洗碟机制造技术

技术编号:12791161 阅读:75 留言:0更新日期:2016-01-28 22:14
根据本发明专利技术的一种洗碟机,包括:桶,该桶限定在其中清洗碟子的空间;集水器,该集水器容纳待供应到桶中的清洗水;和除垢溶液供应装置,该除垢溶液供应装置向集水器供应除垢溶液,其中除垢溶液供应装置包括:主流动路径,该主流动路径引导待供应到集水器的清洗水;溶液容纳单元,该溶液容纳单元容纳除垢剂并且具有溶液出口,在其中溶解有除垢剂的清洗水通过该溶液出口排放到主流动路径;溶液排放阀,该溶液排放阀打开和关闭溶液出口;和分支流动路径,该分支流动路径从主流动路径分支,将清洗水供应到溶液容纳单元中并且具有与大气连通的大气连通端口。

【技术实现步骤摘要】
【专利说明】洗碟机相关申请的交叉引用本申请要求于韩国知识产权局在2014年7月21日提交的韩国专利申请N0.10-2014-0092097和在2014年8月22日提交的韩国专利申请N0.10-2014-0109907的优先权,这两个专利的全部公开在此通过引用而被并入。
本专利技术涉及一种清洗机。
技术介绍
清洗机是一种使用水清洗待清洗的被污染物体的设备。作为清洗机,有用于清洗衣物诸如衣服或者铺盖的衣物清洗机(典型地称为洗衣机)和用于清洗碟子的洗碟机。具有60ppm或者更高硬度的清洗水通常称为硬水,并且当硬水被加热时,不可避免地形成了水垢。因为大多数的清洗机执行加热清洗水的过程,所以在其中硬水未被适当地处理的情形中,由于水垢的积聚,可以存在各种问题。需要供应适当量的除垢剂以便移除在清洗机中形成的水垢,但是因为与排泄水一起地从洗碟机排放了相当大的量的所形成的水垢,所以实际上需要的除垢剂的量是非常小的。需要准确地输入所需量的除垢剂,因为当供应过量的除垢剂时,可能发生产品可靠性的问题,并且当供应非常小的量的除垢剂时,移除水垢的性能可以劣化。然而,用户准确地测量除垢剂的需要量是困难的和非常不方便的。同时,当除垢剂具有对人危险的成分时,遗留在被完全清洗的物体上的除垢剂可能引起问题。特别地,在其中必要地并且经常地与人接触使用的待清洗的物体的情形中,这个问题变得严重,因为剩余除垢剂的成分对于人的健康具有不利的效果。因此,在其中存在在洗衣机或者洗碟机中遗留在待清洗的物体(衣物、碟子等)上的除垢剂将会被人吸收的可能性的情形中,需要使用对人无害的除垢剂。
技术实现思路
已经提出了本专利技术以试图提供一种具有防止水垢的形成并且移除所形成的水垢的功能的洗碟机。还已经提出了本专利技术以试图提供一种能够定量地供应除垢剂的洗碟机。还已经提出了本专利技术以试图提供一种即使供应到洗碟机的清洗水的压力改变仍然能够定量地供应除垢溶液的洗碟机。还已经提出了本专利技术以试图提供一种供应由对人无害的材料制成的除垢溶液的洗碟机。还已经提出了本专利技术以试图提供一种输入作为除垢剂的对人无害的有机酸的清洗机。还已经提出了本专利技术以试图提供一种能够自动地输入有机酸的清洗机。还已经提出了本专利技术以试图提供一种输入作为除垢剂的对人无害的有机酸的清洗机。还已经提出了本专利技术以试图提供一种能够自动地输入有机酸的清洗机。本专利技术的示例性实施例提供一种洗碟机,包括:桶,该桶限定在其中清洗碟子的空间;集水器,该集水器容纳待供应到桶中的清洗水;和除垢溶液供应装置,该除垢溶液供应装置向集水器供应除垢溶液,其中除垢溶液供应装置包括:主流动路径,该主流动路径引导待供应到集水器的清洗水;溶液容纳单元,该溶液容纳单元容纳除垢剂并且具有溶液出口,在其中溶解了除垢剂的清洗水通过该溶液出口排放到主流动路径;溶液排放阀,该溶液排放阀打开和关闭溶液出口 ;和分支流动路径,该分支流动路径从主流动路径分支,将清洗水供应到溶液容纳单元中,并且具有与大气连通的大气连通端口。分支流动路径可以包括:上游侧分支流动路径,该上游侧分支流动路径向上引导从主流动路径流入的清洗水;和下游侧分支流动路径,该下游侧分支流动路径向下引导被沿着上游侧分支流动路径引导的清洗水,并且当在其中溶液出口被溶液排放阀关闭的状态中将清洗水供应到溶液容纳单元中并且然后溶液容纳单元被清洗水填充之后切断通过分支流动路径的清洗水的供应时,在下游侧分支流动路径中的水位可以被通过大气连通端口施加的大气压力限制为预定高度。该洗碟机可以进一步包括中间流动路径,在流入到下游侧分支流动路径中的过程中从上游侧分支流动路径排放的清洗水经过该中间流动路径,其中在中间流动路径中形成大气连通端口。该洗碟机可以进一步包括水供应装置,该水供应装置向主流动路径供应清洗水,其中大气连通端口通过水供应装置与大气连通。