本发明专利技术在于提供一种表面处理剂，即通过干燥时为疏水性，与水接触时慢慢变为亲水性，从而化妆保持性与冲洗性并存。具体而言，为含有下述通式(1)表示的第1嵌段共聚物的表面处理剂。(式(1)中，R1、R2各自独立地表示烷基、聚氧化亚烷基、酰基、苯基、芳烷基，X表示不邻接的碳原子可被氧原子取代从而形成醚的碳原子数1～18的烷基链，Y表示单键或2价的连接基团，Z1表示氢原子或甲基，n、m表示聚合度)。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及可使化妆保持性与冲洗性并存的表面处理剂。
技术介绍
由于化妆产品、防晒产品等的化妆料1整天被涂布于肌肤，所以寻求化妆保持性 的良好度。因此，为了不发生汗、泪等水分引起的脱妆，通过高级脂肪酸、氟化合物、有机硅 等疏水性的表面处理剂对化妆料中所包含的粉体进行防水（water-repe 11 ing)化处理。 然而，虽然实施了防水化处理的粉体的化妆保持性提高，但由于清洗时变得难以 用水洗掉，所以必须使用专用的洁肤剂、反复清洗数次才能洗掉。 若将粉体进行亲水化处理，则冲洗性提高，但是由于亲水性粉体的化妆保持性变 差，故而必须频繁地进行补妆。即，难于使需要疏水性的化妆保持性与需要亲水性的冲洗性 并存。 专利文献1记载了由有机硅构成的表面处理剂，专利文献2记载了由丙烯酸类及/ 或其酯的共聚物构成的表面处理剂，专利文献3记载了由烷基氟改性有机硅油构成的表面 处理剂。此外，专利文献4记载了由甲基丙烯酰胺十一酸与丙烯酰胺甲磺酸钠构成的耐水 性与易冲洗性并存的表面处理剂。 现有技术文献 专利文献 专利文献1日本特开昭60-163973号公报 专利文献2日本特开平8-337514号公报 专利文献3日本特开平08-143423号公报 专利文献4日本专利第4681406号公报
技术实现思路
本专利技术在于提供下述表面处理剂，即通过干燥时为疏水性，与水接触时慢慢变为 亲水性，从而化妆保持性与冲洗性并存。 用于解决上述课题的方法如下所示。 1. -种表面处理剂，其特征在于，含有下述通式⑴表示的第1嵌段共聚物，(式（1)中，Ri、!^各自独立地表不烷基、聚氧化亚烷基、醜基、苯基、芳烷基，X表不 不邻接的碳原子可被氧原子取代从而形成醚的碳原子数1~18的烷基链，Y表示单键或2 价的连接基团，Zi表示氢原子或甲基，n、m表示聚合度。） 2.根据1.所述的表面处理剂，其特征在于，所述第1嵌段共聚物的Rp R2为碳原 子数1~4的烷基或苯基。 3.根据2.所述的表面处理剂，其特征在于，所述第1嵌段共聚物的Rp R2同为甲 基。 4. -种表面处理剂，其特征在于，含有下述通式⑵表示的第2嵌段共聚物，(式（2)中，R3、R4各自独立地表不氣原子、烷基、苯基、烷氧基，W表不氣原子或甲 基，z2表示氢原子或甲基，p、q表示聚合度。） 5.根据4.所述的表面处理剂，其特征在于，所述第2嵌段共聚物的R3、R 4为氢原 子、碳原子数1~4的烷基或碳原子数1~4的醚基。 6.根据5.所述的表面处理剂，其特征在于，所述第2嵌段共聚物的R3、R 4同为氢 原子。 7.根据1.~3.中任一项所述的表面处理剂，其特征在于，含有4.~6.中任一项 所述的第2嵌段共聚物。 8.根据7.所述的表面处理剂，其特征在于，所述第1嵌段共聚物与所述第2嵌段 共聚物的重量比为80 :20~20 :80。 由于本专利技术的表面处理剂在干燥环境下显示疏水性、在湿润环境下显示亲水性， 所以当用于化妆料中的粉体时，可得到使用中的化妆保持性优异、易于冲洗的化妆料。【附图说明】 图1为由第1嵌段共聚物构成的薄膜的表面偏析模型。 图2为由第2嵌段共聚物构成的薄膜的表面偏析模型。 图3为由第1嵌段共聚物与第2嵌段共聚物构成的薄膜的表面偏析模型。 图4为第1嵌段共聚物的i-NMR图谱。 