售出。此外,当处理过的有机眼镜被佩戴时,可能出现刮痕。在无机干涉涂层中,某些刮痕 导致裂化,使得刮痕由于光的散射而更加可见。 因此,本专利技术的另一个目的是获得一种涂层,特别是一种干涉涂层,并且具体地是 一种减反射涂层,该涂层具有改进的热机械特性,同时保持良好的粘附特性,此外该涂层随 着时间推移不(或几乎不)产生外观缺陷。特别地,本专利技术涉及具有改进的临界温度(即, 当它们经受温度增加时具有良好的耐裂化性)的制品。 具体地说,诸位专利技术人已经发现改变直接沉积在制品外涂层下的层(在眼科光学 中,该层通常是与抗污涂层直接接触的干涉涂层的低折射率层(典型地是二氧化硅层))的 性质允许实现这些针对性目的。根据本专利技术,此层是通过在离子束下沉积呈气态形式的活 化物种而形成的,这些物种优选地完全获自前体材料,这些前体材料本质上是有机的并且 含有至少一个硅-可水解基团键且优选地至少一个氢-硅键。 因此,根据本专利技术通过一种制品来实现这些针对性目的,该制品包括具有涂布有 一个层A的至少一个主表面的一个衬底,所述层A与一个疏水性外涂层B直接接触并且通 过在离子束下沉积源于至少一种化合物C的活化物种而获得,该至少一种化合物C呈气态 形式,在其结构中含有: -至少一个碳原子; -至少一个氢原子; -至少一个Si-X基团,其中X是一个羟基或选自以下基团的一个可水解基团:Η ; 卤素;烷氧基;芳氧基;酰氧基;-NRf,其中R1和R2独立地表示一个氢原子、烷基或芳基; 以及_N(R3)-Si,其中R3表示一个烷基或芳基; -以及任选地至少一个氮原子和/或至少一个氧原子, 所述化合物C既不是四甲基二硅氧烷也不是四乙氧基硅烷、也不是乙烯基甲基二 乙氧基硅烷、也不是六甲基环三硅氮烷,并且所述层A不是由无机前体化合物形成的。 本专利技术将参考附图更详细地进行说明,其中图1示意性地示出了镜片所经历的变 形以及其中此变形D在实验部分所描述的耐弯曲性测试中进行测量的方式。 在本申请中,当一个制品在其表面上具有一个或多个涂层时,表述"在制品上沉积 一个层或一个涂层"应理解为是指将一个层或一个涂层沉积在制品的外涂层的未覆盖的 (暴露的)表面上,即其距该衬底最远的涂层。 在衬底"上"或已沉积在衬底"上"的一个涂层被定义为以下涂层(i)放置在该衬 底上方,(ii)不一定与该衬底接触(虽然优选接触),即一个或多个中间涂层可以安排在所 讨论的衬底与涂层之间,并且(iii)不一定完全覆盖该衬底(尽管优选这样做)。当"层1 位于层2之下"时,应理解,该层2比该层1距该衬底更远。 根据本专利技术生产的制品包括一个衬底,优选一个透明衬底,该衬底具有正面和背 面的主面,所述主面的至少一个且优选地这两个主面均包括一个层A。 该衬底的"背面"(背面通常是凹的)应理解为是当制品被使用时,最接近佩戴者 的眼睛的面。相反,衬底的"正面"(正面通常是凸的)应理解为是当制品被使用时,最远离 佩戴者的眼睛的面。 尽管根据本专利技术的制品可以是任何类型的制品,如屏幕、上光(glazing)单元、尤 其可以用于工作环境的一副防护眼镜、镜子、或在电本文档来自技高网...
涂布有改进外涂层性能的硅/有机层的物品

【技术保护点】
一种包括具有至少一个主表面的衬底的制品,该至少一个主表面涂布有与疏水性外涂层B直接接触的层A,其特征在于所述层A通过在离子束下沉积源于至少一种化合物C的活化物种而获得,该至少一种化合物C呈气态形式,在其结构中含有:‑至少一个碳原子;‑至少一个氢原子;‑至少一个Si‑X基团,其中X是羟基或选自以下基团的可水解基团:H;卤素;烷氧基;芳氧基;酰氧基;‑NR1R2,其中R1和R2独立地表示氢原子、烷基或芳基;以及‑N(R3)‑Si,其中R3表示烷基或芳基;以及‑任选地至少一个氮原子和/或至少一个氧原子,所述化合物C既不是四甲基二硅氧烷,也不是四乙氧基硅烷、也不是乙烯基甲基二乙氧基硅烷、也不是六甲基环三硅氮烷,并且所述层A不是由无机前体化合物形成。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:S·基亚罗托B·富尔S·佩嘉K·谢勒
申请(专利权)人:埃西勒国际通用光学公司
类型:发明
国别省市:法国;FR

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