肟酯光敏引发剂制造技术

技术编号:12831529 阅读:51 留言:0更新日期:2016-02-07 18:02
式I、II、III、IV或V的肟酯化合物为有效的光敏引发剂,其中Z为例如(式A);Z1为例如NO2、未经取代或经取代的C7-C20芳酰基或未经取代或经取代的C4-C20杂芳酰基;条件为至少一个Z1不同于NO2;Z2为例如未经取代或经取代的C7-C20芳酰基;R1、R2、R3、R4、R5和R6为例如氢、卤素、或未经取代或经取代的C1-C20烷基、未经取代或经取代的C6-C20芳基、或未经取代或经取代的C4-C20杂芳基;R9、R10、R11、R12和R13为例如氢、卤素、OR16、未经取代或经取代的C1-C20烷基;条件为R9与R13不为氢或氟;R14为例如未经取代或经取代的C6-C20芳基或C3-C20杂芳基;Q为例如C6-C20亚芳基或C3-C20亚杂芳基;Q1为-C1-C20亚烷基-CO-;Q2为亚萘甲酰基;Q3为例如亚苯基;L为例如O-亚烷基-O-;R15为例如氢或C1-C20烷基;R20为例如氢、或未经取代或经取代的C1-C20烷基。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
式IV的化合物,其中Z为或未经取代或经一个或多个相同或不同R10取代的C4‑C20杂芳酰基;R1、R2、R3、R4、R5和R6彼此独立地为氢、卤素、OR16、SR17、NR18R19或C1‑C20烷基,该C1‑C20烷基未经取代或经一个或多个卤素、OR16、COOR16、CONR18R19或NR18R19取代;或R1、R2、R3、R4、R5和R6彼此独立地为C6‑C20芳基或C4‑C20杂芳基,其各自未经取代或经一个或多个C1‑C6烷基、C1‑C4卤代烷基或卤素取代;R9、R10、R11、R12和R13彼此独立地为氢、卤素、OR16、SR17、NR18R19、CN、NO2或间隔有一个或多个O、S或NR21的C2‑C20烷基,其中该间隔的C2‑C20烷基未经取代或经以下基团取代:一个或多个卤素、OR16、COOR16、SR17、CONR18R19、C6‑C20芳基、C3‑C20杂芳基或C3‑C20环烷基、间隔有一个或多个O、S、NR21的C3‑C20环烷基;或R9、R10、R11、R12和R13彼此独立地为未经取代或经以下基团取代的C1‑C20烷基:一个或多个卤素、OR16、SR17、COOR16、CONR18R19、NR18R19、苯基、C3‑C8环烷基、C3‑C20杂芳基或M;条件为R9与R13不为氢或氟;R14为C6‑C20芳基或C3‑C20杂芳基,其各自未经取代或经以下基团取代:一个或多个苯基、卤素、C1‑C4卤代烷基、CN、NO2、OR16、SR17、NR18R19、PO(OCkH2k+1)2、SO‑C1‑C10烷基、SO2‑C1‑C10烷基、M、或间隔有一个或多个O、CO、S、C(O)O、OC(O)、亚苯基、亚萘基或NR21的C2‑C20烷基,或该C6‑C20芳基或该C3‑C20杂芳基各自经一个或多个C1‑C20烷基取代,该C1‑C20烷基未经取代或经一个或多个卤素、COOR16、CONR18R19、苯基、C3‑C8环烷基、C3‑C20杂芳基、C6‑C20芳氧基羰基、C3‑C20杂芳氧基羰基、OR16、SR17、NR18R19或M取代;Q2为其中该双星号表示与咔唑基的键且其中该亚萘甲酰基或亚苯甲酰基未经取代或经一个或多个相同或不同R10取代;M为G为NO2或‑COR28;L为C1‑C20亚烷基、C2‑C12亚烯基、O‑亚苯基‑O、O‑亚萘基‑O、S‑C1‑C20亚烷基‑S、S‑亚苯基‑S、S‑亚萘基‑S、C2‑C20亚烷基,该C2‑C20亚烷基间隔有一个或多个选自如下基团:O、S、CO、(CO)O、O(CO)、亚苯基和亚萘基,或L为O‑C1‑C20亚烷基‑O、间隔有一个或多个选自如下基团的O‑C2‑C20亚烷基‑O:O、S、CO、(CO)O、O(CO)、亚苯基和亚萘基,或L为间隔有一个或多个选自如下基团的S‑C2‑C20亚烷基‑S:O、S、CO、(CO)O、O(CO)、亚苯基和亚萘基,其中所定义的所有基团L未经取代或经一个或多个卤素取代;R”14为未经取代或经以下基团取代的C1‑C20烷基:苯基或经一个或多个卤素、C1‑C20烷基、C1‑C4卤代烷基、OR16、SR17或NR18R19取代的苯基;或R14为间隔有一个或多个O、CO、S、C(O)O、OC(O)、亚苯基、亚萘基或NR21的C2‑C20烷基,其中该间隔的C2‑C20烷基未经取代或经以下基团取代:一个或多个卤素、OR16、COOR16、CONR18R19、苯基或经OR16、SR17或NR18R19取代的苯基;或R14为CN、CONR18R19、NO2、C1‑C4卤代烷基、S(O)m‑C1‑C6烷基、未经取代或经C1‑C12烷基或SO2‑C1‑C6烷基取代的S(O)m‑苯基;或R14为未经取代或经C1‑C12烷基取代的SO2O‑苯基;或为二苯基膦酰基或二‑(C1‑C4烷氧基)‑膦酰基;或R14为C6‑C20芳基或C3‑C20杂芳基,其各自未经取代或经以下基团取代:一个或多个苯基、卤素、C1‑C4卤代烷基、CN、NO2、OR16、SR17、NR18R19、PO(OCkH2k+1)2、SO‑C1‑C10烷基、SO2‑C1‑C10烷基或间隔有一个或多个O、CO、S、C(O)O、OC(O)、亚苯基、亚萘基或NR21的C2‑C20烷基,或其各自经一个或多个C1‑C20烷基取代,该C1‑C20烷基未经取代或经以下基团取代:一个或多个卤素、COOR16、CONR18R19、苯基、C3‑C8环烷基、C3‑C20杂芳基、C6‑C20芳氧基羰基、C3‑C20杂芳氧基羰基、OR16、SR17或NR18R19;R15为氢、C3‑C8环烷基、C2‑C5链烯基、C1‑C20烷氧基或C1‑C20烷基,该C1‑C20烷基未经取代或经一个或多个卤素、苯基、C1‑C20烷基苯基或CN取代;或R1...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:西前祐一仓久敏国本和彦山上隆平田中庆太
申请(专利权)人:巴斯夫欧洲公司
类型:发明
国别省市:德国;DE

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