图5为表示表面处理膜1的接触角变化的图。 图6为表示表面处理膜2的接触角变化的图。 图7为表示表面处理膜3的接触角变化的图。 图8为表示表面处理膜4的接触角变化的图。 图9为表示在不同条件下形成的表面处理膜的接触角变化的图。 图10为表示表面处理膜7的接触角变化的图。 图11为表示表面处理膜8的接触角变化的图。 图12为表示表面处理膜9的接触角变化的图。 图13为表示表面处理膜10的接触角变化的图。 图14为表示表面处理膜11的接触角变化的图。 图15为表示表面处理膜12的接触角变化的图。 符号说明 1. Q 片段 2. PTMC 片段 3. PEG 片段 4. D-PTMC 片段【具体实施方式】 "含有嵌段共聚物的表面处理剂" 通常而言，由于不同种类的高分子不相溶，所以混合时会分离，然而由于嵌段共聚 物的不同种类的高分子链通过共价键而连接，所以在宏观尺度（macro scale)上无法分离。 因此，嵌段共聚物的具有不同重复单元的片段彼此要尽可能分离，则发生以分子链的大小 程度进行分离的微相分离。 在高分子链具有流动性的玻璃化温度以上，根据外部环境嵌段共聚物一侧的片段 向表面移动，以便表面能变得更低。即，根据周围的环境发生片段的再取向，从而引起一侧 的片段在表面偏在的表面偏析。嵌段共聚物的表面偏析可通过X射线光电子分光法、能量 分散型X射线分析法、傅立叶变换红外分光计-衰减全反射法、透射电子显微镜等进行观 察。 本专利技术的表面处理剂利用了如下特征，即在形成嵌段共聚物的具有不同重复单元 的片段中，干燥下更为疏水的片段在表面发生偏析，湿润下更为亲水的片段在表面发生偏 析。由于通过该表面偏析，本专利技术的表面处理剂在干燥时为疏水性而与水接触等时慢慢变 为亲水性，所以当应用于化妆料中的粉体时，可使化妆保持性与冲洗性并存。 在此，形成本专利技术的嵌段共聚物的片段没有必要为亲水性和疏水性的片段，只要 相对地与亲水性的程度有差别即可。即，也可为由疏水性片段与疏水性片段构成的嵌段共 聚物。 可通过将本专利技术的表面处理剂溶解于有机溶剂，并将其溶液涂布于被处理物并进 行干燥，从而来进行表面处理。被处理物并不限定于粉体，也可为由各种塑料构成的薄膜、 玻璃板、金属板等。此外，通过将本专利技术的表面处理剂与粉体进行混合并搅拌，即使不使用 有机溶剂也可进行表面处理。 "第1嵌段共聚物" 本专利技术中使用的第1嵌段共聚物如下述通式（1)所示。 式（1)中，Rp R2各自独立地表不烷基、聚氧化亚烷基、醜基、苯基、芳烷基，X表不 不邻接的碳原子可被氧原子取代从而形成醚的碳原子数1~18的烷基链，Y表示单键或2 价的连接基团，Zi表示氢原子或甲基，n、m表示聚合度。 当&、私的分子结构的体积大时，由于运动性降低从而相对于环境变化的响应性 降低，所以优选碳原子数1~4的烷基、苯基，最优当前第1页1 2 3 4 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种表面处理剂，其特征在于，含有下述通式(1)表示的第1嵌段共聚物，式(1)中，R1、R2各自独立地表示烷基、聚氧化亚烷基、酰基、苯基、芳烷基，X表示不邻接的碳原子可被氧原子取代从而形成醚的碳原子数1～18的烷基链，Y表示单键或2价的连接基团，Z1表示氢原子或甲基，n、m表示聚合度。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：岩本千纮，粂井贵行，渡边顺司，
申请(专利权)人：株式会社芳珂，学校法人甲南学园，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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