彩色滤光基板的制作方法技术

本发明专利技术提供一种彩色滤光基板的制作方法。本发明专利技术的彩色滤光基板的制作方法，在向子像素区域滴加量子点胶之前，利用正型光阻在黑色矩阵上形成光阻挡墙，以在滴加量子点胶时起到挡墙功能，并在实现挡墙功能之后将光阻挡墙去除，避免了现有彩色滤光基板的制作方法中由于挡墙高度过低造成量子点胶自由流动而导致的混色问题，以及由于挡墙高度过高造成液晶排布紊乱而导致的漏光问题，工艺简单，所制得的彩色滤光基板的平坦度较好。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种。
技术介绍
近年来，随着科技的发展，液晶显示器技术也随之不断完善。TFT-1XD(Thin FilmTransistor-Liquid Crystal Display，薄膜场效应晶体管-液晶显示器)以其图像显示品质好、能耗低、环保等优势占据着显示器领域的重要位置，但是其色彩很难覆盖完全的色域。近几年兴起的基于有机发光二极管(0LED)的显示技术也日益成熟，其构造简单，厚度薄，响应速度快，可以实现更加丰富的色彩。同时，随着量子点的诞生，量子点显示器也应运而生，由于量子点(Quantum Dots)发光波长范围极窄，颜色非常纯粹，还可实现精细调节，与目前的显示屏相比，新显示屏在大大提高了亮度和画面鲜艳度的同时，还减少了能耗。量子点(Quantum Dots，QDs)又可以称纳米晶，是一种由II 一 VI族或III 一 V族元素组成的纳米颗粒。量子点的粒径一般介于1?20nm之间，由于电子和空穴被量子限域，连续的能带结构变成具有分子特性的分立能级结构。因此，量子点受到蓝紫光激发后，可转换成高纯度的单色光，颜色可通过量子点的直径控制，应用于面板显示技术可有效地提高面板的色域，即色彩再现能力。目前量子点已被广泛应用于面板显示技术，用来提升显示面板的色域。其中，将量子点与光刻胶结合，制作成新型的彩色滤光片成为一种主流趋势。然而，量子点单价高，使用现有的黄光蚀刻技术制作量子点彩色滤光片的成本太高，因为量子点的利用率较低，而且量子点容易被光起始剂淬灭，失去光转换功能。因此，利用喷墨打印技术(Ink-JetPrinting，IJP)来制作量子点彩色滤光片被视为可行性最高的技术。请参阅图1至图3，IJP制程中，为了防止量子点胶300自由流动导致混色，一般需要用到挡墙。如图1所示，已有许多专利利用在基板100上形成黑色矩阵(Black Matrix,BM) 200、光阻间隔物(Photo Spacer，PS)、或者其他负型光阻作为挡墙，如图2所示，如果黑色矩阵200挡墙过低则易发生混色问题，如图3所示，如果黑色矩阵200挡墙过高则会影响到附近的液晶排布。因此，有必要提供一种，以解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种，可有效解决由于量子点胶自由流动导致的混色问题以及液晶排布紊乱导致的漏光问题，且所制得的彩色滤光基板的平坦度较好。为实现上述目的，本专利技术提供一种，包括如下步骤:步骤1、提供基板，在所述基板上形成黑色矩阵，所述黑色矩阵在所述基板上围出数个子像素区域；步骤2、在所述黑色矩阵及基板上涂布正型光阻，并对所述正型光阻进行光刻制程，形成位于所述黑色矩阵上的光阻挡墙；步骤3、提供量子点胶，将所述量子点胶分别滴入所述数个子像素区域；步骤4、对所述数个子像素区域内的量子点胶进行初步固化；步骤5、对所述光阻挡墙进行紫外光照射及显影制程，将所述光阻挡墙去除，并将所述数个子像素区域内的量子点胶固化，形成量子点层；步骤6、在所述基板、黑色矩阵、及量子点层表面涂布平坦层，从而完成彩色滤光基板的制作。所述步骤1中的基板为透明基板。所述步骤1中的数个子像素区域包括数个红色子像素区域、数个绿色子像素区域、及数个蓝色子像素区域。所述步骤3提供的量子点胶包括红色量子点胶、及绿色量子点胶；分别向所述红、绿色子像素区域滴入红色量子点胶、及绿色量子点胶，所述蓝色子像素区域保持空白。所述步骤5中的量子点层包括位于数个红色子像素区域内的数个红色量子点层、及位于数个绿色子像素区域内的数个绿色量子点层。所述彩色滤光基板与一蓝色背光源搭配使用，所述红色量子点层、及绿色量子点层在蓝色背光的激发下分别发出红光和绿光；所述蓝色背光直接透过蓝色子像素区域发出蓝光，从而实现红绿蓝三基色，进而实现彩色显示。所述步骤3通过喷墨打印工艺将所述量子点胶滴入所述数个子像素区域。所述步骤4利用真空干燥工艺或者预烘烤工艺将量子点胶中的溶剂去除以实现对量子点胶的初步固化。所述预烘烤工艺的温度为80?100°C。所述步骤5采用烘烤工艺对量子点胶进行固化。本专利技术的有益效果:本专利技术的，在向子像素区域滴加量子点胶之前，利用正型光阻在黑色矩阵上形成光阻挡墙，以在滴加量子点胶时起到挡墙功能，并在实现挡墙功能之后将光阻挡墙去除，避免了现有中由于挡墙高度过低造成量子点胶自由流动而导致的混色问题，以及由于挡墙高度过高造成液晶排布紊乱而导致的漏光问题，工艺简单，所制得的彩色滤光基板的平坦度较好。【附图说明】为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图中，图1为现有的的示意图；图2为现有的中量子点胶自由流动导致混色的示意图；图3为现有的彩色滤光基板导致液晶排布紊乱导致漏光的示意图；图4为本专利技术的的流程图；图5为本专利技术的的步骤1的示意图；图6为本专利技术的的步骤2的示意图；图7为本专利技术的的步骤3的示意图；图8为本专利技术的的步骤4的示意图；图9为本专利技术的的步骤5的示意图；图10为本专利技术的的步骤6的示意图。【具体实施方式】为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果，以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图4，本专利技术提供一种，包括如下步骤:步骤1、如图5所示，提供基板1，在所述基板1上形成黑色矩阵2，所述黑色矩阵2在所述基板1上围出数个子像素区域10。当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供基板(1)，在所述基板(1)上形成黑色矩阵(2)，所述黑色矩阵(2)在所述基板(1)上围出数个子像素区域(10)；步骤2、在所述黑色矩阵(2)及基板(1)上涂布正型光阻，并对所述正型光阻进行光刻制程，形成位于所述黑色矩阵(2)上的光阻挡墙(3)；步骤3、提供量子点胶(40)，将所述量子点胶(40)分别滴入所述数个子像素区域(10)；步骤4、对所述数个子像素区域(10)内的量子点胶(40)进行初步固化；步骤5、对所述光阻挡墙(3)进行紫外光照射及显影制程，将所述光阻挡墙(3)去除，并将所述数个子像素区域(10)内的量子点胶(40)固化，形成量子点层(400)；步骤6、在所述基板(1)、黑色矩阵(2)、及量子点层(400)表面涂布平坦层(5)，从而完成彩色滤光基板的制作。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：唐敏，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44