高精度抛光液及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种高精度抛光液及其制备方法，抛光液包括如下重量份的组分：氧化铈300-600份、硅酸钾500-800份、硅溶胶50-100份、氢氟酸5-10份、氧化铝10-20份、高锰酸钾5-10份、二氧化硅5-10份和水200-500份。优点为该抛光液抛光去污力高，抛光后的表面无划痕和腐蚀缺陷，平整度高、易清洗；另外，本发明专利技术方法简单易行，投资少、成本低，容易实现。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种化工用品，尤其涉及一种。
技术介绍
现有的高精度抛光液对各类氧化物、玻璃制品等表面去污清洁抛光效果较差，甚至会损坏制品表面。
技术实现思路
专利技术目的:本专利技术的第一目的是提供一种平化抛光效率较高的抛光液；本专利技术的第二目的是提供该抛光液的制备方法。技术方案:本专利技术所述的高精度抛光液，包括如下重量份的组分:氧化铈300-600份、硅酸钾500-800份、硅溶胶50-100份、氢氟酸5_10份、氧化铝10-20份、高锰酸钾5_10份、二氧化硅5-10份和水200-500份。其中，所述氧化铈400份、硅酸钾600份、硅溶胶80份、氢氟酸8份、氧化铝15份、高锰酸钾8份、二氧化硅8份和水300份。本专利技术所述高精度抛光液的制备方法，包括如下步骤: (1)将氧化铈、二氧化硅和硅溶胶分散在水中，制得氧化铈悬浊液； (2)向氧化铺悬浊液中加入氣氟酸，调节溶液pH为6-8； (3)加入剩余组分，然后加热至50-80°C，保温l_2h，然后冷却、静置即可。有益效果:本专利技术与现有技术相比，其显著优点为:该抛光液抛光去污力高，抛光后的表面无划痕和腐蚀缺陷，平整度高、易清洗；另外，本专利技术方法简单易行，投资少、成本低，容易实现。【具体实施方式】实施例1 配方:氧化铈300份、硅酸钾500份、硅溶胶50份、氢氟酸5份、氧化铝10份、高锰酸钾5份、二氧化硅5份和水200份。制备方法:首先，将氧化铈、二氧化硅和硅溶胶分散在水中，制得氧化铈悬浊液；其次，向氧化铺悬浊液中加入氣氟酸，调节溶液pH为6-8 ;最后,加入剩余组分，然后加热至50-80°C，保温l_2h，然后冷却、静置即可。实施例2 配方:氧化铈600份、硅酸钾800份、硅溶胶100份、氢氟酸10份、氧化铝20份、高锰酸钾10份、二氧化娃10份和水500份。 制备方法与实施例1相同。实施例3配方:氧化铈400份、硅酸钾600份、硅溶胶80份、氢氟酸8份、氧化铝15份、高锰酸钾8份、二氧化硅8份和水300份。制备方法与实施例1相同。【主权项】1.一种高精度抛光液，其特征在于包括如下重量份的组分:氧化铈300-600份、硅酸钾500-800份、硅溶胶50-100份、氢氟酸5_10份、氧化铝10-20份、高锰酸钾5_10份、二氧化硅5-10份和水200-500份。2.根据权利要求1所述的高精度抛光液，其特征在于:所述氧化铈400份、硅酸钾600份、硅溶胶80份、氢氟酸8份、氧化铝15份、高锰酸钾8份、二氧化硅8份和水300份。3.根据权利要求1所述高精度抛光液的制备方法，其特征在于包括如下步骤: (1)将氧化铈、二氧化硅和硅溶胶分散在水中，制得氧化铈悬浊液； (2)向氧化铺悬浊液中加入氣氟酸，调节溶液pH为6-8； (3)加入剩余组分，然后加热至50-80°C，保温l_2h，然后冷却、静置即可。【专利摘要】本专利技术公开了一种，抛光液包括如下重量份的组分：氧化铈300-600份、硅酸钾500-800份、硅溶胶50-100份、氢氟酸5-10份、氧化铝10-20份、高锰酸钾5-10份、二氧化硅5-10份和水200-500份。优点为该抛光液抛光去污力高，抛光后的表面无划痕和腐蚀缺陷，平整度高、易清洗；另外，本专利技术方法简单易行，投资少、成本低，容易实现。【IPC分类】C09G1/02【公开号】CN105315893【申请号】CN201410365433【专利技术人】李尧 【申请人】李尧【公开日】2016年2月10日【申请日】2014年7月29日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高精度抛光液，其特征在于包括如下重量份的组分：氧化铈300‑600份、硅酸钾500‑800份、硅溶胶50‑100份、氢氟酸5‑10份、氧化铝10‑20份、高锰酸钾5‑10份、二氧化硅5‑10份和水200‑500份。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李尧，
申请(专利权)人：李尧，
类型：发明
国别省市：江苏;32