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激光脉冲溅射沉积制备Ni-Mn-Co-In合金薄膜的方法技术

技术编号:12822951 阅读:58 留言:0更新日期:2016-02-07 13:14
本发明专利技术提供了一种激光脉冲溅射沉积制备Ni-Mn-Co-In合金薄膜的方法。该合金薄膜的结构通式为Ni50Mn34In16-XCoX,通式中x=0、2、4、6,该薄膜按如下方法制备:按配比取Ni、Mn、Co、In金属单质作为靶材原料,将靶材原料放置于非自耗真空电弧炉熔内熔炼,电弧炉内抽真空至5×10-3Pa后,充入保护气,得到圆形靶材;将预处理后的基板和靶材放入真空系统中,抽真空至1.0×10-4Pa,基板温度为500~700℃,基板与靶材间距离为3~5cm;再用激光器发射激光,控制频率为3~4Hz,溅射1~3小时,制得要求厚度的薄膜;最后将薄膜在800~900℃下退火0.5~3h,制备出Ni50Mn34In16-XCoX合金薄膜。本发明专利技术制备的合金薄膜的成分更精确,粗糙度更低,各向异性强,该合金薄膜韧性好,强度大,制备工艺简单,成本低,易于工业化生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于金属合金
,涉及一种铁磁性形状记忆合金薄膜制备的方法, 具体来说是激光脉冲派射沉积制备Ni-Mn-Co-In合金薄膜的方法。
技术介绍
磁驱动形状记忆合金是一类新型形状记忆材料,不但具有传统形状记忆合金受温 度场控制的形状记忆效应,还可在磁场的作用下产生较大的应变。已发现的磁驱动记忆合 金主要包括Ni-Mn-Ga(Al)、Ni-Fe-Ga、Co-Ni-Ga(Al)和Ni-Mn-X(x=In,Sn,Sb)合金。其 中Ni-Mn-X系列合金是近年来发展起来的一种新型磁驱动形状记忆合金。Ni-Mn-In合金 在偏离Heulser化学计量比时仍具有热弹性马氏体相变,并且在一定成分范围内或通过掺 杂铁磁元素Co实现了磁场驱动马氏体逆相变,产生宏观应变,并伴随着应力输出。这类磁 驱动形状记忆合金磁感生应变的本质在于马氏体相与母相具有较大的饱和磁化强度差,施 加磁场后合金相变温度显著降低,一定温度范围内施加磁场则可使合金从马氏体相转变为 母相,从而产生形状记忆效应。研究表明,Ni-Co-Mn-In单晶可在磁场作用下发生马氏体逆 相变,可使3%的预压缩应变完全恢复,本文档来自技高网...
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【技术保护点】
一种激光脉冲溅射沉积制备Ni‑Mn‑Co‑In合金薄膜,其特征在于,所述Ni‑Mn‑Co‑In合金薄膜的结构通式为Ni50Mn34In16‑XCoX,通式中x=0、2、4、6。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:董桂馥
申请(专利权)人:大连大学
类型:发明
国别省市:辽宁;21

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