在清洗水流入到溶液容纳单元中时,大气连通端口可以暴露于大气。上游侧分支流动路径的出口的面积可以小于下游侧分支流动路径的进口的面积。上游侧分支流动路径的出口的面积可以等于或者小于下游侧分支流动路径的进口的面积的 1/10。清洗水出口可以位于比下游侧分支流动路径中的水位被限制的高度低的位置处。主流动路径可以包括溶液融合路径,该溶液融合路径构造成向下引导清洗水并且然后向上引导清洗水。溶液出口可以位于溶液融合路径中。桶中的水位可以被限制为低于下游侧分支流动路径中的水位被限制的高度。可以在比下游侧分支流动路径中的水位被限制的高度低的位置处在桶中形成通过其排放清洗水的出口。除垢溶液供应装置可以包括:容纳单元主体,该容纳单元主体限定溶液容纳单元和主流动路径;和主体盖,该主体盖联接到容纳单元主体并且限定分支流动路径。溶液容纳单元可以在其上侧处敞开,并且主体盖可以覆盖溶液容纳单元的敞开的上侧。容纳单元主体和主体盖可以可分离地彼此联接。可以在主体盖中形成清洗水进口,清洗水通过该清洗水进口流入到主流动路径中。可以在主体盖中形成与溶液容纳单元连通的除垢剂输入开口,并且可以设置塞子以打开和关闭除垢剂输入开口。该洗碟机可以进一步包括残余量检测传感器,该残余量检测传感器检测在溶液容纳单元中的残余除垢剂的量。残余量检测传感器可以检测除垢溶液的浓度的改变。该洗碟机可以进一步包括:信息装置;和控制器,该控制器基于由残余量检测传感器检测的值确定用于补充除垢剂的时间并且控制信息装置以显示是时候补充除垢剂。该洗碟机可以进一步包括:隔板,该隔板将溶液容纳单元的内部划分成将除垢剂输入到其中的空间和在其中置放残余量检测传感器的空间,其中隔板具有通孔,该通孔以允许清洗水在该两个空间之间流动。除垢剂可以包括呈颗粒或者粉末形式的有机酸。有机酸可以包括选自如下组的一种或多种酸,该组由柠檬酸、苹果酸、酒石酸、醋酸、乳酸和蚁酸组成。该洗碟机可以进一步包括消毒装置,该消毒装置对被容纳在溶液容纳单元中的清洗水消毒。消毒装置可以将抗菌材料排放到清洗水中。消毒装置可以将紫外线发射到清洗水中。 该洗碟机可以进一步包括控制溶液排放阀的控制器。该控制器可以基于包括一系列过程的循环的执行次数来控制溶液排放阀使得溶液排放阀打开。控制器可以控制溶液排放阀使得每次实施包括一系列过程的循环时溶液排放阀均被打开。该洗碟机可以进一步包括:输入单元,该输入单元接收由用户选择的用于输入除垢剂的预定进程;和控制器,该控制器控制溶液排放阀使得当通过使用输入单元选择预定进程时在实施预定进程时打开溶液排放阀。输入单元可以将预定进程与清洗进程和漂洗进程分开地设置。该洗碟机可以进一步包括:硬度传感器,该硬度传感器检测从外部水源供应到除垢溶液供应装置的清洗水的硬度;和控制器,该控制器基于由硬度传感器检测的值设定通过除垢剂供应装置输入的有机酸的量。【附图说明】将参考以下附图详细描述实施例,在附图中,类似的附图标记指示类似的元件,其中:图1和2是示出根据本专利技术示例性实施例的清洗机的主要构造的框图;图3示出其中规定了在图1和2中示出的除垢剂供应装置的构造的一个示例性实施例;图4是示出作为根据本专利技术的清洗机的一个实例的一种洗碟机的透视图;图5是示出其中图4中的洗碟机的门打开的状态的视图;图6是示出图4中的洗碟机中的主要构造的视图;图7是示出在图6中示出的除垢溶液供应装置的透视图;图8本文档来自技高网...
洗碟机

【技术保护点】
一种洗碟机,包括:桶,所述桶限定了清洗碟子的空间;集水器,所述集水器容纳待供应到所述桶中的清洗水;和除垢溶液供应装置,所述除垢溶液供应装置向所述集水器供应除垢溶液,其中,所述除垢溶液供应装置包括:主流动路径,所述主流动路径引导待供应到所述集水器的清洗水;溶液容纳单元,所述溶液容纳单元容纳除垢剂并且具有溶液出口,溶解有所述除垢剂的清洗水通过所述溶液出口排放到所述主流动路径;溶液排放阀,所述溶液排放阀打开和关闭所述溶液出口;和分支流动路径,所述分支流动路径从所述主流动路径分支,将所述清洗水供应到所述溶液容纳单元中并且具有与大气连通的大气连通端口。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:周炳炫李钟敏李惟敏金希妍
申请(专利权)人:LG电子株式会社
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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