晶体管装置及记忆装置及晶体管装置的制造方法制造方法及图纸

技术编号:12814252 阅读:69 留言:0更新日期:2016-02-05 14:20
本发明专利技术是有关于一种晶体管装置及记忆装置及晶体管装置的制造方法。该晶体管装置包括跨置导体,晶体管具有栅极、通道及源极/漏极端,跨置导体设于源极/漏极端,电路连接于跨置导体,以施加一偏压,此偏压对被捕捉于绝缘材料内的电荷产生补偿倾向。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种整合电路的晶体管,晶体管包括多个适合作为一高电压通道晶体管(high voltage pass transistor),其可应用于一些高密度记忆体的解译结构(decoding structure)。
技术介绍
在一高密度记忆体中,多个记忆胞的多个阵列常分割成多个记忆胞区块。各记忆胞区块可包括区域字线,所需的对应区域字线驱动器。在此些结构中,一整体字线驱动器可驱动阵列中一行区块的一组区域字线。该组区域字线的各字线是根据作用于所选择的区块的操作而配置,此处的操作例如是对高密度快闪装置的读取、编程及抹除。对应一些记忆体装置的类型而言,一些操作可要求高电压且一些可要求负电压。如此,字线驱动器被要求符合不同高电压及负电压操作参数。在这些环境下的字线驱动器可包括通道晶体管(pass transistor),其用以传输电压从整体字线到区域字线。此些通道晶体管会遭遇到高电场,其中高电场足以导致非预期电荷被捕捉于源极/漏极端之上的绝缘材料。被捕捉于此些位置的电荷可产生电场,此电场将使得晶体管通道中的电荷载子传输能力下降,致使晶体管的电压传输能力不足。此不足的电压降会妨碍解译本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种晶体管装置,其特征在于其包括:一晶体管,具有一栅极、一通道及一第一源极/漏极端;一跨置导体,设于该第一源极/漏极端上方,且与该第一源极/漏极端隔离,且通过一绝缘材料与该栅极隔离;以及一电路,连接于该跨置导体,以施加一偏压,而倾向产生该晶体管的电荷被捕捉于该绝缘材料的补偿效果。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:张逸鵬陈映仁
申请(专利权)人:旺宏电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:中国台湾;71

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