【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于蓝宝石晶片的加工领域,特别涉及一种用于蓝宝石A面的化学机械抛光组合物。
技术介绍
蓝宝石单晶(Sapphire),又称白宝石,分子式为Al2O3,透明,与天然宝石具有相同的光学特性和力学性能,有着很好的热特性,极好的电气特性和介电特性,并且防化学腐蚀,对红外线透过率高,有很好的耐磨性,硬度仅次于金刚石,达莫氏9级,在高温下仍具有较好的稳定性,熔点为2030℃,所以被广泛应用于工业、国防、科研等领域,越来越多地用作固体激光、红外窗口、半导体芯片的衬底片、精密耐磨轴承等高
中零件的制造材料。蓝宝石具有优异的化学稳定性、光学透明性和合乎需要的机械性能,如抗碎裂性、耐久性、抗刮擦性、抗辐射性和在高温的挠曲强度等,已广泛应用于LED衬底,红外窗口,手机面板等领域。无论是LED衬底、红外窗口、还是手机面板,都需要表面超光滑,而此目的的实现很大程度依赖于蓝宝石衬底的表面加工,化学机械抛光(CMP)是其目前最普遍的表面加工技术。CMP工艺中最关键耗材之一是抛光液,其性能直接影响加工后的表面质量。蓝宝石晶片根据用途不同可以沿着许多结晶轴切割,见图1,例如C面(0001向,也称为0度平面或基面)、A面(11-20方向,也称为90度蓝宝石)和R面(1-102方向,与C面成57.6度)。C面蓝宝石不具极性,所以最常用作LED衬底,在此基础上生长GaN磊晶。R面蓝宝石特别用于半导体、微波和压力< ...
【技术保护点】
一种适用于蓝宝石A面的化学机械抛光组合物,其特征在于,其由研磨颗粒、络合剂、表面活性剂、抑菌剂、无机碱和水组成;所述的研磨颗粒为二氧化硅、三氧化二铝或覆盖铝的二氧化硅高分子研磨颗粒中的一种或多种;研磨颗粒的含量为重量百分比5~50%;所述的络合剂为乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸钠盐、乙二胺四乙酸钾盐、羟乙基乙二胺、氨基三乙酸钠盐、氨基三乙酸钾盐中的一种或多种;络合剂的含量为重量百分比0.01~10%;所述的表面活性剂为月桂醇聚氧乙烯醚、仲醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚、十二烷基酚聚氧乙烯醚中的一种或多种;表面活性剂的含量为重量百分比0.01~5%;所述的抑菌剂为对羟基苯甲酸甲酯、羟乙基六氢均三嗪、三氯叔丁醇中的一种或几种;抑菌剂的含量为重量百分比0.001~1%所述的无机碱为氢氧化钠、氢氧化钾中的一种或两种;无机碱的含量为重量百分比0.1~10%;用水补足含量至重量百分比100%。
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种适用于蓝宝石A面的化学机械抛光组合物,其特征在于,其由研
磨颗粒、络合剂、表面活性剂、抑菌剂、无机碱和水组成;
所述的研磨颗粒为二氧化硅、三氧化二铝或覆盖铝的二氧化硅高分子研
磨颗粒中的一种或多种;研磨颗粒的含量为重量百分比5~50%;
所述的络合剂为乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸钠盐、乙二胺四乙酸钾盐、
羟乙基乙二胺、氨基三乙酸钠盐、氨基三乙酸钾盐中的一种或多种;络合剂
的含量为重量百分比0.01~10%;
所述的表面活性剂为月桂醇聚氧乙烯醚、仲醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧
乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚、十二烷基酚聚氧乙烯醚中的一种或多种;表面
活性剂的含量为重量百分比0.01~5%;
所述的抑菌剂为对羟基苯甲酸甲酯、羟乙基六氢均三嗪、三氯叔丁醇中
技术研发人员:何彦刚,牛新环,孙鸣,陈国栋,张玉峰,周建伟,刘玉岭,
申请(专利权)人:河北工业大学,
类型:发明
国别省市:天津;12
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